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1. 发明专利

TW389816B 雙回流止回閥、真空下水道污水系統及避免流體回流之方法失效
简体标题：双回流止回阀、真空下水道污水系统及避免流体回流之方法
公开(公告)号：TW389816B
公开(公告)日：2000-05-11
申请号：TW087121080
申请日：1998-12-17
申请人：亞爾維克股份有限公司
发明人：布頓.菲樂林 , 約翰.古姆斯
IPC分类号： E03D , F16K
CPC分类号： F16K11/052 , E03F1/006 , F16K15/03 , Y10T137/0396 , Y10T137/2567 , Y10T137/3109
摘要：使用於真空下水道污物系統之雙回流止回閥，於此止回閥包括有一個閥體與一個閥瓣軸旋地裝置在閥體之內，閥體有一個主要（支）導管及一個次要（服務）導管一以一個銳角進入主要導管，主要導管有一上游部位形成一主要入口進至閥體以及一下游部位形成一主要出口從閥體出去，並且，次要導管形成一次要入口進入閥體。閥瓣是以軸旋式介於兩個位置之間，一個第一位置，在此位置要防止流體進入次要導管，而一個第二位置，在此位置要阻止流體進入主要導管的上游部位。最佳的方式乃是；止回閥之主要導管及次要導管在真空下水道污物系統中皆朝向於一個實際上之水平面。
简体摘要：使用于真空下水道污物系统之双回流止回阀，于此止回阀包括有一个阀体与一个阀瓣轴旋地设备在阀体之内，阀体有一个主要（支）导管及一个次要（服务）导管一以一个锐角进入主要导管，主要导管有一上游部位形成一主要入口进至阀体以及一下游部位形成一主要出口从阀体出去，并且，次要导管形成一次要入口进入阀体。阀瓣是以轴旋式介于两个位置之间，一个第一位置，在此位置要防止流体进入次要导管，而一个第二位置，在此位置要阻止流体进入主要导管的上游部位。最佳的方式乃是；止回阀之主要导管及次要导管在真空下水道污物系统中皆朝向于一个实际上之水平面。

2. 发明专利

TWI503500B 氣體供給方法有权
简体标题：气体供给方法
公开(公告)号：TWI503500B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW098141327
申请日：2009-12-03
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：坂根誠 , SAKANE, MAKOTO , 米田隆 , YONEDA, TAKASHI , 伊藤吉則 , ITO, YOSHINORI
IPC分类号： F17C7/00 , H01L21/02
CPC分类号： F17C5/06 , F17C7/00 , F17C2205/0142 , F17C2205/0323 , F17C2223/0123 , F17C2223/033 , F17C2223/035 , F17C2227/048 , F17C2250/043 , F17C2250/0443 , F17C2270/0171 , Y10T137/0379 , Y10T137/0396 , Y10T137/2567 , Y10T137/2569 , Y10T137/469 , Y10T137/4874

3. 发明专利

TW201028586A 氣體供給方法审中-公开
简体标题：气体供给方法
公开(公告)号：TW201028586A
公开(公告)日：2010-08-01
申请号：TW098141327
申请日：2009-12-03
申请人：大陽日酸股份有限公司
发明人：坂根誠 , 米田隆 , 伊藤吉則
IPC分类号： F17C , H01L
CPC分类号： F17C5/06 , F17C7/00 , F17C2205/0142 , F17C2205/0323 , F17C2223/0123 , F17C2223/033 , F17C2223/035 , F17C2227/048 , F17C2250/043 , F17C2250/0443 , F17C2270/0171 , Y10T137/0379 , Y10T137/0396 , Y10T137/2567 , Y10T137/2569 , Y10T137/469 , Y10T137/4874
摘要：本發明係提供可有效利用氣體容器內之氣體的氣體供給方法。根據氣體使用處的最大流量(第1設定流量(Q1))與最小流量(第2設定流量(Q2))、可依第1設定流量(Q1)進行氣體供給的第1設定壓力(P1)、可依第2設定流量(Q2)進行氣體供給的第2設定壓力(P2)、高於第1設定壓力(P1)的第3設定壓力(P3)、各氣體容器(SA、SB)內的殘壓(PA、PB)、供給氣體流量(Q)、以及殘壓(PA、PB)與可供給氣體流量(QPA、QPB)間之關係，監視殘壓(PA、PB)與供給氣體流量(Q)，切換來自第1氣體容器(SA)與第2氣體容器(SB)的氣體供給。
简体摘要：本发明系提供可有效利用气体容器内之气体的气体供给方法。根据气体使用处的最大流量(第1设置流量(Q1))与最小流量(第2设置流量(Q2))、可依第1设置流量(Q1)进行气体供给的第1设置压力(P1)、可依第2设置流量(Q2)进行气体供给的第2设置压力(P2)、高于第1设置压力(P1)的第3设置压力(P3)、各气体容器(SA、SB)内的残压(PA、PB)、供给气体流量(Q)、以及残压(PA、PB)与可供给气体流量(QPA、QPB)间之关系，监视残压(PA、PB)与供给气体流量(Q)，切换来自第1气体容器(SA)与第2气体容器(SB)的气体供给。

4. 发明专利

TW457412B 真空壓力調整裝置有权
简体标题：真空压力调整设备
公开(公告)号：TW457412B
公开(公告)日：2001-10-01
申请号：TW089102458
申请日：2000-02-15
申请人： SMC股份有限公司
发明人：上原照雄 , 白根隆 , 熊直樹
IPC分类号： G05D , B65G
CPC分类号： G05D16/0663 , B65G47/917 , Y10S137/907 , Y10T137/2567 , Y10T137/2572 , Y10T137/7796
摘要：空氣(外界空氣)係由一大氣孔口(88)所導入,且其係藉由一流放孔(90)而被節流至一給定之相當小的量值。空氣係經由一流放通道(86)而導入至真空腔室(78)中,且其係經由一反饋通道(76)而被導回至導引孔(60)。再者,空氣係可以通過一形成在一座體部位(68)與閥體柱塞(58)之密封構件(66)之間的空間，且其係可以被朝向一真空孔口(46)來加以抽引。藉此，被安裝在座體部位(68)上之閥體柱塞(58)之密封構件(66)便可以避免咬入至座體部位(68)中。
简体摘要：空气(外界空气)系由一大气孔口(88)所导入,且其系借由一流放孔(90)而被节流至一给定之相当小的量值。空气系经由一流放信道(86)而导入至真空腔室(78)中,且其系经由一反馈信道(76)而被导回至导引孔(60)。再者,空气系可以通过一形成在一座体部位(68)与阀体柱塞(58)之密封构件(66)之间的空间，且其系可以被朝向一真空孔口(46)来加以抽引。借此，被安装在座体部位(68)上之阀体柱塞(58)之密封构件(66)便可以避免咬入至座体部位(68)中。

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