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    • 28. 发明申请
    • FILM DEPOSITION APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
    • 薄膜沉积装置和基板处理装置
    • US20100050943A1
    • 2010-03-04
    • US12550453
    • 2009-08-31
    • Hitoshi KatoManabu HonmaTomoki Haneishi
    • Hitoshi KatoManabu HonmaTomoki Haneishi
    • C23C16/458
    • C23C16/45551C23C16/401C23C16/45502C23C16/45508C23C16/4583
    • A film deposition apparatus includes: a turntable; a first reaction gas supply part and a second reaction gas supply part extending from a circumferential edge toward a rotation center of the turntable; and a first separation gas supply part provided between the first and second reaction gas supply parts. A first space contains the first reaction gas supply part and has a first height. A second space contains the second reaction gas supply part and has a second height. A third space contains a first separation gas supply part and has a height lower than the first and second heights. A motor provided under the rotation center of the turntable rotates the turntable. A rotation shaft of the turntable and a drive shaft of the motor are coupled without generation of slip.
    • 成膜装置包括:转台; 第一反应气体供给部和第二反应气体供给部,其从周缘朝向转台的旋转中心延伸; 以及设置在第一和第二反应气体供给部之间的第一分离气体供给部。 第一空间包含第一反应气体供应部分并且具有第一高度。 第二空间包含第二反应气体供应部分并且具有第二高度。 第三空间包含第一分离气体供应部分,并且具有低于第一和第二高度的高度。 设置在转台的旋转中心下方的电动机使转台旋转。 转盘的旋转轴和电动机的驱动轴联接而不产生滑移。