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1. 发明授权

US08833298B2 Film forming apparatus 有权
标题翻译：成膜装置
公开(公告)号：US08833298B2
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：US13537597
申请日：2012-06-29
申请人： Izumi Sato , Isao Shiratani , Satoshi Asari , Tsuyoshi Murakami
发明人： Izumi Sato , Isao Shiratani , Satoshi Asari , Tsuyoshi Murakami
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/00 , B05C11/00
CPC分类号： C23C16/44 , B05C11/00 , C23C16/00
摘要： A film forming apparatus includes a substrate holding unit holding substrates at intervals; a reaction chamber accommodating the substrate holding unit; a raw material gas supply pipe supplying a raw material gas of a thin film to the substrate; a support unit supporting the reaction chamber; a heating unit being disposed outside the reaction chamber and heating the substrates; a protection pipe including one end portion fixed to the support unit, being extended along an arrangement direction of the substrates between the substrate holding unit and the reaction chamber, and including a temperature measuring unit inserted therein; and a protrusion portion being provided on at least one of an outer surface of the protection pipe and an inner surface of the reaction chamber, and providing a gap between the outer surface of the protection pipe and the inner surface of the reaction chamber.
摘要翻译：一种成膜设备包括：一个保持基板的基板保持单元; 容纳所述基板保持单元的反应室; 原料气体供给管，其向所述基板供给薄膜的原料气体; 支撑反应室的支撑单元; 加热单元设置在反应室外部并加热基板; 保护管，其包括固定到所述支撑单元的一个端部，沿着所述基板保持单元和所述反应室之间的所述基板的排列方向延伸，并且包括插入其中的温度测量单元; 并且在所述保护管的外表面和所述反应室的内表面中的至少一个上设置有突起部，并且在所述保护管的外表面和所述反应室的内表面之间设置间隙。

2. 外观设计

USD616391S1 Pedestal of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
公开(公告)号：USD616391S1
公开(公告)日：2010-05-25
申请号：US29342850
申请日：2009-09-02
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

3. 外观设计

USD601979S1 Pedestal base of a heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
标题翻译：用于制造半导体晶片的绝热筒的基座
公开(公告)号：USD601979S1
公开(公告)日：2009-10-13
申请号：US29309697
申请日：2008-09-26
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

4. 外观设计

USD600220S1 Heat radiation fin of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
标题翻译：用于制造半导体晶片的隔热圆柱体的散热片
公开(公告)号：USD600220S1
公开(公告)日：2009-09-15
申请号：US29309698
申请日：2008-09-26
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

5. 外观设计

USD579885S1 Upper heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
标题翻译：用于制造半导体晶片的上绝热筒
公开(公告)号：USD579885S1
公开(公告)日：2008-11-04
申请号：US29272821
申请日：2007-02-20
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

6. 发明授权

US5563608A Position measuring system and method therefor 失效
标题翻译：位置测量系统及其方法
公开(公告)号：US5563608A
公开(公告)日：1996-10-08
申请号：US281215
申请日：1994-07-27
申请人： Ryobun Tachita , Ken Ikeda , Akihisa Kawasaki , Izumi Sato
发明人： Ryobun Tachita , Ken Ikeda , Akihisa Kawasaki , Izumi Sato
IPC分类号： G01C21/30 , G01S1/00 , G01S5/14 , G01S19/29 , H04B7/185 , G01S5/02
CPC分类号： G01S19/13 , G01C21/30 , G01S19/42
摘要： In a position measuring system, a position of a moving body is derived when data is sufficient for such derivation. On the other hand, when data is insufficient for such derivation, an area which may include the position of the moving body is derived. Accordingly, a user correctly evaluates reliability of information which is displayed. In a position measuring method, a measurement error of the derived position is evaluated. Further, a moving error evaluation is performed to evaluate an increase of the error. By changing the measurement error of the derived position, the area which includes the position of the moving body with high reliability can be displayed to the user.
摘要翻译：在位置测量系统中，当数据足够用于这种推导时，导出移动体的位置。另一方面，当这种推导的数据不足时，导出可包括移动体的位置的区域。因此，用户正确评估所显示的信息的可靠性。在位置测量方法中，评估导出位置的测量误差。此外，执行移动误差评估以评估误差的增加。通过改变导出位置的测量误差，可以向使用者显示包括移动体的高可靠性位置的区域。

7. 发明授权

US5103965A Transfer method and device and driving system therefor for transfer presses 失效
标题翻译：用于传送压力的传送方法和装置和驱动系统
公开(公告)号：US5103965A
公开(公告)日：1992-04-14
申请号：US545000
申请日：1990-06-28
申请人： Yoshio Takahashi , Mitsuo Sudo , Takamasa Arikawa , Kenji Nakamura , Izumi Sato , Katsuyuki Onogi , Takao Iura , Nobuji Ishida
发明人： Yoshio Takahashi , Mitsuo Sudo , Takamasa Arikawa , Kenji Nakamura , Izumi Sato , Katsuyuki Onogi , Takao Iura , Nobuji Ishida
IPC分类号： B21D43/05
CPC分类号： B21D43/052 , B21D43/05 , B21D43/055
摘要： A trolley is reciprocally moved along a guide. A work support, supported by the trolley, is vertically moved so that the lift mechanism can be made of a compact size, a light weight and highly reliable in operation thereby increasing the processing speed of the processing line and improving productivity.

8. 外观设计

USD616394S1 Support of wafer boat for manufacturing semiconductor wafers 有权
公开(公告)号：USD616394S1
公开(公告)日：2010-05-25
申请号：US29342854
申请日：2009-09-02
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

9. 外观设计

USD616393S1 Heat radiation fin of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
公开(公告)号：USD616393S1
公开(公告)日：2010-05-25
申请号：US29342853
申请日：2009-09-02
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

10. 外观设计

USD616392S1 Heat radiation fin of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers 有权
标题翻译：用于制造半导体晶片的隔热圆柱体的散热片
公开(公告)号：USD616392S1
公开(公告)日：2010-05-25
申请号：US29342852
申请日：2009-09-02
申请人： Izumi Sato
设计人： Izumi Sato

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