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    • 1. 发明授权
    • Glass material for molding optical elements
    • 用于模制光学元件的玻璃材料
    • US5622904A
    • 1997-04-22
    • US396082
    • 1995-02-28
    • Katsuyuki OhkuboTomoaki SugawaraHiroyuki EndouHiroshi UenoAkihito Minato
    • Katsuyuki OhkuboTomoaki SugawaraHiroyuki EndouHiroshi UenoAkihito Minato
    • C03C4/00C03C23/00C03C3/04B28B7/34
    • C03C23/00C03C23/007C03C23/008
    • A glass material for molding an optical element and including lead and a lead compound is processed chemically and physically and includes a modificative ion component set such that an atomic concentration of the modificative ion component in a range of 600 angstroms from a glass surface layer has a concentration gradient approximated by a curve represented by the following formula (1). ##EQU1## wherein, reference numeral Y designates an atomic concentration of a modificative ion shown by atomic percent. Reference numeral X designates a depth from an uppermost glass surface layer. Each of coefficients A0 to A10 is set to a constant. Symbol 0 designates a power. Reference numeral e(x) designates an error component.
    • 用于模制光学元件并且包括铅和铅化合物的玻璃材料被化学和物理地加工,并且包括改性离子组分,使得从玻璃表面层的600埃范围内的改性离子组分的原子浓度具有 浓度梯度由下式(1)表示的曲线近似。 Y = A0 + A1 x X + A2 x X + E,cir + EE 2 + A3 x X + E,cir + EE 3 +(1)A4 x X + E,cir + EE 4 + A5 x X + cir + EE 5 + A6 x X + E,cir + EE 6 + A7 x X + E,cir + EE 7 + A8 x X + E,cir + EE 8 + + TR A9 x X + E,cir + EE 9 + A10×X + E,cir + EE10 + e(x)其中,Y表示原子百分比表示的改性离子的原子浓度。 附图标记X表示从最上面的玻璃表面层的深度。 系数A0至A10中的每一个被设置为常数。 符号+ E,cir 0 + EE表示一个电源。 附图标记e(x)表示误差分量。