专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201837635A 氣體流量控制裝置、氣體流量控制方法及半導體蝕刻設備审中-公开
简体标题：气体流量控制设备、气体流量控制方法及半导体蚀刻设备
公开(公告)号：TW201837635A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106136930
申请日：2017-10-26
申请人：大陸商中微半導體設備(上海)有限公司 , ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC.
发明人：魏強
IPC分类号： G05D7/00 , H01L21/67
摘要：一種氣體流量控制裝置、氣體流量控制方法及半導體蝕刻設備，氣體流量控制裝置包含劃分為圓形進氣區域和至少一個同心設置的環形進氣區域的氣體噴淋頭，每一個環形進氣區域又包含多個扇形區域，圓形進氣區域和每一個扇形區域都具有供氣通道，圓形進氣區域和每一個扇形區域上都設置多個氣體通孔，每個供氣通道連接一個氣體管路，每個氣體管路通過流量控制器連接到氣源，每個氣體管路上設置電子開關閥門，通過控制環形進氣區域上所有氣體管路上的電子開關閥門輪流開啟或關閉，來控制環形進氣區域上的氣體流量。本發明通過控制氣體管路的開啟或關閉的時間來控制氣體流量，可以較為精準地控制氣量，從而對蝕刻不均勻進行有效補償，而且用較為簡單的開關閥門來代替流量控制器，極大地節省了成本。
简体摘要：一种气体流量控制设备、气体流量控制方法及半导体蚀刻设备，气体流量控制设备包含划分为圆形进气区域和至少一个同心设置的环形进气区域的气体喷淋头，每一个环形进气区域又包含多个扇形区域，圆形进气区域和每一个扇形区域都具有供气信道，圆形进气区域和每一个扇形区域上都设置多个气体通孔，每个供气信道连接一个气体管路，每个气体管路通过流量控制器连接到气源，每个气体管路上设置电子开关阀门，通过控制环形进气区域上所有气体管路上的电子开关阀门轮流打开或关闭，来控制环形进气区域上的气体流量。本发明通过控制气体管路的打开或关闭的时间来控制气体流量，可以较为精准地控制气量，从而对蚀刻不均匀进行有效补偿，而且用较为简单的开关阀门来代替流量控制器，极大地节省了成本。

2. 发明专利

TWI593038B 監控聲音的半導體基板處理系統及方法有权
简体标题：监控声音的半导体基板处理系统及方法
公开(公告)号：TWI593038B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW103104949
申请日：2014-02-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：蘇布拉曼寧科米塞堤 , SUBRAHMANYAM, KOMMISETTI , 伊根陶德J , EGAN, TODD J. , 尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY, JOSEPH , 強森麥可 , JOHNSON, MICHAEL
IPC分类号： H01L21/67 , G05D7/00
CPC分类号： F16K37/0083 , H01L21/67253 , Y10T137/8158

3. 发明专利

TWI582324B 流量調節裝置有权
简体标题：流量调节设备
公开(公告)号：TWI582324B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW104118335
申请日：2015-06-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏士傑 , WEI, SHIH JIE , 黃華志 , HUANG, HUA CHIH
IPC分类号： F16K17/30 , F16K17/36 , G05D7/00
CPC分类号： F16K31/12 , G05D7/0133 , G05D16/103

4. 发明专利

TWI578133B 用於流量控制器的原位校正的方法及其設備有权
简体标题：用于流量控制器的原位校正的方法及其设备
公开(公告)号：TWI578133B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW101135954
申请日：2012-09-28
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：默漢德巴勒拉比N , MOHAMMED, BALARABE N. , 雷恩約翰W , LANE, JOHN W. , 喬杰爾瑪力屈J , GREGOR, MARIUSCH J. , 海崴丹喬瑟夫 , HEALY, DAN JOSEPH
IPC分类号： G05D7/00
CPC分类号： F17D3/00 , G01F25/003 , G05D7/0635 , Y10T137/0324 , Y10T137/86485

5. 发明专利

TWI575349B 流動比率控制器組件、氣體輸送系統及其操作方法有权
简体标题：流动比率控制器组件、气体输送系统及其操作方法
公开(公告)号：TWI575349B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW102129848
申请日：2013-08-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：格勒戈爾瑪路司柯 , GREGOR, MARIUSCH , 雷恩約翰W , LANE, JOHN W. , 萊斯麥可羅伯特 , RICE, MICHAEL ROBERT , 修賈斯汀 , HOUGH, JUSTIN
IPC分类号： G05D7/00 , C23C16/455
CPC分类号： G05D16/2006 , C23C16/45561 , G05D7/0664 , Y10T137/0379 , Y10T137/7761 , Y10T137/87885

6. 发明专利

TWI538877B 臭氧水供給裝置及臭氧水供給方法有权
简体标题：臭氧水供给设备及臭氧水供给方法
公开(公告)号：TWI538877B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW101124427
申请日：2012-07-06
申请人：栗田工業股份有限公司 , KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
发明人：床島裕人 , TOKOSHIMA, HIROTO , 井田純一 , IDA, JUNICHI
IPC分类号： C01B13/10 , G05D7/00 , G05D21/00
CPC分类号： C02F1/78

7. 发明专利

TWI521080B 沉積銦錫氧化物之控制方法有权
简体标题：沉积铟锡氧化物之控制方法
公开(公告)号：TWI521080B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW103134597
申请日：2014-10-03
申请人：行政院原子能委員會核能研究所 , INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH ATOMIC ENERGY COUNCIL, EXECUTIVE YUAN
发明人：張世澤 , CHANG, SHIH TSE , 林維新 , LIN, WEI SIN , 吳錦裕 , WU, JIN YU , 謝政昌 , HSIEH, CHENG CHANG
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/08 , C23C14/34 , G05D7/00 , G05F1/66 , G01J3/00 , C01G15/00 , C01G19/02

8. 发明专利

TW201604455A 流量調節裝置审中-公开
简体标题：流量调节设备
公开(公告)号：TW201604455A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104118335
申请日：2015-06-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏士傑 , WEI, SHIH JIE , 黃華志 , HUANG, HUA CHIH
IPC分类号： F16K17/30 , F16K17/36 , G05D7/00
CPC分类号： F16K31/12 , G05D7/0133 , G05D16/103
摘要：本揭露提供一種流量調節裝置，其係藉由調整流量調節裝置之彈性間距以調節流體的流阻。該流量調節裝置包括：一通道、一桿件及一彈性元件。通道具有流體入口及流體出口，以分別提供流體進入與離開該流量調節裝置。桿件具有彼此相對的一前端與一後端，前端位於通道之內，後端靠近流體出口而遠離流體入口。彈性元件螺旋式環繞桿件，且彈性元件的彈性間距可調整以調節流體的流阻。通道更包括一窄部，彈性元件部分位於該窄部中，並位於桿件與通道內壁間的一環形空間中。
简体摘要：本揭露提供一种流量调节设备，其系借由调整流量调节设备之弹性间距以调节流体的流阻。该流量调节设备包括：一信道、一杆件及一弹性组件。信道具有流体入口及流体出口，以分别提供流体进入与离开该流量调节设备。杆件具有彼此相对的一前端与一后端，前端位于信道之内，后端靠近流体出口而远离流体入口。弹性组件螺旋式环绕杆件，且弹性组件的弹性间距可调整以调节流体的流阻。信道更包括一窄部，弹性组件部分位于该窄部中，并位于杆件与信道内壁间的一环形空间中。

9. 发明专利

TW201543191A 高暫態系統的流量控制校準之方法审中-公开
简体标题：高暂态系统的流量控制校准之方法
公开(公告)号：TW201543191A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104113579
申请日：2015-04-28
申请人：葛萊兒明尼蘇達股份有限公司 , GRACO MINNESOTA INC.
发明人：杜佛彼得N , DUFAULT, PETER N. , 安德森陶德A , ANDERSON, TODD A.
IPC分类号： G05D7/00
CPC分类号： B05B12/1427 , B05B9/0406 , B05B12/085 , B05B12/088 , B05B12/1418 , G05D11/132
摘要：本發明揭示一種控制一流率之方法，其包含：選擇由一操作流率及一操作壓力界定之一操作條件；比較該操作流率與一臨限流率；及若該操作流率大於或等於該臨限流率，則執行一自適應校準常式。該自適應校準常式包含：量測該操作壓力；量測穿過一第一量錶之一第一流率；及基於該操作壓力及該第一流率來修改一壓力-流量表。
简体摘要：本发明揭示一种控制一流率之方法，其包含：选择由一操作流率及一操作压力界定之一操作条件；比较该操作流率与一临限流率；及若该操作流率大于或等于该临限流率，则运行一自适应校准例程。该自适应校准例程包含：量测该操作压力；量测穿过一第一量表之一第一流率；及基于该操作压力及该第一流率来修改一压力-流量表。

10. 发明专利

TW201421185A 增強的氣體流動速率控制之方法及設備审中-公开
简体标题：增强的气体流动速率控制之方法及设备
公开(公告)号：TW201421185A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102129848
申请日：2013-08-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：格勒戈爾瑪路司柯 , GREGOR, MARIUSCH , 雷恩約翰W , LANE, JOHN W. , 萊斯麥可羅伯特 , RICE, MICHAEL ROBERT , 修賈斯汀 , HOUGH, JUSTIN
IPC分类号： G05D7/00 , C23C16/455
CPC分类号： G05D16/2006 , C23C16/45561 , G05D7/0664 , Y10T137/0379 , Y10T137/7761 , Y10T137/87885
摘要：本發明提供用於控制氣體流動至一半導體處理腔室的方法與設備。本發明包括：在一流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；及在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效。許多額外的特徵亦為揭示。
简体摘要：本发明提供用于控制气体流动至一半导体处理腔室的方法与设备。本发明包括：在一流动比率控制器中使比率设置点反馈控制无效；启动气体流动经过该流动比率控制器；当一上游压力达到一存储的上游压力值时，移动该流动比率控制器的阀门至基于一存储位置的一默认位置，其中该存储位置与该存储的上游压力值于一前期处理运行期间被存储；确定稳态流动比率控制器输出的流动已达到；及在该流动比率控制器中使比率设置点反馈控制有效。许多额外的特征亦为揭示。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式