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1. 实用新型

TWM561159U 真空節能型大容量精密調壓閥有权
简体标题：真空节能型大容量精密调压阀
公开(公告)号：TWM561159U
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW107202596
申请日：2018-02-26
申请人：台灣氣立股份有限公司
发明人：游平政 , 鄭志聖
IPC分类号： F16K7/17 , F16K17/06

2. 发明专利

TW201736764A 節能型大容量精密調壓閥审中-公开
简体标题：节能型大容量精密调压阀
公开(公告)号：TW201736764A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105111002
申请日：2016-04-08
申请人：台灣氣立股份有限公司
发明人：游平政 , 鄭志聖
IPC分类号： F16K7/17 , F16K17/06
摘要：一種節能型大容量精密調壓閥，其本體係由調壓座、中閥座、主閥座、底座從上至下所連結組成，該中閥座內具有通道、衡壓通道、調壓直桿，而通道與衡壓通道經主閥座相通至底座，其中另有一直動式流量控制直桿於主閥座和底座之間，此底座內部存有供壓力引導的調壓通道、底座節流孔、溢流管，以及調整型閥口，且該底座和主閥座之間設有一主膜片，因直動式流量控制直桿的上下兩端施力面積相等，且於下端配合可替換尺寸的調整型閥口支撐，經一次側壓力輸入後，能引導一次側壓力到直動式流量控制直桿的上端，使上下兩端施力相等，在主膜片推動直動式流量控制直桿時，可順暢垂直位移，並藉此關閉主膜片上的逆流孔，使本體於大容量調壓閥上能達成無流體壓力溢流，更能繼續調整出高精度的二次側壓力，使其兼具節能之成效，不浪費多餘之壓力。
简体摘要：一种节能型大容量精密调压阀，其本体系由调压座、中阀座、主阀座、底座从上至下所链接组成，该中阀座内具有信道、衡压信道、调压直杆，而信道与衡压信道经主阀座相通至底座，其中另有一直动式流量控制直杆于主阀座和底座之间，此底座内部存有供压力引导的调压信道、底座节流孔、溢流管，以及调整型阀口，且该底座和主阀座之间设有一主膜片，因直动式流量控制直杆的上下两端施力面积相等，且于下端配合可替换尺寸的调整型阀口支撑，经一次侧压力输入后，能引导一次侧压力到直动式流量控制直杆的上端，使上下两端施力相等，在主膜片推动直动式流量控制直杆时，可顺畅垂直位移，并借此关闭主膜片上的逆流孔，使本体于大容量调压阀上能达成无流体压力溢流，更能继续调整出高精度的二次侧压力，使其兼具节能之成效，不浪费多余之压力。

3. 发明专利

TW201638510A 自閉氣體填充閥审中-公开
简体标题：自闭气体填充阀
公开(公告)号：TW201638510A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104112195
申请日：2015-04-16
申请人：和正豐科技股份有限公司 , BUENO TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：簡煥然 , CHIEN, HUAN JAN , 陳柏文 , CHEN, PO WEN
IPC分类号： F16K7/17
摘要：本發明係一種無動力而能自動關閉的腐蝕氣體填充閥結構，例如，含有氟素氣體、鹵素氣體等；該閥的動作順序由外部設備的連動機構對該閥的壓盤進行按壓作動，使原本保持密閉的閥體打開並由供氣端對填充端進行氣體充填，當充填氣體達到預定的壓力時，閥體內的膜片受壓膨脹帶動閥軸向上移動而帶動閥塞產生密閉狀態，該密閉狀態係由氣壓源的高氣壓之壓力迫緊密閉；在使用於高腐蝕氣體條件下，該閥的接觸氣體的零件設計成可替換結構，並且在密封接觸面係由膜片膨脹成正壓密封機制，來減少密封面的衝擊並加大接觸面積以減少顆粒的產生而降低汙染風險。
简体摘要：本发明系一种无动力而能自动关闭的腐蚀气体填充阀结构，例如，含有氟素气体、卤素气体等；该阀的动作顺序由外部设备的连动机构对该阀的压盘进行按压作动，使原本保持密闭的阀体打开并由供气端对填充端进行气体充填，当充填气体达到预定的压力时，阀体内的膜片受压膨胀带动阀轴向上移动而带动阀塞产生密闭状态，该密闭状态系由气压源的高气压之压力迫紧密闭；在使用于高腐蚀气体条件下，该阀的接触气体的零件设计成可替换结构，并且在密封接触面系由膜片膨胀成正压密封机制，来减少密封面的冲击并加大接触面积以减少颗粒的产生而降低污染风险。

4. 发明专利

TW202018216A 二通閥审中-公开
简体标题：二通阀
公开(公告)号：TW202018216A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108129650
申请日：2019-08-20
申请人：日商SMC股份有限公司 , SMC CORPORATION
发明人：土居義忠 , DOI, YOSHITADA , 沖田譲 , OKITA, YUZURU , 鈴木貴光 , SUZUKI, TAKAMITSU , 永田章紀 , NAGATA, AKINORI
IPC分类号： F16K1/42 , F16K7/12 , F16K7/17
摘要：本發明的二通閥係切換一次側通口(20)與二次側通口(22)之連通狀態與非連通狀態者，具備：閥體(12、14)，係設置有一次側通口與二次側通口並且於內部具有閥座部(26)；隔膜閥(16)，係以可對閥座部接觸/分離的方式被支撐在閥體內；以及驅動機構，係可使隔膜閥位移；其中隔膜閥係具備與閥座部之平坦的著座面(26a)相對向的環狀突起部(56)，並且具備可供裝設於環狀突起部之背後的彈性構件(62)。
简体摘要：本发明的二通阀系切换一次侧通口(20)与二次侧通口(22)之连通状态与非连通状态者，具备：阀体(12、14)，系设置有一次侧通口与二次侧通口并且于内部具有阀座部(26)；隔膜阀(16)，系以可对阀座部接触/分离的方式被支撑在阀体内；以及驱动机构，系可使隔膜阀位移；其中隔膜阀系具备与阀座部之平坦的着座面(26a)相对向的环状突起部(56)，并且具备可供装设于环状突起部之背后的弹性构件(62)。

5. 发明专利

TW201843404A 金屬膜片閥审中-公开
简体标题：金属膜片阀
公开(公告)号：TW201843404A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107108024
申请日：2018-03-09
申请人：日商開滋SCT股份有限公司 , KITZ SCT CORPORATION
发明人：後藤暁 , GOTO, AKIRA , 飯久修 , IIZUKA, HISANOBU
IPC分类号： F16K7/12 , F16K7/17 , F16K31/122 , F16K3/02
摘要：本發明的課題在於提供一種：僅以極為簡易的構造，即使在高溫流體流動期間閥以1000萬次的等級形成開閉後，也能良好地降低因樹脂製閥座的老化所引起的Cv值變動，並且具備高耐久性，非常適合作為ALD製程用的直觸型金屬膜片閥。　　本發明是具有下述構件的金屬膜片閥：本體，將閥座設在連通於1次側流路及2次側流路的閥室；金屬膜片，其配設於閥室上方的中央部上下移動而朝閥座形成抵接；閥桿，可自由升降移動地設在該金屬膜片的上方，使金屬膜片的中央部朝下方下降，其中，將流路節流部設在2次側流路的局部。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种：仅以极为简易的构造，即使在高温流体流动期间阀以1000万次的等级形成开闭后，也能良好地降低因树脂制阀座的老化所引起的Cv值变动，并且具备高耐久性，非常适合作为ALD制程用的直触型金属膜片阀。　　本发明是具有下述构件的金属膜片阀：本体，将阀座设在连通于1次侧流路及2次侧流路的阀室；金属膜片，其配设于阀室上方的中央部上下移动而朝阀座形成抵接；阀杆，可自由升降移动地设在该金属膜片的上方，使金属膜片的中央部朝下方下降，其中，将流路节流部设在2次侧流路的局部。

6. 发明专利

TWI560386B 自閉氣體填充閥有权
简体标题：自闭气体填充阀
公开(公告)号：TWI560386B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW104112195
申请日：2015-04-16
申请人：和正豐科技股份有限公司 , BUENO TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：簡煥然 , CHIEN, HUAN JAN , 陳柏文 , CHEN, PO WEN
IPC分类号： F16K7/17

7. 实用新型

TWM511575U 由總進氣腔封閥之電磁比例閥有权
简体标题：由总进气腔封阀之电磁比例阀
公开(公告)号：TWM511575U
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104207899
申请日：2015-05-21
申请人：保登科技股份有限公司
发明人：黃俊誠
IPC分类号： F16K7/17 , F16K31/08

8. 发明专利

TW201530031A 流量控制閥及使用該流量控制閥的流量控制裝置审中-公开
简体标题：流量控制阀及使用该流量控制阀的流量控制设备
公开(公告)号：TW201530031A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103133737
申请日：2014-09-29
申请人：先進電氣股份有限公司 , ADVANCE DENKI KOGYO KABUSHIKI KAISHA
发明人：笹尾起美仁 , SASAO, KIMIHITO
IPC分类号： F16K7/17 , F16K21/16 , G05D7/00
CPC分类号： G05D7/0113 , Y10T137/776 , Y10T137/7791
摘要：提供將流體的清淨度在更高的狀態下維持固定流量，而且可以變更流體流量範圍之設定的流量控制閥；以及流量控制裝置。流量控制閥(101)，具備：流入側區塊(10)，具備本體流入部(11)、流入側腔室(13)、及中間流出部(12)；流出側區塊(30)，具備中間流入部(31)、流出側腔室(33)、閥座(37)、及本體流出部(32)；連接區塊(50)，是連接流入側區塊及流出側區塊；連接流路(70)，是連接中間流出部和中間流入部；節流部(75)；第1隔膜(20)，是始終施加固定壓力；以及第2隔膜(40)，具備對於閥座進行進退移動的閥體(47)，並且連接區塊是具有連接腔室且收容將隔膜的變動傳達至另一隔膜的傳達構件(55)，藉由節流部前後的壓力變動所帶動之兩個隔膜的進退移動，讓閥體對於閥座進行進退移動而將被控制流體的流量保持固定。
简体摘要：提供将流体的清净度在更高的状态下维持固定流量，而且可以变更流体流量范围之设置的流量控制阀；以及流量控制设备。流量控制阀(101)，具备：流入侧区块(10)，具备本体流入部(11)、流入侧腔室(13)、及中间流出部(12)；流出侧区块(30)，具备中间流入部(31)、流出侧腔室(33)、阀座(37)、及本体流出部(32)；连接区块(50)，是连接流入侧区块及流出侧区块；连接流路(70)，是连接中间流出部和中间流入部；节流部(75)；第1隔膜(20)，是始终施加固定压力；以及第2隔膜(40)，具备对于阀座进行进退移动的阀体(47)，并且连接区块是具有连接腔室且收容将隔膜的变动传达至另一隔膜的传达构件(55)，借由节流部前后的压力变动所带动之两个隔膜的进退移动，让阀体对于阀座进行进退移动而将被控制流体的流量保持固定。

9. 实用新型

TWM592047U 用於高溫流體的閥件有权
简体标题：用于高温流体的阀件
公开(公告)号：TWM592047U
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW108212174
申请日：2019-09-12
申请人：尚銓股份有限公司
发明人：謝兆坤 , HSIEH, CHAO-KUN , 湯盛龍 , TANG, SHENG-LUNG , 楊詠翔 , YANG, YUNG-HSIANG
IPC分类号： F16K7/12 , F16K7/17 , F16K31/122 , F16K3/02

10. 发明专利

TW201825818A 閥及半導體製造裝置审中-公开
简体标题：阀及半导体制造设备
公开(公告)号：TW201825818A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106138896
申请日：2017-11-10
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：丹野竜太郎 , TANNO, RYUTARO , 柳田保昌 , YANAGIDA, YASUMASA , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU
IPC分类号： F16K7/17
摘要： [課題] 　　本發明係提供一種閥及半導體製造裝置，其係即使在高溫下使用，也不會發生黏著(seizure)等，而可長時間使用，並且不會對腔室內造成污染。 [解決手段] 　　閥(1)係具備：使驅動力增大的倍力機構(30)；承受被倍力機構(30)增大之力量而移動的第1桿(25)與第2桿(26)；以及可開閉流體通路(2b、2c)的膜片(11)。倍力機構(30)係具備：保持器(31)與軸承(32)；兩端被軸承(32)所支承的軸(33)；以及臂部(34)，該臂部(34)係被軸(33)支承成可搖動，並具有承受驅動力的外端部(34C)、以及增大驅動力並傳達給第1桿(25)的內端部(34B)，在保持器(31)、軸承(32)、軸(33)、以及臂部(34)，構成因臂部(34)的搖動而產生之滑動的軸(33)的兩端部與軸承(32)之中，軸承(32)係由碳纖維複合材料所構成。
简体摘要： [课题] 　　本发明系提供一种阀及半导体制造设备，其系即使在高温下使用，也不会发生黏着(seizure)等，而可长时间使用，并且不会对腔室内造成污染。 [解决手段] 　　阀(1)系具备：使驱动力增大的倍力机构(30)；承受被倍力机构(30)增大之力量而移动的第1杆(25)与第2杆(26)；以及可开闭流体通路(2b、2c)的膜片(11)。倍力机构(30)系具备：保持器(31)与轴承(32)；两端被轴承(32)所支承的轴(33)；以及臂部(34)，该臂部(34)系被轴(33)支承成可摇动，并具有承受驱动力的外端部(34C)、以及增大驱动力并传达给第1杆(25)的内端部(34B)，在保持器(31)、轴承(32)、轴(33)、以及臂部(34)，构成因臂部(34)的摇动而产生之滑动的轴(33)的两端部与轴承(32)之中，轴承(32)系由碳纤维复合材料所构成。

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