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1. 发明专利

TW201529485A 一種提升ｐＨ値加強含氯有機物降解之氧化法审中-公开
简体标题：一种提升ｐＨ値加强含氯有机物降解之氧化法
公开(公告)号：TW201529485A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103102514
申请日：2014-01-23
申请人：國立暨南國際大學 , NATIONAL CHI-NAN UNIVERSITY
发明人：陳谷汎 , CHEN, KU FAN , 劉冠余 , LIU, KUAN YU , 張育禎 , CHANG, YU CHEN
IPC分类号： C02F1/72 , C02F1/66 , C01B15/08 , C02F101/36
摘要：一種提升pH值加強含氯有機物降解之氧化法，其方法為：於含氯有機物濃度為每公升50毫克的污染水中添加1%過硫酸鹽及20克至100克的爐石，能利用爐石將污染水的pH值提升達12至13，使過硫酸鹽產生鹼活化反應，藉以提高過硫酸鹽對含氯有機物之降解效果，並防止土壤重金屬溶出造成二次污染。
简体摘要：一种提升pH值加强含氯有机物降解之氧化法，其方法为：于含氯有机物浓度为每公升50毫克的污染水中添加1%过硫酸盐及20克至100克的炉石，能利用炉石将污染水的pH值提升达12至13，使过硫酸盐产生碱活化反应，借以提高过硫酸盐对含氯有机物之降解效果，并防止土壤重金属溶出造成二次污染。

2. 发明专利

TW201627538A 一種抗氧化微蝕劑审中-公开
简体标题：一种抗氧化微蚀剂
公开(公告)号：TW201627538A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104102956
申请日：2015-01-29
申请人：清英實業有限公司
发明人：胡庶鼎
IPC分类号： C23G1/02 , C01B15/08 , C01G9/06 , C01B17/69 , H05K3/00
摘要：本發明提供一種抗氧化微蝕劑，包括：1~40重量%過硫酸鈉(SPS sodium persulfate)；1~40重量%硫酸鋅(Zinc sulfate)；5~20重量%硫酸(sulfate)；0.5~5重量%多元醇類(polypropylene glycol)；以及其餘為純水(pure water)。該抗氧化微蝕劑具以下功效：延緩印刷電路板表面上抗氧化劑之裂解速率；增強所微蝕印刷電路板表面銅之抗氧化能力且延長其被氧化時間；以及使經微蝕印刷電路板之銅表面凹凸粗化而一致。該抗氧化微蝕劑可用於蝕刻各種材質。
简体摘要：本发明提供一种抗氧化微蚀剂，包括：1~40重量%过硫酸钠(SPS sodium persulfate)；1~40重量%硫酸锌(Zinc sulfate)；5~20重量%硫酸(sulfate)；0.5~5重量%多元醇类(polypropylene glycol)；以及其余为纯水(pure water)。该抗氧化微蚀剂具以下功效：延缓印刷电路板表面上抗氧化剂之裂解速率；增强所微蚀印刷电路板表面铜之抗氧化能力且延长其被氧化时间；以及使经微蚀印刷电路板之铜表面凹凸粗化而一致。该抗氧化微蚀剂可用于蚀刻各种材质。

3. 发明专利

TW201514342A 銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物审中-公开
简体标题：铜及钼含有膜的蚀刻液组合物
公开(公告)号：TW201514342A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103133055
申请日：2014-09-24
申请人：易安愛富科技有限公司 , ENF TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：金世訓 , KIM, SEHOON , 李寶妍 , LEE, BOYEON , 李恩慶 , LEE, EUNKYUNG , 金澀琪 , KIM, SEULKI , 殷熙天 , EUN, HEECHUN , 申孝燮 , SHIN, HYOSEOP
IPC分类号： C23F1/44 , C23F1/18 , C23F1/26 , C01B15/01 , C01B15/08 , H01L21/28 , H01L29/786 , G02F1/13
摘要：本發明涉及一種蝕刻液組合物，在蝕刻含有銅及鉬的膜時，即使銅膜的厚度較厚，也可加快銅膜蝕刻的速度，維持鉬含有膜較高的蝕刻速度，防止配線段不良。所述蝕刻液組合物是含有作為氧化劑的過氧化氫和過硫酸鹽的銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物，其特徵在於，相對於所述過氧化氫100重量份，含有0.5~10重量份的所述過硫酸鹽。
简体摘要：本发明涉及一种蚀刻液组合物，在蚀刻含有铜及钼的膜时，即使铜膜的厚度较厚，也可加快铜膜蚀刻的速度，维持钼含有膜较高的蚀刻速度，防止配线段不良。所述蚀刻液组合物是含有作为氧化剂的过氧化氢和过硫酸盐的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于所述过氧化氢100重量份，含有0.5~10重量份的所述过硫酸盐。

4. 发明专利

TWI439571B 硫酸之電解裝置、電解方法及基板之處理裝置有权
简体标题：硫酸之电解设备、电解方法及基板之处理设备
公开(公告)号：TWI439571B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW097100796
申请日：2008-01-09
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION , 東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA , 培爾梅烈克電極股份有限公司 , PERMELEC ELECTRODE LTD.
发明人：小林信雄 , KOBAYASHI, NOBUO , 柴田幸弘 , SHIBATA, YUKIHIRO , 速水直哉 , HAYAMIZU, NAOYA , 加藤昌明 , KATO, MASAAKI
IPC分类号： C25B9/00 , C25B1/28 , C01B15/08
CPC分类号： C25B1/285 , H01L21/67051

5. 发明专利

TWI571432B 用以活化過硫酸鹽之活化劑及其應用有权
简体标题：用以活化过硫酸盐之活化剂及其应用
公开(公告)号：TWI571432B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW105113500
申请日：2016-04-29
申请人：臺灣塑膠工業股份有限公司 , FORMOSA PLASTICS CORPORATION
发明人：郭育嘉 , KUO, YU CHIA , 陳敬遠 , CHEN, CHING YUAN , 楊博名 , YANG, PO MING , 陳博明 , CHEN, PO MIN , 洪萬墩 , HUNG, WAN TUN , 黃慶連 , HUANG, CHIN LIEN
IPC分类号： C01B15/08 , C02F1/72 , C02F103/06 , C02F101/30

6. 发明专利

TWI560319B 銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物有权
简体标题：铜及钼含有膜的蚀刻液组合物
公开(公告)号：TWI560319B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW103133055
申请日：2014-09-24
申请人：易安愛富科技有限公司 , ENF TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：金世訓 , KIM, SEHOON , 李寶妍 , LEE, BOYEON , 李恩慶 , LEE, EUNKYUNG , 金澀琪 , KIM, SEULKI , 殷熙天 , EUN, HEECHUN , 申孝燮 , SHIN, HYOSEOP
IPC分类号： C23F1/44 , C23F1/18 , C23F1/26 , C01B15/01 , C01B15/08 , H01L21/28 , H01L29/786 , G02F1/13

7. 发明专利

TW201808794A 用以活化過硫酸鹽之活化劑及其應用审中-公开
简体标题：用以活化过硫酸盐之活化剂及其应用
公开(公告)号：TW201808794A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW105113500
申请日：2016-04-29
申请人：臺灣塑膠工業股份有限公司 , FORMOSA PLASTICS CORPORATION
发明人：郭育嘉 , KUO, YU CHIA , 陳敬遠 , CHEN, CHING YUAN , 楊博名 , YANG, PO MING , 陳博明 , CHEN, PO MIN , 洪萬墩 , HUNG, WAN TUN , 黃慶連 , HUANG, CHIN LIEN
IPC分类号： C01B15/08 , C02F1/72 , C02F103/06 , C02F101/30
摘要：本發明有關於一種用以活化過硫酸鹽之活化劑。此活化劑包含螯合劑以及由金屬材料所組成之活化物質。其中，活化物質與螯合劑之重量比為1：1至1：3，且此活化劑不包含鹼劑。所製得之活化劑可用以活化過硫酸鹽，進可去除污染物。
简体摘要：本发明有关于一种用以活化过硫酸盐之活化剂。此活化剂包含螯合剂以及由金属材料所组成之活化物质。其中，活化物质与螯合剂之重量比为1：1至1：3，且此活化剂不包含碱剂。所制得之活化剂可用以活化过硫酸盐，进可去除污染物。

8. 发明专利

TWI570071B 一種提升ｐＨ値加強含氯有機物降解之氧化法有权
简体标题：一种提升ｐＨ値加强含氯有机物降解之氧化法
公开(公告)号：TWI570071B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW103102514
申请日：2014-01-23
申请人：國立暨南國際大學 , NATIONAL CHI-NAN UNIVERSITY
发明人：陳谷汎 , CHEN, KU FAN , 劉冠余 , LIU, KUAN YU , 張育禎 , CHANG, YU CHEN
IPC分类号： C02F1/72 , C02F1/66 , C01B15/08 , C02F101/36

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