专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201536848A 脫模劑审中-公开
简体标题：脱模剂
公开(公告)号：TW201536848A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103110720
申请日：2014-03-21
申请人：台氟科技股份有限公司
发明人：張容瑋 , CHANG, JUNG WEI , 邱人仁 , CHIOU, REN REN , 何日興 , HO, JIH HSIH
IPC分类号： C08L101/12 , C08L101/02 , B29C33/62
摘要：一種脫模劑，係至少由含氟單體、丙烯酸酯單體以及酸基單體所共聚而成；藉此，可達到具有與長鏈氟烷共聚物相近的脫模性能及壽命。
简体摘要：一种脱模剂，系至少由含氟单体、丙烯酸酯单体以及酸基单体所共聚而成；借此，可达到具有与长链氟烷共聚物相近的脱模性能及寿命。

2. 发明专利

TW201527063A 模具及模具鍍膜方法审中-公开
简体标题：模具及模具镀膜方法
公开(公告)号：TW201527063A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103100295
申请日：2014-01-03
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：戴豐源 , DAI, FENG YUEN , 劉日成 , LIU, JIH CHEN , 葉鴻鍊 , YEH, HUNG LIEN , 王仲培 , WANG, CHUNG PEI
IPC分类号： B29C33/62 , C08G65/336 , B05D5/08
摘要：一種模具，具有模穴，所述模穴表面具有自組裝單分子含氟聚合物膜層，所述自組裝單分子含氟聚合物膜層通過矽氧鍵鍵合於所述模穴的表面。本發明還涉及一種模具鍍膜方法。
简体摘要：一种模具，具有模穴，所述模穴表面具有自组装单分子含氟聚合物膜层，所述自组装单分子含氟聚合物膜层通过硅氧键键合于所述模穴的表面。本发明还涉及一种模具镀膜方法。

3. 发明专利

TWI457401B 含有烯烴系聚合體蠟之樹脂組成物有权
简体标题：含有烯烃系聚合体蜡之树脂组成物
公开(公告)号：TWI457401B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW098120218
申请日：2009-06-17
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：栗原舞 , KURIHARA, MAI , 川邊邦昭 , KAWABE, KUNIAKI , 江藤彰紀 , ETOH, AKINORI , 伊藤俊幸 , ITOU, TOSHIYUKI
IPC分类号： C08L91/06 , C08L101/12 , C08L45/00 , C08L23/04 , C08K3/00 , C08J5/00 , B29C33/62
CPC分类号： C08L77/00 , C08L23/0823 , C08L45/00 , C08L69/00 , C08L91/06 , C08L101/00 , C08L2666/04 , C08L2666/06

4. 发明专利

TW201404818A 壓印材料审中-公开
简体标题：压印材料
公开(公告)号：TW201404818A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102114622
申请日：2013-04-24
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：加藤拓 , KATO, TAKU , 小林淳平 , KOBAYASHI, JUNPEI , 首藤圭介 , SHUTO, KEISUKE , 鈴木正睦 , SUZUKI, MASAYOSHI
IPC分类号： C08L33/14 , C08L83/04 , B29C59/02 , B29C33/62
CPC分类号： C08L33/14 , B32B3/30 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08L33/08 , G03F7/0002 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/0757 , H01L27/14625 , H01L31/02167 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802
摘要：本發明之課題為提供透明且均勻之清漆形態、在評估塗膜之密合性的交叉切割試驗中並無剝離、且會形成可達成脫模力為0.5g/cm以下之膜之壓印材料。其解決手段為一種壓印材料，其含有：(A)成分：具有至少1個碳原子數2、3或4之環氧烷單元、且具有至少2個聚合性基之化合物；(B)成分：光聚合起始劑；(C)成分：使薄膜基材之表面部膨潤或溶解之溶劑；及(D)成分：聚矽氧化合物。
简体摘要：本发明之课题为提供透明且均匀之清漆形态、在评估涂膜之密合性的交叉切割试验中并无剥离、且会形成可达成脱模力为0.5g/cm以下之膜之压印材料。其解决手段为一种压印材料，其含有：(A)成分：具有至少1个碳原子数2、3或4之环氧烷单元、且具有至少2个聚合性基之化合物；(B)成分：光聚合起始剂；(C)成分：使薄膜基材之表面部膨润或溶解之溶剂；及(D)成分：聚硅氧化合物。

5. 发明专利

TWI534197B 聚丁烯對苯二甲酸酯樹脂組成物及其粒料有权
简体标题：聚丁烯对苯二甲酸酯树脂组成物及其粒料
公开(公告)号：TWI534197B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW100143072
申请日：2011-11-24
申请人：胜技高分子股份有限公司 , WINTECH POLYMER LTD.
发明人：土居久美子 , DOI, KUMIKO
IPC分类号： C08L67/02 , B29C33/62 , C08K5/103
CPC分类号： C08K5/10 , C08G65/3322 , C08G2650/54 , C08L67/02 , C08L71/00 , Y10T428/2998

6. 发明专利

TW201540486A 複合材料外殼之製造方法审中-公开
简体标题：复合材料外壳之制造方法
公开(公告)号：TW201540486A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103114983
申请日：2014-04-25
申请人：明安國際企業股份有限公司 , ADVANCED INTERNATIONAL MULTITECH CO., LTD.
发明人：蔡昌宏
IPC分类号： B29C70/06 , B29C33/62 , B29C47/78
摘要：一種複合材料外殼之製造方法，包含一塑型步驟、一置料步驟、一熱壓步驟，及一取料步驟。在該塑型步驟中，將一第一離型膠膜塑型為一貼合一母模的吸塑盒。在該置料步驟中，將一預浸基材置於該吸塑盒內，並覆蓋一第二離型膠膜於該母模上。在該熱壓步驟中，將該母模與一公模合模並進行熱壓成型，使該預浸基材被擠壓成一外殼。在該取料步驟中，打開該公、母模將該吸塑盒及該第二離型膠膜直接取出，並待冷卻後再打開該吸塑盒及該第二離型膠膜以取出該外殼。藉由前述步驟使該預浸基材內含的樹脂不會黏附於該模具內，並減少耗時及工序。
简体摘要：一种复合材料外壳之制造方法，包含一塑型步骤、一置料步骤、一热压步骤，及一取料步骤。在该塑型步骤中，将一第一离型胶膜塑型为一贴合一母模的吸塑盒。在该置料步骤中，将一预浸基材置于该吸塑盒内，并覆盖一第二离型胶膜于该母模上。在该热压步骤中，将该母模与一公模合模并进行热压成型，使该预浸基材被挤压成一外壳。在该取料步骤中，打开该公、母模将该吸塑盒及该第二离型胶膜直接取出，并待冷却后再打开该吸塑盒及该第二离型胶膜以取出该外壳。借由前述步骤使该预浸基材内含的树脂不会黏附于该模具内，并减少耗时及工序。

7. 发明专利

TWI503365B 壓印材料有权
简体标题：压印材料
公开(公告)号：TWI503365B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW102114622
申请日：2013-04-24
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：加藤拓 , KATO, TAKU , 小林淳平 , KOBAYASHI, JUNPEI , 首藤圭介 , SHUTO, KEISUKE , 鈴木正睦 , SUZUKI, MASAYOSHI
IPC分类号： C08L33/14 , C08L83/04 , B29C59/02 , B29C33/62
CPC分类号： C08L33/14 , B32B3/30 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08L33/08 , G03F7/0002 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/0757 , H01L27/14625 , H01L31/02167 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , Y10T428/24802

8. 发明专利

TWI429524B 在壓印微影術中釋出劑之分隔控制技術有权
简体标题：在压印微影术中发佈剂之分隔控制技术
公开(公告)号：TWI429524B
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW098137572
申请日：2009-11-05
申请人：分子壓模公司 , MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y , XU, FRANK Y. , 盧偉俊 , LIU, WEIJUN
IPC分类号： B29C33/62 , B29C59/02
CPC分类号： C07D237/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C07C233/18 , G03F7/0002

9. 发明专利

TWI687296B 脫模膜及半導體封裝件之製造方法有权
简体标题：脱模膜及半导体封装件之制造方法
公开(公告)号：TWI687296B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW104141131
申请日：2015-12-08
申请人：日商AGC股份有限公司 , AGC INC.
发明人：笠井涉 , KASAI, WATARU , 鈴木政己 , SUZUKI, MASAMI
IPC分类号： B29C33/62 , H01L21/56

10. 发明专利

TW201842096A 表面處理劑及其製造方法审中-公开
简体标题：表面处理剂及其制造方法
公开(公告)号：TW201842096A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107110035
申请日：2018-03-23
申请人：日商尼歐斯股份有限公司 , NEOS CO., LTD.
发明人：平松信志 , HIRAMATSU, SHINJI , 作道翔 , SAKUDO, TAKERU , 宮田公二 , MIYATA, KOJI , 榎並翼 , ENAMI, TSUBASA , 菅田千貴 , SUGATA, CHIYOSHI
IPC分类号： C09D133/06 , C08F220/40 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2/44 , C09D7/40 , C09K3/18 , B29C33/62
摘要：一種表面處理劑，包含以下(I)~(III)中任一項記載的聚合物： (I)包含具有直鏈烴基之至少一種單體作為重複單元的聚合物，該具有直鏈烴基之至少一種單體以通式(I)表示， [化學式1] [式中，R1A為H或甲基，N為1~24]； (II)包含至少一種含氟單體作為重複單元，且含氟單體比率以質量計為15%以上的聚合物，該至少一種含氟單體以通式(II)表示， [化學式2] [式中，RF為以下式(1)或(2)表示之基： [化學式3]；R1B為碳原子數2~50之二價基，R2為H或甲基]； (III) 包含以通式(I)表示之前述具有直鏈烴基之至少一種單體與前述以通式(II)表示之至少一種含氟單體作為重複單元，且前述氟單體比率以質量計為0%以上且15%以下的聚合物。
简体摘要：一种表面处理剂，包含以下(I)~(III)中任一项记载的聚合物： (I)包含具有直链烃基之至少一种单体作为重复单元的聚合物，该具有直链烃基之至少一种单体以通式(I)表示， [化学式1] [式中，R1A为H或甲基，N为1~24]； (II)包含至少一种含氟单体作为重复单元，且含氟单体比率以质量计为15%以上的聚合物，该至少一种含氟单体以通式(II)表示， [化学式2] [式中，RF为以下式(1)或(2)表示之基： [化学式3]；R1B为碳原子数2~50之二价基，R2为H或甲基]； (III) 包含以通式(I)表示之前述具有直链烃基之至少一种单体与前述以通式(II)表示之至少一种含氟单体作为重复单元，且前述氟单体比率以质量计为0%以上且15%以下的聚合物。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式