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1. 发明申请

US20060225806A1 Multi Wefts Inserting Weaving Machine for Lattice Woven Structure 有权
标题翻译：多纬编织机编织机
公开(公告)号：US20060225806A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：US11426695
申请日：2006-06-27
申请人： Jin Chon , Chang Lee , Seong Cho , Dong Cha
发明人： Jin Chon , Chang Lee , Seong Cho , Dong Cha
IPC分类号： D03D47/02
CPC分类号： D03C13/00 , D03D15/02 , D03D41/002 , D03D41/008 , D10B2505/02 , Y10S139/01 , Y10T442/3179 , Y10T442/3195
摘要： The present invention provides a multi-wefts inserting weaving machine, comprising a block arraying device comprising an upper plate and a lower plate which face each other and are movable upward and downward; and a plural number of unit blocks attached to the internal facing sides of the upper plate and the lower plate of the block arraying device through combining grooves, wherein the unit blocks include two grooves. Accordingly, a lattice woven structure can be easily woven from heavy-duty materials by the present multi-wefts inserting weaving machine.
摘要翻译：本发明提供一种多纬插入式织造机，其特征在于，包括：块排列装置，其包括上板和下板，所述上板和下板彼此面对并可向上和向下移动; 以及多个单元块，通过组合凹槽连接到块排列装置的上板和下板的内表面侧，其中单元块包括两个凹槽。因此，通过本发明的多纬插入式编织机，可以通过重型材料容易地编织网格编织结构。

2. 发明申请

US20060126005A1 Method for reforming color filter array of a CMOS image sensor 审中-公开
标题翻译： CMOS图像传感器的滤色器阵列的改造方法
公开(公告)号：US20060126005A1
公开(公告)日：2006-06-15
申请号：US11302388
申请日：2005-12-14
申请人： Dong Cha
发明人： Dong Cha
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L27/14645 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14685
摘要： A method is provided for reforming a color filter array of a CMOS image sensor, wherein the method includes exposing the first cap oxide layer by removing the first micro-lens, the first cap oxide layer by removing the first micro-lens, the first OCM pattern and the first color filter array; removing the exposed first cap oxide layer; forming a second cap oxide layer on an entire surface of the semiconductor substrate; forming a second color filter array on the second cap oxide layer in correspondence with the unit pixel array region; forming a second OCM pattern on the second color filter array; exposing the metal pad by selectively etching the second cap oxide layer; and forming a second micro-lens on the second OCM pattern.
摘要翻译：提供一种用于对CMOS图像传感器的滤色器阵列进行重整的方法，其中该方法包括通过移除第一微透镜，通过去除第一微透镜来去除第一帽氧化物层，第一OCM 图案和第一个滤色器阵列; 去除暴露的第一帽氧化物层; 在所述半导体衬底的整个表面上形成第二帽氧化物层; 在所述第二帽氧化物层上形成与所述单位像素阵列区域对应的第二滤色器阵列; 在所述第二滤色器阵列上形成第二OCM图案; 通过选择性地蚀刻第二盖氧化物层来暴露金属焊盘; 以及在所述第二OCM图案上形成第二微透镜。

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