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1. 发明专利

TWI450880B 多胺、羧酸助熔劑組成物及焊接方法有权
简体标题：多胺、羧酸助熔剂组成物及焊接方法
公开(公告)号：TWI450880B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW101135054
申请日：2012-09-25
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：溫寇馬克R , WINKLE, MARK R. , 帝何伯亞文V , DHOBLE, AVIN V. , 何金生 , HO, KIM S. , 嘉拉夫麥可K , GALLAGHER, MICHAEL K. , 劉向前 , LIU, XIANG-QIAN , 弗萊明大衛D , FLEMING, DAVID D.
IPC分类号： C07C211/36 , C07C53/126 , C07C57/04 , B23K35/362 , H05K3/34
CPC分类号： H05K3/3489 , B23K1/0016 , B23K1/008 , B23K1/203 , B23K35/3601 , B23K35/3618 , B23K35/362 , B23K2201/42

2. 发明专利

TW201319020A 多胺、羧酸助熔劑組成物及焊接方法审中-公开
简体标题：多胺、羧酸助熔剂组成物及焊接方法
公开(公告)号：TW201319020A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101135054
申请日：2012-09-25
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：溫寇馬克R , WINKLE, MARK R. , 帝何伯亞文V , DHOBLE, AVIN V. , 何金生 , HO, KIM S. , 嘉拉夫麥可K , GALLAGHER, MICHAEL K. , 劉向前 , LIU, XIANG-QIAN , 弗萊明大衛D , FLEMING, DAVID D.
IPC分类号： C07C211/36 , C07C53/126 , C07C57/04 , B23K35/362 , H05K3/34
CPC分类号： H05K3/3489 , B23K1/0016 , B23K1/008 , B23K1/203 , B23K35/3601 , B23K35/3618 , B23K35/362 , B23K2201/42
摘要：提供一種助熔劑組成物，包括下列初始組分：羧酸以及，式(I)所示之多胺助熔劑：限制條件為當式(I)所示之多胺助熔劑係以式(Ia)表示時： R1、R2、R3和R4中的0至3者為氫。復提供一種使用該助熔劑組成物焊接電氣接點的方法。
简体摘要：提供一种助熔剂组成物，包括下列初始组分：羧酸以及，式(I)所示之多胺助熔剂：限制条件为当式(I)所示之多胺助熔剂系以式(Ia)表示时： R1、R2、R3和R4中的0至3者为氢。复提供一种使用该助熔剂组成物焊接电气接点的方法。

3. 发明专利

TWI697473B 二胺基二環己基甲烷之異構化方法有权
简体标题：二胺基二环己基甲烷之异构化方法
公开(公告)号：TWI697473B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105106412
申请日：2016-03-03
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：清水裕子 , SHIMIZU, YUKO , 山本良亮 , YAMAMOTO, YOSHIAKI
IPC分类号： C07C209/68 , C07C211/36

4. 发明专利

TWI686371B 1,3,3-三甲基-1-(胺基甲基)胺基環己烷之異構化方法有权
简体标题： 1,3,3-三甲基-1-(胺基甲基)胺基环己烷之异构化方法
公开(公告)号：TWI686371B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW105106415
申请日：2016-03-03
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：清水裕子 , SHIMIZU, YUKO , 山本良亮 , YAMAMOTO, YOSHIAKI
IPC分类号： C07C209/68 , C07C211/36

5. 发明专利

TW201641481A 環己烷二胺之異構化方法审中-公开
简体标题：环己烷二胺之异构化方法
公开(公告)号：TW201641481A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105106411
申请日：2016-03-03
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：清水裕子 , SHIMIZU, YUKO , 山本良亮 , YAMAMOTO, YOSHIAKI
IPC分类号： C07C209/68 , C07C211/36
CPC分类号： C07C209/68 , C07B61/00 , C07C211/36 , C07C2601/14
摘要：本發明提供一種環己烷二胺之異構化方法，能不經高壓反應、複雜之多階段步驟，以簡便且高活性地達成環己烷二胺之異構化反應。此異構化方法具有異構化步驟，係於下列通式(1)表示之化合物、以及選自於由鹼金屬、含鹼金屬之化合物、鹼土類金屬、及含鹼土類金屬之化合物構成之群中之1種以上的存在下，將環己烷二胺進行異構化；上式中，R1 及R2 各自獨立地表示選自於由氫原子、有取代或無取代之烴基、有取代或無取代之烷氧基、有取代或無取代之芳氧基、及醯基構成之群中之1價基，R1 及R2 也可互相鍵結而形成環；R3 表示選自於由氫原子、及有取代或無取代之烴基構成之群中之n價基，n表示1~10之整數。
简体摘要：本发明提供一种环己烷二胺之异构化方法，能不经高压反应、复杂之多阶段步骤，以简便且高活性地达成环己烷二胺之异构化反应。此异构化方法具有异构化步骤，系于下列通式(1)表示之化合物、以及选自于由碱金属、含碱金属之化合物、碱土类金属、及含碱土类金属之化合物构成之群中之1种以上的存在下，将环己烷二胺进行异构化；上式中，R1 及R2 各自独立地表示选自于由氢原子、有取代或无取代之烃基、有取代或无取代之烷氧基、有取代或无取代之芳氧基、及酰基构成之群中之1价基，R1 及R2 也可互相键结而形成环；R3 表示选自于由氢原子、及有取代或无取代之烃基构成之群中之n价基，n表示1~10之整数。

6. 发明专利

TWI458696B 助熔劑組成物及焊接方法有权
简体标题：助熔剂组成物及焊接方法
公开(公告)号：TWI458696B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW101135053
申请日：2012-09-25
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：何金生 , HO, KIM SANG , 嘉拉夫麥可K , GALLAGHER, MICHAEL K. , 帝何伯亞文V , DHOBLE, AVIN V. , 溫寇馬克R , WINKLE, MARK R. , 劉向前 , LIU, XIANG-QIAN , 弗萊明大衛D , FLEMING, DAVID D.
IPC分类号： C07C211/36 , B23K35/363 , H05K3/34
CPC分类号： B23K1/203 , B23K1/0016 , B23K1/008 , B23K35/0244 , B23K35/26 , B23K35/34 , B23K35/3601 , B23K35/362 , B23K2201/42 , H05K3/3489

7. 发明专利

TW201919762A 核氫化反應用觸媒审中-公开
简体标题：核氢化反应用触媒
公开(公告)号：TW201919762A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129860
申请日：2018-08-28
申请人：日商恩億凱嘉股份有限公司 , N.E. CHEMCAT CORPORATION
发明人：水崎智照 , MIZUSAKI, TOMOTERU , 鈴鹿弘康 , SUZUKA, HIROYASU
IPC分类号： B01J23/46 , B01J21/04 , B01J21/18 , B01J35/02 , C07C209/72 , C07C211/35 , C07C211/36 , C07B61/00
摘要：本發明提供一種核氫化反應用觸媒，在芳香環鍵結了1個以上的胺基之芳香族化合物之核氫化反應中，相較習知的釕觸媒具有更優異的觸媒活性。該核氫化反應用觸媒，使用於將在芳香環鍵結了1個以上的胺基之芳香族化合物之前述芳香環的至少1個π鍵進行氫化之核氫化反應中，包含擔體、及載持於前述擔體上的觸媒粒子，前述觸媒粒子中含有Ru成分與Rh成分，且利用高頻感應耦合電漿(ICP)原子發射光譜法求得之Ru的含量MRu(質量%)與Rh的含量MRh(質量%)滿足式(1)的條件：MRu＞MRh。
简体摘要：本发明提供一种核氢化反应用触媒，在芳香环键结了1个以上的胺基之芳香族化合物之核氢化反应中，相较习知的钌触媒具有更优异的触媒活性。该核氢化反应用触媒，使用于将在芳香环键结了1个以上的胺基之芳香族化合物之前述芳香环的至少1个π键进行氢化之核氢化反应中，包含担体、及载持于前述担体上的触媒粒子，前述触媒粒子中含有Ru成分与Rh成分，且利用高频感应耦合等离子(ICP)原子发射光谱法求得之Ru的含量MRu(质量%)与Rh的含量MRh(质量%)满足式(1)的条件：MRu＞MRh。

8. 发明专利

TW201919761A 核氫化反應用觸媒审中-公开
简体标题：核氢化反应用触媒
公开(公告)号：TW201919761A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129859
申请日：2018-08-28
申请人：日商恩億凱嘉股份有限公司 , N.E. CHEMCAT CORPORATION
发明人：水崎智照 , MIZUSAKI, TOMOTERU , 鈴鹿弘康 , SUZUKA, HIROYASU
IPC分类号： B01J23/46 , B01J21/04 , B01J35/02 , C07C209/72 , C07C211/35 , C07C211/36 , C07B61/00
摘要：本發明提供於在芳香環鍵結有1個以上之胺基之芳香族化合物的核氫化反應中具有較習知的釕觸媒更為優異的觸媒活性的核氫化反應用觸媒。一種核氫化反應用觸媒，係使用於將在芳香環鍵結有1個以上之胺基之芳香族化合物的該芳香環的π鍵的至少1個進行氫化之核氫化反應，含有擔體、及載持於該擔體上之觸媒粒子，該觸媒粒子中含有Ru(0價)與Ru氧化物，且利用X射線光電子光譜分析法(XPS)測定之在表面附近之分析區域中的Ru(0價)之比例RRu(atom%)、與Ru氧化物之比例RRuOx(atom%)符合式(1)之條件：0.60≦{RRuOx/(RRuOx+RRu)}≦0.90。
简体摘要：本发明提供于在芳香环键结有1个以上之胺基之芳香族化合物的核氢化反应中具有较习知的钌触媒更为优异的触媒活性的核氢化反应用触媒。一种核氢化反应用触媒，系使用于将在芳香环键结有1个以上之胺基之芳香族化合物的该芳香环的π键的至少1个进行氢化之核氢化反应，含有担体、及载持于该担体上之触媒粒子，该触媒粒子中含有Ru(0价)与Ru氧化物，且利用X射线光电子光谱分析法(XPS)测定之在表面附近之分析区域中的Ru(0价)之比例RRu(atom%)、与Ru氧化物之比例RRuOx(atom%)符合式(1)之条件：0.60≦{RRuOx/(RRuOx+RRu)}≦0.90。

9. 发明专利

TWI516524B 聚醯亞胺前驅體、聚醯亞胺及製造聚醯亞胺所使用之材料有权
简体标题：聚酰亚胺前驱体、聚酰亚胺及制造聚酰亚胺所使用之材料
公开(公告)号：TWI516524B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100126008
申请日：2011-07-22
申请人：宇部興產股份有限公司 , UBE INDUSTRIES, LTD.
发明人：高澤亮一 , TAKASAWA, RYOICHI , 岡卓也 , OKA, TAKUYA , 小濱幸德 , KOHAMA, YUKINORI , 中川美晴 , NAKAGAWA, MIHARU , 久野信治 , HISANO, NOBUHARU , 幸田政文 , KOHDA, MASAFUMI , 中山剛成 , NAKAYAMA, TAKESHIGE , 中山知則 , NAKAYAMA, TOMONORI
IPC分类号： C08G73/10 , C07D307/89 , C07C211/36
CPC分类号： C08G73/00 , C08G73/1042 , C08G73/1075 , C08G73/1082 , C09D179/08

10. 发明专利

TW201323377A 助熔劑組成物及焊接方法审中-公开
简体标题：助熔剂组成物及焊接方法
公开(公告)号：TW201323377A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101135053
申请日：2012-09-25
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：何金生 , HO, KIM SANG , 嘉拉夫麥可K , GALLAGHER, MICHAEL K. , 帝何伯亞文V , DHOBLE, AVIN V. , 溫寇馬克R , WINKLE, MARK R. , 劉向前 , LIU, XIANG-QIAN , 弗萊明大衛D , FLEMING, DAVID D.
IPC分类号： C07C211/36 , B23K35/363 , H05K3/34
CPC分类号： B23K1/203 , B23K1/0016 , B23K1/008 , B23K35/0244 , B23K35/26 , B23K35/34 , B23K35/3601 , B23K35/362 , B23K2201/42 , H05K3/3489
摘要：提供一種助熔劑組成物，包括下列初始成份：羧酸；及式(I)所示之助熔劑：其中，R1、R2、R3和R4係獨立選自氫、經取代之C1-80烷基、未經取代之C1-80烷基、經取代之C7-80芳基烷基及未經取代之C7-80芳基烷基；且其中，R1、R2、R3和R4中的0至3者為氫。此外，亦提供一種使用該助熔劑組成物焊接電氣接點的方法。
简体摘要：提供一种助熔剂组成物，包括下列初始成份：羧酸；及式(I)所示之助熔剂：其中，R1、R2、R3和R4系独立选自氢、经取代之C1-80烷基、未经取代之C1-80烷基、经取代之C7-80芳基烷基及未经取代之C7-80芳基烷基；且其中，R1、R2、R3和R4中的0至3者为氢。此外，亦提供一种使用该助熔剂组成物焊接电气接点的方法。

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