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1. 发明申请

US20100075238A1 Variable Resist Protecting Groups 有权
标题翻译：可变电阻保护组
公开(公告)号：US20100075238A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：US12561001
申请日：2009-09-16
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/54
CPC分类号： G03B27/54 , G03F7/095 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.
摘要翻译：描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

2. 发明授权

US08568964B2 Flood exposure process for dual tone development in lithographic applications 有权
标题翻译：光刻应用中双音发展的泛滥暴露过程
公开(公告)号：US08568964B2
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：US12430203
申请日：2009-04-27
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/095 , G03F7/70466
摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual tone development process is described. The method and system comprise a flood exposure of the substrate to improve process latitude for the dual tone development process.
摘要翻译：描述了使用双色调显影处理来图案化衬底的方法和系统。该方法和系统包括基底的暴露以提高双音发展过程的过程纬度。

3. 发明授权

US08129080B2 Variable resist protecting groups 有权
标题翻译：可变抗蚀剂保护基
公开(公告)号：US08129080B2
公开(公告)日：2012-03-06
申请号：US12561001
申请日：2009-09-16
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03B27/54 , G03F7/095 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.
摘要翻译：描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

4. 发明授权

US07829269B1 Dual tone development with plural photo-acid generators in lithographic applications 有权
标题翻译：在光刻应用中具有多个光酸发生器的双音发展
公开(公告)号：US07829269B1
公开(公告)日：2010-11-09
申请号：US12564755
申请日：2009-09-22
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/095 , G03F7/70466
摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual tone development process is described. The method comprises use of plural photo-acid generators with or without a flood exposure of the substrate to improve process latitude for the dual tone development process.
摘要翻译：描述了使用双色调显影处理来图案化衬底的方法和系统。该方法包括使用具有或不具有衬底的暴露的多个光酸发生器来改善双音发展过程的处理范围。

5. 发明申请

US20100119960A1 Dual Tone Development Processes 有权
标题翻译：双音发展过程
公开(公告)号：US20100119960A1
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：US12560873
申请日：2009-09-16
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/095 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.
摘要翻译：描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

6. 发明申请

US20100068654A1 METHOD FOR CREATING GRAY-SCALE FEATURES FOR DUAL TONE DEVELOPMENT PROCESSES 有权
标题翻译：用于创建双色调开发过程的灰度特征的方法
公开(公告)号：US20100068654A1
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：US12334852
申请日：2008-12-15
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G06G7/48
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F5/16 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.
摘要翻译：描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。

7. 发明授权

US08283111B2 Method for creating gray-scale features for dual tone development processes 有权
标题翻译：为双音发展过程创建灰度特征的方法
公开(公告)号：US08283111B2
公开(公告)日：2012-10-09
申请号：US12334852
申请日：2008-12-15
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F5/16 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.
摘要翻译：描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。

8. 发明授权

US08257911B2 Method of process optimization for dual tone development 有权
标题翻译：双音发展的过程优化方法
公开(公告)号：US08257911B2
公开(公告)日：2012-09-04
申请号：US12198853
申请日：2008-08-26
申请人： Roel Gronheid , Sophie Bernard , Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Roel Gronheid , Sophie Bernard , Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2022 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要： A method for patterning a substrate is described. In particular, the invention relates to a method for double patterning a substrate using dual tone development. Further, the invention relates to optimizing a dual tone development process.
摘要翻译：描述了用于图案化衬底的方法。特别地，本发明涉及一种使用双音发展对基片进行双重图案化的方法。此外，本发明涉及优化双音发展过程。

9. 发明申请

US20100055625A1 METHOD OF PROCESS OPTIMIZATION FOR DUAL TONE DEVELOPMENT 有权
标题翻译：双音发展过程优化方法
公开(公告)号：US20100055625A1
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：US12198853
申请日：2008-08-26
申请人： Roel Gronheid , Sophie Bernard , Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
发明人： Roel Gronheid , Sophie Bernard , Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2022 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要： A method for patterning a substrate is described. In particular, the invention relates to a method for double patterning a substrate using dual tone development. Further, the invention relates to optimizing a dual tone development process.
摘要翻译：描述了用于图案化衬底的方法。特别地，本发明涉及一种使用双音发展对基片进行双重图案化的方法。此外，本发明涉及优化双音发展过程。

10. 发明授权

US08574810B2 Dual tone development with a photo-activated acid enhancement component in lithographic applications 有权
标题翻译：在光刻应用中具有光激活酸增强组分的双音发展
公开(公告)号：US08574810B2
公开(公告)日：2013-11-05
申请号：US12636211
申请日：2009-12-11
申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
发明人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/2024 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/70425
摘要： A method and system for patterning a substrate using a lithographic process, such as a dual tone development process, is described. The method comprises use of at least one photo-activated acid enhancement component to improve process latitude for the dual tone development process.
摘要翻译：描述了使用诸如双色调显示处理之类的光刻工艺对衬底进行图案化的方法和系统。该方法包括使用至少一种光活化酸增强组分来改善双色调发展过程的过程纬度。

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