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1. 发明专利

TWI490901B 電荷保持媒體有权
简体标题：电荷保持媒体
公开(公告)号：TWI490901B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW100144361
申请日：2011-12-02
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中野貴志 , NAKANO, TAKASHI , 柏木王明 , KASHIWAGI, KIMIAKI , 岡野邦子 , OKANO, KUNIKO , 代田直子 , SHIROTA, NAOKO , 森澤義富 , MORIZAWA, YOSHITOMI , 濱谷芳樹 , HAMATANI, YOSHIKI
IPC分类号： H01G7/02 , C08K5/17 , C08K5/544 , C08L27/18 , C09D123/08 , C09D127/18
CPC分类号： H01B3/445 , C08F214/265 , C08K5/17 , C08K5/544 , C09D127/18 , H01G7/021 , H01G7/023

2. 发明专利

TW201229152A 電荷保持媒體之製造方法审中-公开
简体标题：电荷保持媒体之制造方法
公开(公告)号：TW201229152A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100144359
申请日：2011-12-02
申请人：旭硝子股份有限公司
发明人：中野貴志 , 岡野邦子 , 代田直子 , 柏木王明 , 森澤義富 , 濱谷芳樹
IPC分类号： C09D
CPC分类号： B05D5/12 , C08F214/265 , C08K5/03 , C08K5/07 , C09D127/18 , H01G7/021 , H01G7/023 , H02N1/00
摘要：本發明提供一種電荷保持媒體之製造方法，即使是在基材表面具有複雜之形狀的情況下，仍可在基材表面簡便地形成含有含氟共聚物之塗膜(電荷保持媒體之前驅物)，且該含氟共聚物係具有以四氟乙烯為主體之重複單元與以乙烯為主體之重複單元者。一種電荷保持媒體(駐極體)之製造方法，具有：將含有含氟共聚物(A)及有機溶劑(C)之塗佈用組成物塗佈於基材(第1基材)而形成塗膜之步驟，且前述含氟共聚物(A)具有以四氟乙烯為主體之重複單元與以乙烯為主體之重複單元。
简体摘要：本发明提供一种电荷保持媒体之制造方法，即使是在基材表面具有复杂之形状的情况下，仍可在基材表面简便地形成含有含氟共聚物之涂膜(电荷保持媒体之前驱物)，且该含氟共聚物系具有以四氟乙烯为主体之重复单元与以乙烯为主体之重复单元者。一种电荷保持媒体(驻极体)之制造方法，具有：将含有含氟共聚物(A)及有机溶剂(C)之涂布用组成物涂布于基材(第1基材)而形成涂膜之步骤，且前述含氟共聚物(A)具有以四氟乙烯为主体之重复单元与以乙烯为主体之重复单元。

3. 发明专利

TW201525166A 用於材料沈積之方法和裝置以及供體器件审中-公开
简体标题：用于材料沉积之方法和设备以及供体器件
公开(公告)号：TW201525166A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103135014
申请日：2014-10-08
申请人：奧寶科技股份有限公司 , ORBOTECH LTD.
发明人：瑞歐麥克 , ZENOU, MICHAEL , 寇特勒茲維 , KOTLER, ZVI
IPC分类号： C23C14/14 , C23C14/28
CPC分类号： H01L21/268 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B41M5/025 , B41M2205/08 , C23C26/02 , H01G7/021 , H01G7/026 , H01L21/02601 , H01L21/02612 , H01L21/288 , H05K3/1241 , H05K3/225
摘要：一種用於材料沈積之方法包含：提供一透明供體基板(56,60)，該透明供體基板具有相對之一第一表面與一第二表面以及位於該第二表面上之多個供體膜(62,64)，該等供體膜分別包含不同之材料。將該供體基板靠近一受體基板(41)定位，使該第二表面面朝該受體基板。引導雷射輻射之脈波穿過該供體基板之該第一表面並照射於該等供體膜上，以誘發複數個熔融之小滴自該等供體膜噴至該受體基板上，該等熔融之小滴含有該等不同材料之一整體混合物。
简体摘要：一种用于材料沉积之方法包含：提供一透明供体基板(56,60)，该透明供体基板具有相对之一第一表面与一第二表面以及位于该第二表面上之多个供体膜(62,64)，该等供体膜分别包含不同之材料。将该供体基板靠近一受体基板(41)定位，使该第二表面面朝该受体基板。引导激光辐射之脉波穿过该供体基板之该第一表面并照射于该等供体膜上，以诱发复数个熔融之小滴自该等供体膜喷至该受体基板上，该等熔融之小滴含有该等不同材料之一整体混合物。

4. 发明专利

TW201237901A 電荷保持媒體审中-公开
简体标题：电荷保持媒体
公开(公告)号：TW201237901A
公开(公告)日：2012-09-16
申请号：TW100144361
申请日：2011-12-02
申请人：旭硝子股份有限公司
发明人：中野貴志 , 柏木王明 , 岡野邦子 , 代田直子 , 森澤義富 , 濱谷芳樹
IPC分类号： H01G , C08K , C08L , C09D
CPC分类号： H01B3/445 , C08F214/265 , C08K5/17 , C08K5/544 , C09D127/18 , H01G7/021 , H01G7/023
摘要：本發明提供一種電荷保持媒體,雖係得自含有含氟共聚物之組成物,且該含氟共聚物具有以四氟乙烯為主體之重複單元與以乙烯為主體之重複單元,但無關乎此,仍具有實用等級之表面電位。一種電荷保持媒體(駐極體),係由組成物製得者,該組成物包含:含氟共聚物(A),係具有以四氟乙烯為主體之重複單元與以乙烯為主體之重複單元;及帶電助劑(B),係選自於由下述化合物所構成群組中之至少1種化合物:具有1個以上之胺基與1個以上之反應性官能基(胺基除外)的化合物;及,具有2個以上之胺基且不具有反應性官能基(胺基除外)的化合物。
简体摘要：本发明提供一种电荷保持媒体,虽系得自含有含氟共聚物之组成物,且该含氟共聚物具有以四氟乙烯为主体之重复单元与以乙烯为主体之重复单元,但无关乎此,仍具有实用等级之表面电位。一种电荷保持媒体(驻极体),系由组成物制得者,该组成物包含:含氟共聚物(A),系具有以四氟乙烯为主体之重复单元与以乙烯为主体之重复单元;及带电助剂(B),系选自于由下述化合物所构成群组中之至少1种化合物:具有1个以上之胺基与1个以上之反应性官能基(胺基除外)的化合物;及,具有2个以上之胺基且不具有反应性官能基(胺基除外)的化合物。

5. 发明专利

TW201121786A 複合式駐極體 HYBRID ELECTRET 审中-公开
简体标题：复合式驻极体 HYBRID ELECTRET
公开(公告)号：TW201121786A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW099135368
申请日：2010-10-18
申请人：奇菱科技股份有限公司
发明人：施希弦 , 高哲一 , 吳建宗 , 陳柏村
IPC分类号： B32B , H01G
CPC分类号： H01G7/028 , H01G7/021
摘要：本發明係揭露一種複合式駐極體，包含有至少一第一介電層以及至少一第二介電層，其中第一介電層與第二介電層為相互交錯堆疊，第一介電層具有高分子，第二介電層具有高分子，且第一介電層之高分子與第二介電層之高分子係為不相同。
简体摘要：本发明系揭露一种复合式驻极体，包含有至少一第一介电层以及至少一第二介电层，其中第一介电层与第二介电层为相互交错堆栈，第一介电层具有高分子，第二介电层具有高分子，且第一介电层之高分子与第二介电层之高分子系为不相同。

6. 发明专利

TWI510539B 駐極體及其製造方法、以及靜電感應型轉換元件有权
简体标题：驻极体及其制造方法、以及静电感应型转换组件
公开(公告)号：TWI510539B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW101127267
申请日：2012-07-27
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中山史子 , NAKAYAMA, FUMIKO , 柏木王明 , KASHIWAGI, KIMIAKI
IPC分类号： C08L27/12 , H04R19/01 , H02N1/00
CPC分类号： H02N1/10 , H01G7/021 , H01G7/023 , H01G7/028 , H04R19/01

7. 发明专利

TW201311801A 駐極體及其製造方法、以及靜電感應型轉換元件审中-公开
简体标题：驻极体及其制造方法、以及静电感应型转换组件
公开(公告)号：TW201311801A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101127267
申请日：2012-07-27
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中山史子 , NAKAYAMA, FUMIKO , 柏木王明 , KASHIWAGI, KIMIAKI
IPC分类号： C08L27/12 , H04R19/01 , H02N1/00
CPC分类号： H02N1/10 , H01G7/021 , H01G7/023 , H01G7/028 , H04R19/01
摘要：本發明係提供一種展現高電荷密度、且在高溫高濕下電荷密度安定性良好的駐極體，及具備該駐極體的靜電感應型轉換元件。該駐極體係在具有樹脂層(A)及已直接對樹脂層(A)積層之樹脂層(B)的積層體中注入電荷而成者，其特徵在於，樹脂層(A)含有含氟聚合物與矽烷偶合劑的反應生成物；樹脂層(B)不含有含氟聚合物與矽烷偶合劑的反應生成物而含有含氟聚合物；樹脂層(B)配置於最外層以與空氣接觸；樹脂層(B)之合計厚度為前述樹脂層(A)之合計厚度的5~55%。又，具備駐極體之靜電感應型轉換元件。
简体摘要：本发明系提供一种展现高电荷密度、且在高温高湿下电荷密度安定性良好的驻极体，及具备该驻极体的静电感应型转换组件。该驻极体系在具有树脂层(A)及已直接对树脂层(A)积层之树脂层(B)的积层体中注入电荷而成者，其特征在于，树脂层(A)含有含氟聚合物与硅烷偶合剂的反应生成物；树脂层(B)不含有含氟聚合物与硅烷偶合剂的反应生成物而含有含氟聚合物；树脂层(B)配置于最外层以与空气接触；树脂层(B)之合计厚度为前述树脂层(A)之合计厚度的5~55%。又，具备驻极体之静电感应型转换组件。

8. 发明专利

TW376468B 含洋紅色偶氮顏料之電子照像調色劑與顯影劑及粉末或粉末塗料失效
简体标题：含洋红色偶氮颜料之电子照像调色剂与显影剂及粉末或粉末涂料
公开(公告)号：TW376468B
公开(公告)日：1999-12-11
申请号：TW086108231
申请日：1997-06-11
申请人：赫斯特化工廠
发明人：漢司.麥可德特 , 戴特.包格爾特 , 盧丁.布爾
IPC分类号： G03G , C09D
CPC分类号： C09D11/32 , C09B63/005 , C09D5/035 , G03G9/091 , H01G7/021
摘要：本發明係有關於式(l)偶氮顏料之用途，CC(l)係作為電子照像調色劑與顯影劑，粉末與粉末塗料，與駐極體材料中之著色劑，其中此偶氮顏料粉末之比表面積大於70m2／g，其中此偶氮顏料之粒子的平均長寬比小於2.8:1，平均粒徑d50小於130nm。
简体摘要：本发明系有关于式(l)偶氮颜料之用途，CC(l)系作为电子照像调色剂与显影剂，粉末与粉末涂料，与驻极体材料中之着色剂，其中此偶氮颜料粉末之比表面积大于70m2／g，其中此偶氮颜料之粒子的平均长宽比小于2.8:1，平均粒径d50小于130nm。

9. 发明专利

TW201727637A 電熵記憶體元件审中-公开
简体标题：电熵内存组件
公开(公告)号：TW201727637A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105135921
申请日：2016-11-04
申请人：卡福科學公司 , CARVER SCIENTIFIC, INC.
发明人：卡福大衛R , CARVER, DAVID R. , 候尙恩C , HALL, SEAN C. , 安德彭翠斯K , ANDREPONT, CHASE K. , 瑞努得尙恩W , REYNOLDS, SEAN W. , 吉布斯珍蜜妮H , GIBBS, JAIME H. , 福爾佛布拉特佛德W , FULFER, BRADFORD W.
IPC分类号： G11C11/406 , H01G7/06 , C08L101/12
CPC分类号： G11C11/406 , C08L101/12 , C08L2203/20 , C08L2205/025 , G11C11/22 , G11C11/221 , G11C11/24 , G11C13/0016 , H01G7/02 , H01G7/021 , H01G7/06
摘要：揭示的是包括電熵儲存元件(EESD)陣列之電熵記憶體元件的具體態樣，以及製作和使用電熵記憶體元件的方法。記憶體元件包括安排成列以選擇EESD列的多條位址線以及安排成欄以選擇EESD欄的多條資料線，其中每個EESD串聯耦合在連接到EESD之一側的位址線和連接到EESD之相對側的資料線之間。記憶體元件可以具有堆疊架構，其具有多層的位址線、資料線和EESD。揭示的電熵記憶體元件可操作於唯讀記憶體(ROM)和隨機存取記憶體(RAM)模式。揭示之電熵記憶體元件中的EESD可以包括2~4096個邏輯狀態以及/或者具有從每立方公分0.001千位元到每立方公分1024兆位元組的密度。
简体摘要：揭示的是包括电熵存储组件(EESD)数组之电熵内存组件的具体态样，以及制作和使用电熵内存组件的方法。内存组件包括安排成列以选择EESD列的多条位址线以及安排成栏以选择EESD栏的多条数据线，其中每个EESD串联耦合在连接到EESD之一侧的位址线和连接到EESD之相对侧的数据线之间。内存组件可以具有堆栈架构，其具有多层的位址线、数据线和EESD。揭示的电熵内存组件可操作于唯读内存(ROM)和随机存取内存(RAM)模式。揭示之电熵内存组件中的EESD可以包括2~4096个逻辑状态以及/或者具有从每立方公分0.001千比特到每立方公分1024兆字节的密度。

10. 发明专利

TWI504695B 電荷保持媒體之製造方法有权
简体标题：电荷保持媒体之制造方法
公开(公告)号：TWI504695B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：TW100144359
申请日：2011-12-02
申请人：旭硝子股份有限公司 , ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：中野貴志 , NAKANO, TAKASHI , 岡野邦子 , OKANO, KUNIKO , 代田直子 , SHIROTA, NAOKO , 柏木王明 , KASHIWAGI, KIMIAKI , 森澤義富 , MORIZAWA, YOSHITOMI , 濱谷芳樹 , HAMATANI, YOSHIKI
IPC分类号： C09D127/18 , C09D123/04
CPC分类号： B05D5/12 , C08F214/265 , C08K5/03 , C08K5/07 , C09D127/18 , H01G7/021 , H01G7/023 , H02N1/00

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