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1. 发明专利

TWI435191B 具有立體全像圖的多層體有权
简体标题：具有三維全像图的多层体
公开(公告)号：TWI435191B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW096112252
申请日：2007-04-09
申请人： OVD基尼格蘭股份公司 , OVD KINEGRAM AG
发明人：瑞內史陶伯 , STAUB, RENE , 偉恩羅勃特湯普欽 , TOMPKIN, WAYNE ROBERT , 安德烈亞斯許林 , SCHILLING, ANDREAS , 拉維格布雷瀚 , BREHM, LUDWIG , 亞謙漢森 , HANSEN, ACHIM
IPC分类号： G03H1/26 , G03H1/20 , G02B5/32 , B44F1/12
CPC分类号： G03H1/202 , B42D25/328 , G03H1/0011 , G03H1/0248 , G03H1/26 , G03H2001/0027 , G03H2001/0415 , G03H2001/043 , G03H2001/186 , G03H2001/207 , G03H2001/2635

2. 发明专利

TW201736871A 藉基材導引之重建光束用以工業製作反射式體積型全像片之裝置及其方法审中-公开
简体标题：藉基材导引之重建光束用以工业制作反射式体积型全像片之设备及其方法
公开(公告)号：TW201736871A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105142153
申请日：2016-12-20
申请人：科思創德意志股份有限公司 , COVESTRO DEUTSCHLAND AG
发明人：瑞威茲克利斯坦 , REWITZ, CHRISTIAN , 哈根瑞納 , HAGEN, RAINER , 菲克湯瑪士 , FAECKE, THOMAS , 沃茲詹瑟 , WALZE, GUENTHER , 布魯德弗瑞德里奇卡爾 , BRUDER, FRIEDRICH-KARL
IPC分类号： G02B1/111 , G03H1/04 , G03H1/20
CPC分类号： G03H1/0408 , G02B6/00 , G02B6/34 , G03H1/0248 , G03H1/202 , G03H2001/0415 , G03H2223/16 , G03H2223/18 , G03H2223/25 , G03H2227/03 , G03H2227/04
摘要：本發明有關藉基材導引之重建光束用以製作反射式體積型全像片的裝置(200、300、400、600)，包含：至少一透明、平面式載體元件(210、310、410、610)，包含第一平坦側面(210.1)及另一平坦側面(210.2)；至少一主要元件(206、306、406、606)，可配置在該載體元件(210、310、410、610)之第一平坦側面(210.1)；及至少一光學輸入耦合元件(102、202、302、402、602)，被建構來光學耦合一光束(214、216)；其中製備至少一耦合部份(104、204、304、404、604)，被建構來在該輸入耦合元件(102、202、302、402)、及可提供在該載體元件(210、310、410)之另一平坦側面(210.2)上的至少一全像記錄媒介(208、308、408)之間機械地建立一光學接觸，或被建構來在該載體元件(610)之另一平坦側面、及可提供在該光學輸入耦合元件(602)之平坦側面(605)上的至少一全像記錄媒介(608)之間機械地建立一光學接觸；其中至少該耦合部份(104、204、304、404、604)係由具有在1000Pa及50MPa之間、較佳地係於30,010Pa及30MPa之間的剪切模數之材料所形成。
简体摘要：本发明有关藉基材导引之重建光束用以制作反射式体积型全像片的设备(200、300、400、600)，包含：至少一透明、平面式载体组件(210、310、410、610)，包含第一平坦侧面(210.1)及另一平坦侧面(210.2)；至少一主要组件(206、306、406、606)，可配置在该载体组件(210、310、410、610)之第一平坦侧面(210.1)；及至少一光学输入耦合组件(102、202、302、402、602)，被建构来光学耦合一光束(214、216)；其中制备至少一耦合部份(104、204、304、404、604)，被建构来在该输入耦合组件(102、202、302、402)、及可提供在该载体组件(210、310、410)之另一平坦侧面(210.2)上的至少一全像记录媒介(208、308、408)之间机械地创建一光学接触，或被建构来在该载体组件(610)之另一平坦侧面、及可提供在该光学输入耦合组件(602)之平坦侧面(605)上的至少一全像记录媒介(608)之间机械地创建一光学接触；其中至少该耦合部份(104、204、304、404、604)系由具有在1000Pa及50MPa之间、较佳地系于30,010Pa及30MPa之间的剪切模数之材料所形成。

4. 发明专利

TW201640235A 製造全像光學元件的方法审中-公开
简体标题：制造全像光学组件的方法
公开(公告)号：TW201640235A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：TW105112652
申请日：2016-04-22
申请人： LG顯示器股份有限公司 , LG DISPLAY CO., LTD. , 科思創德國股份有限公司 , COVESTRO DEUTSCHLAND AG
发明人：方炯錫 , BANG, HYUNGSEOK , 林希珍 , IM, HEEJIN , 李根植 , LEE, GUENSIK , 包德芬德里奇卡爾 , BRUDER, FRIEDRICH-KARL , 法可湯瑪士彼得 , 韋斯馬克史蒂芬 , WEISER, MARC-STEPHAN , 何根理納 , HAGEN, RAINER , 羅勒湯瑪士 , 博納斯豪斯特 , BERNETH, HORST , 侯內爾丹尼斯 , 瓦哲谷瑟
IPC分类号： G03H1/20
CPC分类号： G03H1/0402 , G02B5/32 , G03H1/0252 , G03H1/0272 , G03H1/04 , G03H1/0486 , G03H2001/026 , G03H2001/0264 , G03H2001/043 , G03H2001/0439 , G03H2240/43 , G03H2240/52 , G03H2240/55 , G03H2270/11
摘要：本發明涉及一種製造全像光學元件的方法，該方法包括：提供一記錄堆疊體，該記錄堆疊體包含至少一記錄元件，該至少一記錄元件層疊在至少一支承元件上；在一照射步驟中，使用至少一寫入光束照射該記錄堆疊體的一部分，其中在該照射步驟期間該記錄堆疊體彎曲；提供對於該記錄堆疊體的一彎曲偏離閾值；以及調整至少一第一程序參數，致使該記錄堆疊體的一預期的最高彎曲偏離不會超過該彎曲偏離閾值，其中該至少一第一程序參數在該照射步驟期間影響該記錄堆疊體的彎曲行為。
简体摘要：本发明涉及一种制造全像光学组件的方法，该方法包括：提供一记录堆栈体，该记录堆栈体包含至少一记录组件，该至少一记录组件层叠在至少一支承组件上；在一照射步骤中，使用至少一写入光束照射该记录堆栈体的一部分，其中在该照射步骤期间该记录堆栈体弯曲；提供对于该记录堆栈体的一弯曲偏离阈值；以及调整至少一第一进程参数，致使该记录堆栈体的一预期的最高弯曲偏离不会超过该弯曲偏离阈值，其中该至少一第一进程参数在该照射步骤期间影响该记录堆栈体的弯曲行为。

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