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1. 发明授权

US08721917B2 Polishing of sapphire with composite slurries 有权
标题翻译：用复合浆料抛光蓝宝石
公开(公告)号：US08721917B2
公开(公告)日：2014-05-13
申请号：US12286960
申请日：2008-10-03
申请人： Isaac K. Cherian , Abhaya K. Bakshi
发明人： Isaac K. Cherian , Abhaya K. Bakshi
IPC分类号： C09K13/00
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02
摘要： Improved slurry compositions comprising a mixture of a first type of particles and a second type of abrasive particles dispersed within an aqueous medium, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, particularly abrasive slurry compositions for polishing of sapphire. These abrasive slurry compositions comprise a mixture of a first type of abrasive particles having a hardness that is harder than the surface being polished and a second type of abrasive particles have a hardness that is softer than the surface being polished, particularly mixtures of silicon carbide abrasive particles and silica abrasive particles, dispersed within an aqueous medium.
摘要翻译：改进的浆料组合物，其包含第一类型的颗粒和分散在水性介质中的第二类型磨料颗粒的混合物，以及用于使用化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物，特别是用于抛光蓝宝石的磨料浆料组合物。这些磨料浆料组合物包含第一类磨料颗粒的混合物，该磨料颗粒的硬度比待抛光的表面硬，并且第二类磨料颗粒具有比被抛光表面更硬的硬度，特别是碳化硅磨料的混合物颗粒和二氧化硅磨料颗粒分散在水性介质中。

2. 发明申请

US20090101625A1 Silicon carbide particles, methods of fabrication, and methods using same 有权
标题翻译：碳化硅颗粒，制造方法和使用它们的方法
公开(公告)号：US20090101625A1
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：US12286979
申请日：2008-10-03
申请人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
发明人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
IPC分类号： B44C1/22 , C09K3/14 , H01L21/304 , C01B31/36
CPC分类号： C09K3/1436 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/62807 , C04B35/62889 , C04B35/62892 , C04B2235/3878 , C04B2235/3882 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
摘要： Improved silicon carbide particles, improved silicon carbide abrasive particles, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes. The particles can comprise nano-sized silicon carbide particles, particularly silicon carbide particles having a surface chemistry similar to silica.
摘要翻译：改进的碳化硅颗粒，改进的碳化硅磨料颗粒和用于化学机械平面化（CMP）工艺的研磨浆料组合物。颗粒可以包括纳米尺寸的碳化硅颗粒，特别是具有类似于二氧化硅的表面化学结构的碳化硅颗粒。

3. 发明申请

US20090104851A1 Polishing of sapphire with composite slurries 有权
标题翻译：用复合浆料抛光蓝宝石
公开(公告)号：US20090104851A1
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：US12286960
申请日：2008-10-03
申请人： Isaac K. Cherian , Abhaya K. Bakshi
发明人： Isaac K. Cherian , Abhaya K. Bakshi
IPC分类号： B24B7/20 , C09K3/14 , B24B1/00
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02
摘要： Improved slurry compositions comprising a mixture of a first type of particles and a second type of abrasive particles dispersed within an aqueous medium, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, particularly abrasive slurry compositions for polishing of sapphire. These abrasive slurry compositions comprise a mixture of a first type of abrasive particles having a hardness that is harder than the surface being polished and a second type of abrasive particles have a hardness that is softer than the surface being polished, particularly mixtures of silicon carbide abrasive particles and silica abrasive particles, dispersed within an aqueous medium.
摘要翻译：改进的浆料组合物，其包含第一类型的颗粒和分散在水性介质中的第二类型磨料颗粒的混合物，以及用于使用化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物，特别是用于抛光蓝宝石的磨料浆料组合物。这些磨料浆料组合物包含第一类磨料颗粒的混合物，该磨料颗粒的硬度比待抛光的表面硬，并且第二类磨料颗粒具有比被抛光表面更硬的硬度，特别是碳化硅磨料的混合物颗粒和二氧化硅磨料颗粒分散在水性介质中。

4. 发明授权

US09120960B2 Composite slurries of nano silicon carbide and alumina 有权
公开(公告)号：US09120960B2
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：US12286980
申请日：2008-10-03
申请人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
发明人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436
摘要： Improved slurry compositions comprising silicon carbide particles and alumina particles dispersed within an aqueous medium. Slurry compositions in the form of abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, particularly abrasive slurry compositions for polishing of sapphire, and methods of use.

5. 发明授权

US08815396B2 Abrasive particles comprising nano-sized silicon carbide particles surface-coated with silica, and methods using same 有权
标题翻译：包含用二氧化硅表面涂覆的纳米尺寸碳化硅颗粒的磨料颗粒和使用其的方法
公开(公告)号：US08815396B2
公开(公告)日：2014-08-26
申请号：US12286979
申请日：2008-10-03
申请人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
发明人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
IPC分类号： B32B5/16 , B24D18/00 , C09C1/28
CPC分类号： C09K3/1436 , B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/62807 , C04B35/62889 , C04B35/62892 , C04B2235/3878 , C04B2235/3882 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
摘要： Improved silicon carbide particles, improved silicon carbide abrasive particles, and abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes. The particles can comprise nano-sized silicon carbide particles, particularly silicon carbide particles having a surface chemistry similar to silica.
摘要翻译：改进的碳化硅颗粒，改进的碳化硅磨料颗粒和用于化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物。颗粒可以包括纳米尺寸的碳化硅颗粒，特别是具有类似于二氧化硅的表面化学结构的碳化硅颗粒。

6. 发明申请

US20090098807A1 Composite slurries of nano silicon carbide and alumina 有权
标题翻译：纳米碳化硅和氧化铝的复合浆料
公开(公告)号：US20090098807A1
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：US12286980
申请日：2008-10-03
申请人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
发明人： Abhaya K. Bakshi , Isaac K. Cherian
IPC分类号： B24B7/20 , C09G1/02 , B24B29/02
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436
摘要： Improved slurry compositions comprising silicon carbide particles and alumina particles dispersed within an aqueous medium. Slurry compositions in the form of abrasive slurry compositions for use chemical mechanical planarization (CMP) processes, particularly abrasive slurry compositions for polishing of sapphire, and methods of use.
摘要翻译：包括分散在水性介质中的碳化硅颗粒和氧化铝颗粒的改进的浆料组合物。用于使用化学机械平面化（CMP）工艺的磨料浆料组合物形式的淤浆组合物，特别是用于抛光蓝宝石的磨料浆料组合物和使用方法。

7. 发明授权

US07690968B2 Aqueous fluid compositions for abrasive slurries, methods of production, and methods of use thereof 有权
标题翻译：用于磨料浆料的水性液体组合物，生产方法及其使用方法
公开(公告)号：US07690968B2
公开(公告)日：2010-04-06
申请号：US11897550
申请日：2007-08-29
申请人： Abhaya K. Bakshi , Jason A. Sherlock
发明人： Abhaya K. Bakshi , Jason A. Sherlock
IPC分类号： B24B1/00
CPC分类号： B28D5/007 , C09K3/1463 , C09K5/10 , Y02P70/179
摘要： Aqueous slurry compositions for use in loose-abrasive machining processes, particularly aqueous abrasive slurries for use in wire saw processes. These aqueous slurry compositions comprise abrasive particles uniformly and stably dispersed in lubricant, which comprises a combination of a vehicle and water, particularly PEG and water.
摘要翻译：用于松散磨料加工工艺的水性浆料组合物，特别是用于线锯工艺的含水磨料浆料。这些含水浆料组合物包含均匀且稳定地分散在润滑剂中的磨料颗粒，其包含载体和水，特别是PEG和水的组合。

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