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    • 5. 发明申请
    • Method for electroless deposition of a metal layer on selected portions of a substrate
    • 金属层在衬底的选定部分上无电沉积的方法
    • US20050118436A1
    • 2005-06-02
    • US10512113
    • 2003-04-23
    • Sunil BhangaleZhongli LiPeter Moran
    • Sunil BhangaleZhongli LiPeter Moran
    • C23C18/18C23C18/16H05K3/18H05K3/24B05D5/00B32B15/04
    • H05K3/243C23C18/1605C23C18/1608C23C18/1879H05K3/184Y10T428/31678
    • The present invention relates to a method for electroless deposition of a metal layer on selected portions of a substrate. A preferred form of the invention relates to a method of depositing a desired metal layer, by electroless deposition, on one or more selected portions of an indium tin oxide (ITO) surface of a substrate. These selected portions are typically transparent conductive paths of ITO. The method includes a number of steps including applying a masking layer onto the surface, the masking layer having one or more apertures formed therein so as to expose the one or more selected portions of the surface: exposing the one or more selected portions of the surface to a colloidal suspension of catalytic particles adapted to adsorb to the substrate surface and to enhance deposition of the desired metal layer, and exposing the one or more selected portions of the surface to an ionic solution containing ions of the desired metal to enable formation of the metal layer.
    • 本发明涉及一种金属层在衬底的选定部分上无电沉积的方法。 本发明的优选形式涉及通过无电沉积在衬底的氧化铟锡(ITO)表面的一个或多个选定部分上沉积所需金属层的方法。 这些选择的部分通常是ITO的透明导电路径。 该方法包括若干步骤,包括在表面上施加掩模层,掩模层具有形成在其中的一个或多个孔,以暴露表面的一个或多个选定部分:暴露表面的一个或多个选定部分 涉及适于吸附到基底表面并催化所需金属层沉积的催化颗粒的胶态悬浮液,并将表面的一个或多个选定部分暴露于含有所需金属离子的离子溶液,以形成 金属层。