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1. 发明专利

TWI700481B 精密研磨液中大雜質顆粒的全像偵測及特徵化技術有权
简体标题：精密研磨液中大杂质颗粒的全像侦测及特征化技术
公开(公告)号：TWI700481B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105130136
申请日：2016-09-19
申请人：紐約大學 , NEW YORK UNIVERSITY
发明人：魯夫納大衛 B. , RUFFNER, DAVID B. , 格里爾大衛 G. , GRIER, DAVID G. , 菲利普斯勞拉 , PHILIPS, LAURA
IPC分类号： G01N15/10 , G01N21/85 , G01N21/94 , C09G1/02

2. 发明专利

TWI676789B 分析含有固態物粒子的液體樣本的方法與系統以及該方法和系統的用途有权
简体标题：分析含有固态物粒子的液体样本的方法与系统以及该方法和系统的用途
公开(公告)号：TWI676789B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW103140608
申请日：2014-11-24
申请人：芬蘭商克密拉股份有限公司 , KEMIRA OYJ
发明人：約恩蘇伊利斯 , JOENSUU, IIRIS , 皮羅寧瑪麗亞塔 , PIIRONEN, MARJATTA
IPC分类号： G01N15/00 , G01N21/85 , G01N35/08

3. 发明专利

TW201919784A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201919784A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107144829
申请日：2016-05-23
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：林聖人 , HAYASHI, MASATO , 野口耕平 , NOGUCHI, KOHEI , 飯建次 , IIZUKA, KENJI , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI
IPC分类号： B08B3/08 , B08B9/032 , G01N21/85 , G03F7/16 , H01L21/66 , H01L21/67
摘要：提供一種具備複數的流體供給路的基板處理裝置中，當檢出流通於各供給路的流體中所含有的異物時，可防範裝置的大型化及製造成本提高之技術。一種裝置，具備：位於向基板供給流體的複數供給路的各個一部分，構成流體中異物的測定區域，且互相以列形成設置的測定用的流路部；與前述複數的流路部共用，為了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述複數的流路部中所選擇的流路部內，為了形成光路，將前述光照射部沿著前述流路部的配列方向相對移動的移動機構；包含受光元件並接收透過前述流路部的光之受光部；基於前述受光元件所輸出的訊號，為了檢出前述流體中的異物的檢出部。藉此，在削減必要的光照射部之數的同時，可以達到裝置的小型化。
简体摘要：提供一种具备复数的流体供给路的基板处理设备中，当检出流通于各供给路的流体中所含有的异物时，可防范设备的大型化及制造成本提高之技术。一种设备，具备：位于向基板供给流体的复数供给路的各个一部分，构成流体中异物的测定区域，且互相以列形成设置的测定用的流路部；与前述复数的流路部共享，为了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述复数的流路部中所选择的流路部内，为了形成光路，将前述光照射部沿着前述流路部的配列方向相对移动的移动机构；包含受光组件并接收透过前述流路部的光之受光部；基于前述受光组件所输出的信号，为了检出前述流体中的异物的检出部。借此，在削减必要的光照射部之数的同时，可以达到设备的小型化。

4. 发明专利

TWI650189B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI650189B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW105115978
申请日：2016-05-23
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：林聖人 , HAYASHI, MASATO , 野口耕平 , NOGUCHI, KOHEI , 飯建次 , IIZUKA, KENJI , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI
IPC分类号： B08B3/08 , B08B9/032 , G01N21/85 , G03F7/16 , H01L21/66 , H01L21/67

5. 发明专利

TW201835558A 偵測裝置审中-公开
简体标题：侦测设备
公开(公告)号：TW201835558A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107108515
申请日：2018-03-14
申请人：日商東芝照明技術股份有限公司 , TOSHIBA LIGHTING & TECHNOLOGY CORPORATION
发明人：藤岡純 , FUJIOKA, ATSUSHI , 加藤剛雄 , KATO, TAKEO , 田内亮彦 , TAUCHI, AKIHIKO , 和氣正典 , WAKE, MASANORI , 中川幸信 , NAKAGAWA, YUKINOBU
IPC分类号： G01N21/89 , G01N21/85 , G01N21/892
摘要：本發明提供一種能夠提高對於對象物的偵測精度的偵測裝置。實施方式的對象物的偵測裝置包括光源、偵測部及濾光器。光源向包含對象物的被照射體照射出照射光。偵測部偵測對象物因從光源照射出的照射光而發出的發出光。濾光器配置在對象物與偵測部之間，阻斷被對象物反射而向偵測部前進的照射光的反射光。
简体摘要：本发明提供一种能够提高对于对象物的侦测精度的侦测设备。实施方式的对象物的侦测设备包括光源、侦测部及滤光器。光源向包含对象物的被照射体照射出照射光。侦测部侦测对象物因从光源照射出的照射光而发出的发出光。滤光器配置在对象物与侦测部之间，阻断被对象物反射而向侦测部前进的照射光的反射光。

6. 发明专利

TW201709989A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201709989A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105115978
申请日：2016-05-23
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：林聖人 , HAYASHI, MASATO , 野口耕平 , NOGUCHI, KOHEI , 飯建次 , IIZUKA, KENJI , 飯田成昭 , IIDA, NARUAKI
IPC分类号： B08B3/08 , B08B9/032 , G01N21/85 , G03F7/16 , H01L21/66 , H01L21/67
CPC分类号： H01L22/10 , G01N21/85 , G01N2021/8578 , G03F7/16 , G03F7/162 , H01L21/0273 , H01L21/67253
摘要：提供一種具備複數的流體供給路的基板處理裝置中，當檢出流通於各供給路的流體中所含有的異物時，可防範裝置的大型化及製造成本提高之技術。一種裝置，具備：位於向基板供給流體的複數供給路的各個一部分，構成流體中異物的測定區域，且互相以列形成設置的測定用的流路部；與前述複數的流路部共用，為了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述複數的流路部中所選擇的流路部內，為了形成光路，將前述光照射部沿著前述流路部的配列方向相對移動的移動機構；包含受光元件並接收透過前述流路部的光之受光部；基於前述受光元件所輸出的訊號，為了檢出前述流體中的異物的檢出部。藉此，在削減必要的光照射部之數的同時，可以達到裝置的小型化。
简体摘要：提供一种具备复数的流体供给路的基板处理设备中，当检出流通于各供给路的流体中所含有的异物时，可防范设备的大型化及制造成本提高之技术。一种设备，具备：位于向基板供给流体的复数供给路的各个一部分，构成流体中异物的测定区域，且互相以列形成设置的测定用的流路部；与前述复数的流路部共享，为了在前述流路部形成光路的光照射部；在前述复数的流路部中所选择的流路部内，为了形成光路，将前述光照射部沿着前述流路部的配列方向相对移动的移动机构；包含受光组件并接收透过前述流路部的光之受光部；基于前述受光组件所输出的信号，为了检出前述流体中的异物的检出部。借此，在削减必要的光照射部之数的同时，可以达到设备的小型化。

7. 发明专利

TWI573634B 光學式粒狀物選別機有权
简体标题：光学式粒状物选别机
公开(公告)号：TWI573634B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW102109290
申请日：2013-03-15
申请人：佐竹股份有限公司 , SATAKE CORPORATION
发明人：宮本知幸 , MIYAMOTO, TOMOYUKI , 石津任章 , ISHIZU, HIDEAKI , 立石芳和 , TATEISHI, YOSHIKAZU , 原正純 , HARA, MASAZUMI
IPC分类号： B07C5/342 , G01N21/85 , G01N21/27
CPC分类号： B07C5/3425 , B07C5/342 , G01J3/465 , G01J3/50 , G01N21/27 , G01N21/85 , G01N2021/8592 , G06T11/001 , G06T2207/10024 , H04N1/6058 , H04N9/045 , Y10S209/932 , Y10S209/938

8. 发明专利

TWI493174B 片劑檢查機有权
简体标题：片剂检查机
公开(公告)号：TWI493174B
公开(公告)日：2015-07-21
申请号：TW103111762
申请日：2014-03-28
申请人：元成機械股份有限公司
发明人：劉清三 , 黃漢佳
IPC分类号： G01N21/85 , G01N21/88

9. 发明专利

TWI490477B 電子零件檢查方法及用於該方法中之裝置有权
简体标题：电子零件检查方法及用于该方法中之设备
公开(公告)号：TWI490477B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098107032
申请日：2009-03-04
申请人：共同設計企劃有限公司 , KYODO DESIGN & PLANNING CORP.
发明人：津田仁彥 , TSUDA, TOYOHIKO , 張春生 , ZHANG, CHUNSHENG , 後藤哲 , GOTO, SATOSHI , 郭衛紅 , GUO, WEIHONG
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/85
CPC分类号： G01N21/95684

10. 发明专利

TWI442045B 外觀檢查裝置有权
简体标题：外观检查设备
公开(公告)号：TWI442045B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW097118477
申请日：2008-05-20
申请人：古歐力卡普思股份有限公司 , QUALICAPS CO., LTD.
发明人：柳生元啓 , YAGYU, MOTOHIRO , 笠井健一 , KASAI, KENICHI , 佐藤健 , SATO, KEN , 安井淳祐 , YASUI, JUNSUKE , 長尾明 , NAGAO, AKIRA , 石田哲久 , ISHIDA, TETSUHISA
IPC分类号： G01N21/85 , G01N21/84
CPC分类号： G01N21/9508 , B65G47/1421 , B65G47/1492 , B65G47/248 , B65G2201/027 , G01N21/95 , G01N2021/845

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