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    • 8. 发明申请
    • METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING ELECTRON BEAM CONDITION OF SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
    • 用于监测扫描电子显微镜电子束条件的方法和装置
    • US20140117218A1
    • 2014-05-01
    • US13756148
    • 2013-01-31
    • BoXiu CAIYi HUANG
    • BoXiu CAIYi HUANG
    • H01J37/26
    • H01J37/265H01J37/263H01J2237/24514H01J2237/2826
    • A method and an apparatus for monitoring an electron beam condition of an SEM are provided. The SEM includes an electron gun and an electromagnetic lens system. The method includes acquiring quality parameters of an input electron beam, wherein the input electron beam is provided by the electron gun to the electromagnetic lens system, acquiring a current set of operation parameters of the electromagnetic lens system, calculating quality parameters of an output electron beam of the electromagnetic lens system, based on the quality parameters of the input electron beam and one or more operation parameters of the current set of operation parameters, and determining, based on the quality parameters of the output electron beam, whether calibration of the SEM is required.
    • 提供了一种用于监测SEM的电子束条件的方法和装置。 SEM包括电子枪和电磁透镜系统。 该方法包括获取输入电子束的质量参数,其中输入电子束由电子枪提供给电磁透镜系统,获取电磁透镜系统的当前一组操作参数,计算输出电子束的质量参数 基于输入电子束的质量参数和当前操作参数组的一个或多个操作参数,并且基于输出电子束的质量参数确定SEM的校准是否为 需要。