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    • 6. 发明授权
      US5512411A Sulfonyl hydrazide developers for photothermographic and thermographic 失效
    • Sulfonyl hydrazide developers for photothermographic and thermographic
    • 用于光热照相和热成像的磺酰肼显影剂
    • US5512411A
    • 1996-04-30
    • US517380
    • 1995-08-21
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Paul G. Skoug
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Paul G. Skoug
    • G03C8/40 , B41M5/333 , G03C1/498 , G03F1/00
    • G03C1/49827 , B41M5/3333 , G03C1/061 , G03C1/4989
    • Sulfonyl hydrazides are used as developers in phothothermographic and thermographic elements. The sulfonyl hydrazides have the formula:R.sup.1 --CO--NHNH--SO.sub.2 --R.sup.2wherein R.sup.1 and R.sup.2 may be each independently selected from the group consisting of alkyl and alkenyl groups of up to 20 carbon atoms, preferably alkyl and alkenyl of up to 10 carbon atoms, more preferably alkyl and alkenyl groups of up to 5 carbon atoms; alkoxy groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably of up to 5 carbon atoms; aryl, alkaryl, and aralkyl groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably up to 6 carbon atoms; aryloxy groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably of up to 6 carbon atoms; non-aromatic and aromatic heterocyclic ring groups containing up to 6 ring atoms; alicyclic ring groups containing up to 6 ring carbon atoms; and fused ring and bridging groups comprising up to 14 ring atoms.The photothermographic and thermographic elements the present invention may be used as a photomaks in a process where there is a subsequent exposure of an ultraviolet radiation sensitive imageable medium.
    • 磺酰肼用作光热敏成像和热成像元件中的显影剂。 磺酰肼具有下式：R1-CO-NHNH-SO2-R2，其中R1和R2可以各自独立地选自由至多20个碳原子的烷基和烯基组成的组，优选至多10个碳原子的烷基和链烯基 原子，更优选至多5个碳原子的烷基和链烯基; 优选至多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选至多5个碳原子的烷氧基; 最多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选最多6个碳原子的芳基，烷芳基和芳烷基; 最多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选至多6个碳原子的芳氧基; 含有至多6个环原子的非芳族和芳族杂环基团; 含有多达6个环碳原子的脂环族基团; 以及包含至多14个环原子的稠合环和桥连基团。 本发明的光热敏照相和热成像元件可以在随后暴露紫外线照射敏感成像介质的过程中用作光敏元件。
    • 基本信息 添加关注 加入工作空间 PDF全文 PDF下载 全文下载 相似专利 双屏查看 权利要求书 说明书全文 Global Dossier Espacenet 法律信息 同族专利 专利引用
    • 7. 发明授权
      US06368779B1 High speed photothermographic materials and methods of making and using same 失效
    • High speed photothermographic materials and methods of making and using same
    • 高速光热成像材料及其制作与使用方法
    • US06368779B1
    • 2002-04-09
    • US09667748
    • 2000-09-21
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Steven M. Shor , Brian C. Willett , Chaofeng Zou
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Steven M. Shor , Brian C. Willett , Chaofeng Zou
    • G03C1498
    • G03C1/49845 , G03C1/49827 , G03C1/49881 , Y10S430/145
    • Photothermographic materials have increased photospeed provided by certain organic solvent-soluble thiourea compounds that can be represented by the following Structure I, II, or III: wherein in Structure I, R1, R2, R3 and R4 are independently alkyl, cycloalkyl, allyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic groups, or R1 and R2 taken together, R3 and R4 taken together, R1 and R3 taken together or R2 and R4 taken together, can form a 5- to 7-membered heterocyclic ring, in Structure II, R1, R2, R3, R4 and R5 are independently alkyl, cycloalkyl, allyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic groups, or R3 and R5 taken together, R4 and R5 taken together, R1 and R3 taken together or R2 and R4 taken together, can form a substituted or unsubstituted 5- to 7-membered heterocyclic ring, and in Structure III, R1, R2, R3, R4, R5, and R6 are independently alkyl, cycloalkyl, allyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic groups, or R3 and R6 taken together, R4 and R5 taken together, R1 and R3 taken together, R2 and R4 taken together, or R5 and R6 taken together, can form a substituted or unsubstituted 5- to 7-membered heterocyclic ring, and R7 is a divalent aliphatic or alicyclic linking group. In addition, the speed increasing compounds represented by Structure I do not require a heat activation step at 30° C. or higher temperature for at least 5 minutes and have a pKa of at least 7. Compounds of Structure I are also free of exocyclic carbon-carbon double bonds and nucleophilic groups.
    • 光热成像材料具有增加的某些有机溶剂可溶性硫脲化合物提供的感光速度，其可由以下结构I，II或III表示：其中在结构I中，R1，R2，R3和R4独立地为烷基，环烷基，烯丙基，烯基 ，炔基，芳基或杂环基，或者R 1和R 2一起，R 3和R 4一起，R 1和R 3一起或者R 2和R 4一起可以形成5-至7-元杂环，在结构II中，R 1 ，R 2，R 3，R 4和R 5独立地是烷基，环烷基，烯丙基，烯基，炔基，芳基或杂环基，或者R 3和R 5一起，R 4和R 5一起，R 1和R 3一起或者R 2和R 4一起， 可以形成取代或未取代的5-至7-元杂环，并且在结构III中，R 1，R 2，R 3，R 4，R 5和R 6独立地为烷基，环烷基，烯丙基，烯基，炔基，芳基或杂环基，或 R3和R6组合在一起，R4和R5组合在一起，R1和R3被取代 取代基，R 2和R 4一起，或者R 5和R 6一起形成取代或未取代的5至7元杂环，并且R 7是二价脂族或脂环连接基团。 此外，由结构I表示的速度增加化合物不需要在30℃或更高温度下进行至少5分钟的热活化步骤，并且pKa至少为7.结构I的化合物也不含环外碳 碳双键和亲核基团。
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    • 8. 发明授权
      US5464738A Sulfonyl hydrazide developers for photothermographic and thermographic elements 失效
    • Sulfonyl hydrazide developers for photothermographic and thermographic elements
    • 用于光热照相和热成像元素的磺酰基酰肼显影剂
    • US5464738A
    • 1995-11-07
    • US369738
    • 1995-01-06
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Paul G. Skoug
    • Doreen C. Lynch , Sharon M. Simpson , Paul G. Skoug
    • G03C8/40 , B41M5/333 , G03C1/498
    • G03C1/49827 , B41M5/3333 , G03C1/061 , G03C1/4989
    • Sulfonyl hydrazides are used as developers in phothothermographic and thermographic elements. The sulfonyl hydrazides have the formula:R.sup.1 --CO--NHNH--SO.sub.2 --R.sup.2wherein R.sup.1 and R.sup.2 may be each independently selected from the group consisting of alkyl and alkenyl groups of up to 20 carbon atoms, preferably alkyl and alkenyl of up to 10 carbon atoms, more preferably alkyl and alkenyl groups of up to 5 carbon atoms; alkoxy groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably of up to 5 carbon atoms; aryl, alkaryl, and aralkyl groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably up to 6 carbon atoms; aryloxy groups of up to 20 carbon atoms, preferably of up to 10 carbon atoms, and more preferably of up to 6 carbon atoms; non-aromatic and aromatic heterocyclic ring groups containing up to 6 ring atoms; alicyclic ring groups containing up to 6 ring carbon atoms; and fused ring and bridging groups comprising up to 14 ring atoms.The photothermographic and thermographic elements the present invention may be used as a photomaks in a process where there is a subsequent exposure of an ultraviolet radiation sensitive imageable medium.
    • 磺酰肼用作光热敏成像和热成像元件中的显影剂。 磺酰肼具有下式：R1-CO-NHNH-SO2-R2，其中R1和R2可以各自独立地选自由至多20个碳原子的烷基和烯基组成的组，优选至多10个碳原子的烷基和链烯基 原子，更优选至多5个碳原子的烷基和链烯基; 优选至多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选至多5个碳原子的烷氧基; 最多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选最多6个碳原子的芳基，烷芳基和芳烷基; 最多20个碳原子，优选至多10个碳原子，更优选至多6个碳原子的芳氧基; 含有至多6个环原子的非芳族和芳族杂环基团; 含有多达6个环碳原子的脂环族基团; 以及包含至多14个环原子的稠合环和桥连基团。 本发明的光热敏照相和热成像元件可以在随后暴露紫外线照射敏感成像介质的过程中用作光敏元件。
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