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    • 7. 发明授权
    • Slurry composition for polishing a glass ceramic substrate
    • 用于抛光玻璃陶瓷基板的浆料组合物
    • US06221119B1
    • 2001-04-24
    • US09353247
    • 1999-07-14
    • Andrew M. Homola
    • Andrew M. Homola
    • C09G1802
    • C09K3/1463C03C19/00
    • A slurry in accordance with the invention comprises CeO2 polishing particles and sodium polyacrylate in an aqueous solution. This slurry is used to polish a glass or glass ceramic substrate. I have discovered that adding sodium polyacrylate to a CeO2 slurry improves the polishing rate without causing a major negative impact on the slurry stability or redispersibility. In addition, the addition of the sodium polyacrylate does not cause a great deal of foaming. This polishing process can be used to prepare substrates for the manufacture of magnetic disks.
    • 根据本发明的浆料在水溶液中包含CeO 2抛光颗粒和聚丙烯酸钠。 该浆料用于抛光玻璃或玻璃陶瓷基材。 我已经发现,将聚丙烯酸钠加入到CeO 2浆料中提高了抛光速率,而不会对浆料的稳定性或再分散性产生重大的负面影响。 此外,加入聚丙烯酸钠不会引起大量的起泡。 该抛光工艺可用于制备用于制造磁盘的基板。