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热词
    • 8. 发明申请
    • TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDES
    • 透明导电氧化物
    • US20140332371A1
    • 2014-11-13
    • US14282832
    • 2014-05-20
    • DEMARAY, LLC
    • R. Ernest DemarayMukundan Narasimhan
    • H01B13/00C23C14/00C23C14/08
    • H01B13/0026C23C14/0036C23C14/0042C23C14/086
    • A method of deposition of a transparent conductive film from a metallic target is presented. A method of forming a transparent conductive oxide film according to embodiments of the present invention include depositing the transparent conductive oxide film in a pulsed DC reactive ion process with substrate bias, and controlling at least one process parameter to affect at least one characteristic of the conductive oxide film. The resulting transparent oxide film, which in some embodiments can be an indium-tin oxide film, can exhibit a wide range of material properties depending on variations in process parameters. For example, varying the process parameters can result in a film with a wide range of resistive properties and surface smoothness of the film.
    • 提出了一种从金属靶沉积透明导电膜的方法。 根据本发明的实施方案的形成透明导电氧化物膜的方法包括在具有衬底偏压的脉冲DC反应离子过程中沉积透明导电氧化物膜,并且控制至少一个工艺参数以影响导电的至少一个特性 氧化膜。 所得到的透明氧化物膜(在一些实施方案中可以是铟锡氧化物膜)可以根据工艺参数的变化显示宽范围的材料性质。 例如,改变工艺参数可以产生具有宽范围的电阻性质和膜的表面平滑度的膜。