专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI383951B 包含動作溶液之再生步驟的過氧化氫之製造方法有权
简体标题：包含动作溶液之再生步骤的过氧化氢之制造方法
公开(公告)号：TWI383951B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW096111191
申请日：2007-03-30
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：堺谷久 , SAKAITANI, HISASHI , 井浦克弘 , IURA KATSUHIRO , 荻原猪佐夫 , HAGIWARA, ISAO , 松井勉 , MATSUI TSUTOMU , 北田大介 , KITADA, DAISUKE
IPC分类号： C01B15/023
CPC分类号： C01B15/023 , B01J21/04 , B01J21/12

2. 发明专利

TW201836972A 過氧化氫之製造方法审中-公开
简体标题：过氧化氢之制造方法
公开(公告)号：TW201836972A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107105107
申请日：2018-02-13
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：松本倫太朗 , MATSUMOTO, RINTARO , 池田英俊 , IKEDA, HIDETOSHI , 茂田耕平 , SHIGETA, KOHEI
IPC分类号： C01B15/023 , C01B15/013
摘要：於使用蒽醌類之過氧化氫之製造方法中，以最大限度利用氫化觸媒的活性。一種過氧化氫之製造方法，包括下列步驟： (A)對於氫化反應器供給含有蒽醌類與溶劑之工作溶液、及氫化觸媒； (B)氫化步驟，於氫化反應器中供給富含氫氣之氣體，將工作溶液中含有的蒽醌類予以還原，並使蒽氫醌類生成； (C)從氫化反應器排出含有蒽氫醌類與溶劑之工作溶液、及耗竭氫氣之氣體； (D)氧化步驟，將於步驟(C)排出之工作溶液中之蒽氫醌類轉化為蒽醌類，並使過氧化氫生成； (E)萃取步驟，將過氧化氫從工作溶液分離；及 (F)循環步驟，使在步驟(E)已萃取出過氧化氫之工作溶液之至少一部分回到步驟(B)；其特徵為：更包括(G)步驟，將步驟(B)中的工作溶液中的水的濃度維持在相對於飽和量為20%~160%。
简体摘要：于使用蒽醌类之过氧化氢之制造方法中，以最大限度利用氢化触媒的活性。一种过氧化氢之制造方法，包括下列步骤： (A)对于氢化反应器供给含有蒽醌类与溶剂之工作溶液、及氢化触媒； (B)氢化步骤，于氢化反应器中供给富含氢气之气体，将工作溶液中含有的蒽醌类予以还原，并使蒽氢醌类生成； (C)从氢化反应器排出含有蒽氢醌类与溶剂之工作溶液、及耗竭氢气之气体； (D)氧化步骤，将于步骤(C)排出之工作溶液中之蒽氢醌类转化为蒽醌类，并使过氧化氢生成； (E)萃取步骤，将过氧化氢从工作溶液分离；及 (F)循环步骤，使在步骤(E)已萃取出过氧化氢之工作溶液之至少一部分回到步骤(B)；其特征为：更包括(G)步骤，将步骤(B)中的工作溶液中的水的浓度维持在相对于饱和量为20%~160%。

3. 发明专利

TWI443063B 用於製造過氧化氫之作用溶液的再生觸媒之製造方法有权
简体标题：用于制造过氧化氢之作用溶液的再生触媒之制造方法
公开(公告)号：TWI443063B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW097119832
申请日：2008-05-29
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：長谷川浩 , HASEGAWA, HIROSHI , 井浦克弘 , IURA, KATSUHIRO , 萩原猪佐夫 , HAGIWARA, ISAO
IPC分类号： C01B15/023 , B01J21/04 , B01J37/02 , B01J37/08
CPC分类号： B01J21/10 , B01J21/04 , B01J23/002 , B01J23/02 , B01J23/58 , B01J37/0201 , B01J37/0205 , B01J37/06 , B01J2523/00 , C01B15/023 , Y02P20/584 , B01J2523/22 , B01J2523/31

4. 发明专利

TW201807184A 組成物、組成物收容體、及組成物的製造方法审中-公开
简体标题：组成物、组成物收容体、及组成物的制造方法
公开(公告)号：TW201807184A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106114031
申请日：2017-04-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：上村哲也 , KAMIMURA, TETSUYA
IPC分类号： C11D7/18 , C11D7/16 , C11D7/26 , C01B15/023 , H01L21/67 , H01L21/02 , G03F7/42
CPC分类号： C01B15/023 , C11D7/02 , C11D7/08 , C11D7/26 , H01L21/304
摘要：本發明的課題是提供一種能夠用於製造半導體器件且含有過氧化氫之組成物，並且保存穩定性優異且對半導體基板的缺陷影響小之組成物。又，本發明的另一課題是提供一種含有上述過氧化氫之組成物的製造方法及保管有上述組成物之組成物收容體。本發明的組成物含有過氧化氫、酸及Fe成分，上述Fe成分的含量相對於上述酸的含量，以質量比計為10-5～102。
简体摘要：本发明的课题是提供一种能够用于制造半导体器件且含有过氧化氢之组成物，并且保存稳定性优异且对半导体基板的缺陷影响小之组成物。又，本发明的另一课题是提供一种含有上述过氧化氢之组成物的制造方法及保管有上述组成物之组成物收容体。本发明的组成物含有过氧化氢、酸及Fe成分，上述Fe成分的含量相对于上述酸的含量，以质量比计为10-5～102。

5. 发明专利

TW202010706A 過氧化氫水溶液之製造方法审中-公开
简体标题：过氧化氢水溶液之制造方法
公开(公告)号：TW202010706A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108123553
申请日：2019-07-04
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：茂田耕平 , SHIGETA, KOHEI , 松本倫太朗 , MATSUMOTO, RINTARO , 田崎賢 , TASAKI, KEN
IPC分类号： C01B15/013 , C01B15/023 , B01D11/04 , B01D61/36 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/02
摘要：本發明提供一種有效率的過氧化氫之製造方法，係循環使用含有蒽醌類作為反應介質之工作溶液，並包括氫化步驟、氧化步驟及萃取步驟，且包括利用沸石膜對由萃取步驟獲得之過氧化氫萃取後工作溶液進行處理之步驟。
简体摘要：本发明提供一种有效率的过氧化氢之制造方法，系循环使用含有蒽醌类作为反应介质之工作溶液，并包括氢化步骤、氧化步骤及萃取步骤，且包括利用沸石膜对由萃取步骤获得之过氧化氢萃取后工作溶液进行处理之步骤。

6. 发明专利

TW201840467A 氧化塔及具有氧化塔之過氧化氫製造裝置审中-公开
简体标题：氧化塔及具有氧化塔之过氧化氢制造设备
公开(公告)号：TW201840467A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105112
申请日：2018-02-13
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：茂田耕平 , SHIGETA, KOHEI , 池田英俊 , IKEDA, HIDETOSHI
IPC分类号： C01B15/023 , B01J10/00 , B01J19/24
摘要：本發明之課題在於提供防止過氧化氫蓄積在至少最下側的小氧化塔的下部的氧化塔、及使用此氧化塔之過氧化氫製造裝置。本發明係關於氧化塔10，其係為了在利用蒽醌法製造過氧化氫時使工作溶液與空氣接觸而使用。氧化塔10由沿上下方向連結的3個小氧化塔12a~12c構成。至少最下側的小氧化塔12c係以使工作溶液與空氣向流接觸的方式構成。其餘的小氧化塔12a、12b係以使工作溶液與空氣並流接觸的方式構成。
简体摘要：本发明之课题在于提供防止过氧化氢蓄积在至少最下侧的小氧化塔的下部的氧化塔、及使用此氧化塔之过氧化氢制造设备。本发明系关于氧化塔10，其系为了在利用蒽醌法制造过氧化氢时使工作溶液与空气接触而使用。氧化塔10由沿上下方向链接的3个小氧化塔12a~12c构成。至少最下侧的小氧化塔12c系以使工作溶液与空气向流接触的方式构成。其余的小氧化塔12a、12b系以使工作溶液与空气并流接触的方式构成。

7. 发明专利

TW201836973A 利用蒽醌法的過氧化氫製造方法及製造系統审中-公开
简体标题：利用蒽醌法的过氧化氢制造方法及制造系统
公开(公告)号：TW201836973A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107105109
申请日：2018-02-13
申请人：日商三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：池田英俊 , IKEDA, HIDETOSHI , 茂田耕平 , SHIGETA, KOHEI , 松本倫太朗 , MATSUMOTO, RINTARO
IPC分类号： C01B15/023 , C01B15/013
摘要：本發明的課題在於提供安全性高的利用蒽醌法的過氧化氫之製造方法及製造系統。一種過氧化氫之製造方法，包括下列步驟： (A)氫化步驟，對於氫化反應器供給含有蒽醌類與溶劑之工作溶液、氫化觸媒、及含氫氣體，將蒽醌類予以還原並生成蒽氫醌類； (B)氧化步驟，在氧化塔將來自步驟(A)的工作溶液中含有的蒽氫醌類轉化為蒽醌類，並生成過氧化氫； (C)萃取步驟，將來自步驟(B)的工作溶液中含有的過氧化氫從工作溶液分離； (D)精工步驟，將來自步驟(C)之過氧化氫予以精製、濃縮； (E)循環步驟，使來自步驟(C)之工作溶液之至少一部分回到步驟(A)；更包括(F)步驟，從氧化塔下部抽出在步驟(B)生成之氧化排水及工作溶液之一部分作為抽出液，將抽出液分離為工作溶液與過氧化氫，並將分離出的工作溶液送往步驟(B)。
简体摘要：本发明的课题在于提供安全性高的利用蒽醌法的过氧化氢之制造方法及制造系统。一种过氧化氢之制造方法，包括下列步骤： (A)氢化步骤，对于氢化反应器供给含有蒽醌类与溶剂之工作溶液、氢化触媒、及含氢气体，将蒽醌类予以还原并生成蒽氢醌类； (B)氧化步骤，在氧化塔将来自步骤(A)的工作溶液中含有的蒽氢醌类转化为蒽醌类，并生成过氧化氢； (C)萃取步骤，将来自步骤(B)的工作溶液中含有的过氧化氢从工作溶液分离； (D)精工步骤，将来自步骤(C)之过氧化氢予以精制、浓缩； (E)循环步骤，使来自步骤(C)之工作溶液之至少一部分回到步骤(A)；更包括(F)步骤，从氧化塔下部抽出在步骤(B)生成之氧化排水及工作溶液之一部分作为抽出液，将抽出液分离为工作溶液与过氧化氢，并将分离出的工作溶液送往步骤(B)。

8. 发明专利

TWI462874B 過氧化氫之製造方法有权
简体标题：过氧化氢之制造方法
公开(公告)号：TWI462874B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW096121288
申请日：2007-06-13
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：堺谷久 , SAKAITANI, HISASHI , 井浦克弘 , IURA, KATSUHIRO , 萩原猪佐夫 , HAGIWARA, ISAO , 長谷川浩 , HASEGAWA, HIROSHI , 松田久 , MATSUDA, HISASHI
IPC分类号： C01B15/023
CPC分类号： C01B15/023

9. 发明专利

TWI405715B 氫化觸媒之活化方法及包含該方法之過氧化氫之製造方法有权
简体标题：氢化触媒之活化方法及包含该方法之过氧化氢之制造方法
公开(公告)号：TWI405715B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW096114540
申请日：2007-04-25
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：長谷川浩 , HASEGAWA, HIROSHI , 井浦克弘 , IURA, KATSUHIRO , 萩原猪佐夫 , HAGIWARA, ISAO , 澤本真次郎 , SAWAMOTO, SHINJIRO
IPC分类号： C01B15/023 , B01J38/64
CPC分类号： C01B15/023 , B01J21/08 , B01J23/44 , B01J23/58 , B01J23/96 , B01J38/56 , B01J38/64 , Y02P20/584

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式