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    • 5. 发明申请
    • Method for forming pattern and method for fabricating LCD device using the same
    • 用于形成图案的方法和使用其制造LCD装置的方法
    • US20070148603A1
    • 2007-06-28
    • US11640985
    • 2006-12-19
    • Hye LeeJae Oh
    • Hye LeeJae Oh
    • G03F7/26
    • G03F7/0007G02F1/133512G02F1/133516G03F7/11G03F7/42
    • A method for forming a pattern and a method for fabricating an LCD device using the same is disclosed, wherein a photoresist layer is removed from a substrate without using a photoresist stripper, so that the pattern is formed with a low fabrication costs. The method comprising sequentially forming a pattern material layer, a transformed material layer and a photoresist layer on a substrate; patterning the photoresist layer by exposure and development using a mask; selectively etching the transformed material layer and the pattern material layer by using the patterned photoresist layer as a mask; and removing the transformed material layer and the patterned photoresist layer in a lift-off method by applying light.
    • 公开了一种用于形成图案的方法和使用该图案的LCD器件的制造方法,其中在不使用光致抗蚀剂剥离器的情况下从衬底去除光致抗蚀剂层,从而以低制造成本形成图案。 该方法包括在衬底上依次形成图案材料层,变形材料层和光致抗蚀剂层; 通过使用掩模的曝光和显影来图案化光致抗蚀剂层; 通过使用图案化的光致抗蚀剂层作为掩模来选择性地蚀刻变形材料层和图案材料层; 以及通过施加光而以剥离方法去除转化的材料层和图案化的光致抗蚀剂层。