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    • 70. 发明授权
    • Data path for lithography apparatus
    • 光刻设备的数据路径
    • US09305747B2
    • 2016-04-05
    • US13290139
    • 2011-11-07
    • Marco Jan-Jaco WielandTeunis Van De PeutFloris Pepijn Van Der WiltErnst Habekotte
    • Marco Jan-Jaco WielandTeunis Van De PeutFloris Pepijn Van Der WiltErnst Habekotte
    • H01J37/317B82Y10/00B82Y40/00
    • H01J37/3177B82Y10/00B82Y40/00H01J2237/31762H01J2237/31774
    • The invention relates to a maskless lithography system for patterning a target using a plurality of charged particle beamlets. The system comprises an electron optical column including a blanker array for modulating the beamlets. The blanker array includes receivers for receiving data signals and blanker elements for modulating the beamlets in accordance with the data signals. The system further comprises a data path comprising a preprocessing system for processing pattern data and a plurality of transmission channels for transmitting processed pattern data to the blanker elements. The data path further comprises a pattern streaming system for receiving pattern data and generating data signals. First and second channel selectors connect a subset of selected transmission channels for pattern data transmission. The first channel selector is connected between the preprocessing system and the transmission channels. The second channel selector is connected between the channels and the blanker elements.
    • 本发明涉及一种用于使用多个带电粒子子束来图案化靶的无掩模光刻系统。 该系统包括电子光学柱,其包括用于调制子束的阻挡阵列。 消隐器阵列包括用于接收数据信号的接收器和用于根据数据信号调制子束的消隐元件。 该系统还包括数据路径,该数据路径包括用于处理模式数据的预处理系统和用于将处理后的图案数据发送到消隐元件的多个传输通道。 数据路径还包括用于接收模式数据和产生数据信号的模式流传输系统。 第一和第二信道选择器连接用于模式数据传输的所选传输信道的子集。 第一通道选择器连接在预处理系统和传输通道之间。 第二通道选择器连接在通道和消声器元件之间。