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1. 发明授权

US07426011B2 Method of calibrating a lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：校准光刻设备的方法和器件制造方法
公开(公告)号：US07426011B2
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：US11223209
申请日：2005-09-12
申请人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Antonius Johannes De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Folken Pen
发明人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Antonius Johannes De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Folken Pen
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to wafer cooling.
摘要翻译：在浸没光刻设备的叠加性能的校准中，从使用正反转的蜿蜒的曝光获得两组覆盖数据。然后可以使用两个数据集来消除由于晶片冷却引起的影响。

2. 发明授权

US07423725B2 Lithographic method 有权
标题翻译：平版印刷法
公开(公告)号：US07423725B2
公开(公告)日：2008-09-09
申请号：US11516050
申请日：2006-09-06
申请人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Antonius Johannes De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Folken Pen
发明人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Antonius Johannes De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Folken Pen
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70341 , G03F7/7045 , G03F7/70458
摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using, for example, normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to substrate cooling.
摘要翻译：在浸没式光刻设备的叠加性能的校准中，使用例如正常和反向蜿蜒进行的曝光获得两组覆盖数据。然后可以使用两个数据集来消除由于衬底冷却引起的影响。

3. 发明申请

US20080024748A1 Lithographic apparatus, method of calibrating a lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：光刻设备，校准光刻设备的方法和器件制造方法
公开(公告)号：US20080024748A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：US11494794
申请日：2006-07-28
申请人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Joost Jeroen Ottens , Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer , Antonius Johannes De Kort , Franciscus Van De Mast , Marteijn De Jong
发明人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Joost Jeroen Ottens , Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer , Antonius Johannes De Kort , Franciscus Van De Mast , Marteijn De Jong
IPC分类号： G03B27/58
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70516 , G03F7/70775
摘要： A lithographic apparatus includes a system to compensate for the effect of thermal distortion of the substrate table on position measurements of the substrate table using lateral mirrors in the substrate table. Methods of calibrating a lithographic apparatus using various substrate table scan trajectories and measurements of the localized position and rotation of lateral mirrors in the substrate table are presented. A dual stage lithographic apparatus with alignment marks defining the geometry of a lateral mirror used only at the exposure station to measure the geometry of the lateral mirror when the substrate table is at the measurement station.
摘要翻译：光刻设备包括一个系统，用于补偿衬底台的热变形对衬底台的位置测量的影响，使用衬底台中的侧视镜。提出了使用各种衬底台扫描轨迹校准光刻设备的方法以及衬底台中横向镜的局部位置和旋转的测量。具有对准标记的双级光刻设备，其限定仅在曝光站处使用的侧视镜的几何形状，以便当衬底台位于测量站时测量侧视镜的几何形状。

4. 发明授权

US07804582B2 Lithographic apparatus, method of calibrating a lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：光刻设备，校准光刻设备的方法和器件制造方法
公开(公告)号：US07804582B2
公开(公告)日：2010-09-28
申请号：US11494794
申请日：2006-07-28
申请人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Joost Jeroen Ottens , Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer , Antonius Johannes De Kort , Franciscus Van De Mast , Marteijn De Jong
发明人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal , Joost Jeroen Ottens , Judocus Marie Dominicus Stoeldraijer , Antonius Johannes De Kort , Franciscus Van De Mast , Marteijn De Jong
IPC分类号： G03B27/58
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70516 , G03F7/70775
摘要： A lithographic apparatus includes a system to compensate for the effect of thermal distortion of the substrate table on position measurements of the substrate table using lateral mirrors in the substrate table. Methods of calibrating a lithographic apparatus using various substrate table scan trajectories and measurements of the localized position and rotation of lateral mirrors in the substrate table are presented. A dual stage lithographic apparatus with alignment marks defining the geometry of a lateral mirror used only at the exposure station to measure the geometry of the lateral mirror when the substrate table is at the measurement station.
摘要翻译：光刻设备包括一个系统，用于补偿衬底台的热变形对衬底台的位置测量的影响，使用衬底台中的侧视镜。提出了使用各种衬底台扫描轨迹校准光刻设备的方法以及衬底台中横向镜的局部位置和旋转的测量。具有对准标记的双级光刻设备，其限定仅在曝光站处使用的侧视镜的几何形状，以便当衬底台位于测量站时测量侧视镜的几何形状。

5. 发明授权

US07652749B2 Software upgrades in a lithographic apparatus 失效
标题翻译：光刻设备中的软件升级
公开(公告)号：US07652749B2
公开(公告)日：2010-01-26
申请号：US11353231
申请日：2006-02-14
申请人： Andre Bernardus Jeunink , Antonius Johannes De Kort
发明人： Andre Bernardus Jeunink , Antonius Johannes De Kort
IPC分类号： G03B27/42 , G03B27/32
CPC分类号： G03F7/70508
摘要： The present invention relates to the activation of a software upgrade in a lithographic apparatus that transfers a pattern onto a substrate. The time and date of the activation of a software upgrade is compared with the time and date of the exposure of the first layer of a substrate or of a “lot” of substrates. If the activation date and time is later than the first exposure date and time, software-functionality types is not mixed on a single lot or substrate and the old software-functionality is used for that lot or substrate. If, on the other hand, the activation date and time of the software-functionality update is earlier than the first exposure of the lot or substrate, the lot or substrate has not yet been affected by the old software-functionality and the new, updated software-functionality may be used to control the pattern transfer onto all of the substrate layers.
摘要翻译：本发明涉及在将图案传送到基板上的光刻设备中的软件升级的激活。将软件升级的激活的时间和日期与基板的第一层或“批次”的基板的曝光的时间和日期进行比较。如果激活日期和时间晚于第一个曝光日期和时间，则软件功能类型不会在单个批次或基板上混合，并且旧的软件功能用于该批次或基板。另一方面，如果软件功能更新的激活日期和时间早于批次或基板的首次曝光，则批次或底板尚未受旧软件功能的影响，新的更新可以使用软件功能来控制图案转移到所有的基底层上。

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