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1. 发明专利

TW201606092A 濺鍍靶及其製造方法审中-公开
简体标题：溅镀靶及其制造方法
公开(公告)号：TW201606092A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104113527
申请日：2015-04-28
申请人：田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K. , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：譚金光 , THAM, KIM KONG , 山本俊哉 , YAMAMOTO, TOSHIYA , 齊藤伸 , SAITO, SHIN , 日向慎太朗 , HINATA, SHINTARO , 高橋研 , TAKAHASHI, MIGAKU
IPC分类号： C22C19/07 , C22C5/04 , C22C29/12 , C23C14/34 , C22C1/10 , G11B5/64 , G11B5/851 , H01F10/10
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F3/14 , B22F9/04 , B22F9/082 , B22F2301/15 , B22F2301/25 , B22F2302/25 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C04B35/00 , C22C1/0466 , C22C1/05 , C22C1/1084 , C22C5/04 , C22C19/07 , C22F1/10 , C22F1/14 , C23C14/0688 , C23C14/083 , C23C14/14 , C23C14/3414 , C23C14/5806 , C22C2202/02
摘要：提供可製作保磁力Hc為大的磁性薄膜之濺鍍靶及其製造方法。含有金屬Co、金屬Pt、及氧化物而成的濺鍍靶，其係不含有金屬Cr，且前述氧化物為具有WO3及TiO2之中之至少任一方而成。
简体摘要：提供可制作保磁力Hc为大的磁性薄膜之溅镀靶及其制造方法。含有金属Co、金属Pt、及氧化物而成的溅镀靶，其系不含有金属Cr，且前述氧化物为具有WO3及TiO2之中之至少任一方而成。

2. 发明专利

TW201700756A 氧化鐵系強磁性膜及氧化鐵系強磁性膜之製造方法审中-公开
简体标题：氧化铁系强磁性膜及氧化铁系强磁性膜之制造方法
公开(公告)号：TW201700756A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105102703
申请日：2016-01-28
申请人：國立大學法人東京大學 , THE UNIVERSITY OF TOKYO , 學校法人芝浦工業大學 , SHIBAURA INSTITUTE OF TECHNOLOGY , 田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K.
发明人：大越慎一 , OHKOSHI, SHIN-ICHI , 湯本敦史 , YUMOTO, ATSUSHI , 生井飛鳥 , NAMAI, ASUKA , 吉清麻利絵 , YOSHIKIYO, MARIE , 安部史也 , ABE, FUMIYA , 政広泰 , MASAHIRO, YASUSHI
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/08 , H01F10/20 , H01F41/22 , G11B5/64 , G11B5/85
CPC分类号： C23C14/08 , C23C14/24 , G11B5/64 , G11B5/851 , H01F10/20 , H01F41/22
摘要：本發明關於一種氧化鐵系強磁性膜，其係形成於任意基板上且含有氧化鐵的氧化鐵系強磁性膜，並且氧化鐵中的ε相的含有比例為70%以上，結晶粒徑為2nm以上100nm以下。此磁性膜可藉由對將ε相的含有比例為70%以上的氧化鐵粉末燒結而成的靶材照射雷射，使氧化鐵粉末剝蝕，同時以高速使其堆積在基板上而製造。本發明所關連的磁性膜係由以貴金屬系以外的金屬材料為主要成分的新強磁性材料所構成之磁性膜。
简体摘要：本发明关于一种氧化铁系强磁性膜，其系形成于任意基板上且含有氧化铁的氧化铁系强磁性膜，并且氧化铁中的ε相的含有比例为70%以上，结晶粒径为2nm以上100nm以下。此磁性膜可借由对将ε相的含有比例为70%以上的氧化铁粉末烧结而成的靶材照射激光，使氧化铁粉末剥蚀，同时以高速使其堆积在基板上而制造。本发明所关连的磁性膜系由以贵金属系以外的金属材料为主要成分的新强磁性材料所构成之磁性膜。

3. 发明专利

TW201314679A 漸進式記錄媒體及其製作方法审中-公开
简体标题：渐进式记录媒体及其制作方法
公开(公告)号：TW201314679A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW100135265
申请日：2011-09-29
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：賴志煌 , LAI, CHIH HUANG , 侯皓程 , HOU, HAO CHENG , 蔣肇謙 , CHIANG, CHAO CHIEN
IPC分类号： G11B5/65 , G11B5/64
CPC分类号： G11B5/653
摘要：本發明提供一種漸進式記錄媒體，包含：一基板、及一形成該基板上的磁性記錄層。該磁性記錄層含有一FexMnyPtz化學式，並具有一鄰近該基板的下表面及一遠離該基板的上表面；其中，x介於0至65之間，y介於0至65之間，z介於35至60之間，但有條件的是，x+y+z等於100，且x與y不可同時為0；以及其中，x是自該磁性記錄層的上表面朝其下表面遞減，y是自該磁性記錄層的上表面朝其下表面遞增，以致於該磁性記錄層的鐵磁性是自其上表面朝其下表面遞減。本發明亦提供一種前述漸進式記錄媒體的製作方法。
简体摘要：本发明提供一种渐进式记录媒体，包含：一基板、及一形成该基板上的磁性记录层。该磁性记录层含有一FexMnyPtz化学式，并具有一邻近该基板的下表面及一远离该基板的上表面；其中，x介于0至65之间，y介于0至65之间，z介于35至60之间，但有条件的是，x+y+z等于100，且x与y不可同时为0；以及其中，x是自该磁性记录层的上表面朝其下表面递减，y是自该磁性记录层的上表面朝其下表面递增，以致于该磁性记录层的铁磁性是自其上表面朝其下表面递减。本发明亦提供一种前述渐进式记录媒体的制作方法。

4. 发明专利

TWI483246B 具有增強可寫性與熱安定性的磁性記錄媒體及其製造方法有权
简体标题：具有增强可写性与热安定性的磁性记录媒体及其制造方法
公开(公告)号：TWI483246B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW099104743
申请日：2010-02-12
申请人：希捷科技有限公司 , SEAGATE TECHNOLOGY LLC
发明人：卞波 , BIAN, BO , 王首濤 , WANG, SHOUTAO , 徐衛陸 , XU, WEILU , 惠露艾貝比 , HAILU, ABEBE , 盧妙根 , LU, MIAOGEN , 陳長慶 , CHEN, CHARLES C. , 諾倫湯瑪士 , NOLAN, THOMAS PATRICK , 杜賓亞歷山大 , DOBIN, ALEXANDER YULIEVICH
IPC分类号： G11B5/64 , G11B5/66
CPC分类号： G11B5/66 , G11B5/65

5. 发明专利

TW201500563A ＦｅＰｔ－Ｃ系濺鍍靶及其製造方法审中-公开
简体标题：ＦｅＰｔ－Ｃ系溅镀靶及其制造方法
公开(公告)号：TW201500563A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103106476
申请日：2014-02-26
申请人：田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K.
发明人：後藤康之 , GOTO, YASUYUKI , 山本孝充 , YAMAMOTO, TAKAMICHI , 西浦正紘 , NISHIURA, MASAHIRO , 櫛引了輔 , KUSHIBIKI, RYOUSUKE
IPC分类号： C22C5/04 , C22C38/00 , C22C32/00 , C23C14/34 , C22C1/05 , C22C1/10 , C22C33/02 , B22F3/14 , G11B5/64 , G11B5/851 , H01F10/14
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F1/0059 , B22F3/14 , C22C5/04 , C22C26/00 , C22C32/0084 , C23C14/3414 , G11B5/653 , G11B5/851
摘要：本發明提供一種不使用複數種之靶，單獨即可形成能使用作為磁性記錄媒體之含FePt系合金之薄膜，且濺鍍時產生之顆粒少的FePt-C系濺鍍靶。本發明提供一種含有Fe、Pt及C之FePt-C系濺鍍靶，其具有下述構造：在含有33at%以上且60at%以下之Pt且其餘部分由Fe及不可避免雜質所成之FePt系合金相中，使含不可避免雜質之1次粒子之C以彼此不相互接觸之方式分散。
简体摘要：本发明提供一种不使用复数种之靶，单独即可形成能使用作为磁性记录媒体之含FePt系合金之薄膜，且溅镀时产生之颗粒少的FePt-C系溅镀靶。本发明提供一种含有Fe、Pt及C之FePt-C系溅镀靶，其具有下述构造：在含有33at%以上且60at%以下之Pt且其余部分由Fe及不可避免杂质所成之FePt系合金相中，使含不可避免杂质之1次粒子之C以彼此不相互接触之方式分散。

7. 发明专利

TWI507549B ＦｅＰｔ－Ｃ系濺鍍靶及其製造方法有权
简体标题：ＦｅＰｔ－Ｃ系溅镀靶及其制造方法
公开(公告)号：TWI507549B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW103106476
申请日：2014-02-26
申请人：田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K.
发明人：後藤康之 , GOTO, YASUYUKI , 山本孝充 , YAMAMOTO, TAKAMICHI , 西浦正紘 , NISHIURA, MASAHIRO , 櫛引了輔 , KUSHIBIKI, RYOUSUKE
IPC分类号： C22C5/04 , C22C38/00 , C22C32/00 , C23C14/34 , C22C1/05 , C22C1/10 , C22C33/02 , B22F3/14 , G11B5/64 , G11B5/851 , H01F10/14
CPC分类号： H01J37/3429 , B22F1/0059 , B22F3/14 , C22C5/04 , C22C26/00 , C22C32/0084 , C23C14/3414 , G11B5/653 , G11B5/851

8. 发明专利

TWI452571B 漸進式記錄媒體及其製作方法有权
简体标题：渐进式记录媒体及其制作方法
公开(公告)号：TWI452571B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW100135265
申请日：2011-09-29
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：賴志煌 , LAI, CHIH HUANG , 侯皓程 , HOU, HAO CHENG , 蔣肇謙 , CHIANG, CHAO CHIEN
IPC分类号： G11B5/65 , G11B5/64
CPC分类号： G11B5/653

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