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1. 发明专利

TW201630646A 土壤等之除污方法及土壤等之除污系統审中-公开
简体标题：土壤等之除污方法及土壤等之除污系统
公开(公告)号：TW201630646A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104141719
申请日：2015-12-11
申请人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 森田宮田工業股份有限公司 , MORITA MIYATA CORPORATION
发明人：吉田英夫 , YOSHIDA, HIDEO , 須山泰敬 , SUYAMA, YASUHIRO
IPC分类号： B01D11/02 , C02F1/46 , B09C1/00 , G21F9/28
CPC分类号： G21F9/002 , B09C1/08 , C02F1/28 , C02F1/46104 , C02F2101/006 , C02F2201/46105 , G21F9/04 , G21F9/06 , G21F9/12 , G21F9/125 , G21F9/28 , G21F9/30
摘要：本發明提供一種土壤等之除污方法及土壤等之除污系統，其可在現場可靠且迅速地對例如被放射性物質污染的田地等的土壤或水進行精密的除污並提高除污效率，同時在除污後的土壤中添加土壤活性劑而改良土壤，將其迅速地送回至原來的田地而促進農耕的恢復；另一方面，將附著或沉積在土壤中的放射性物質從土壤中精密地分離、濃縮，由此，實現減少污染土壤的體積與對放射性物質的安全處理，並且實現對放射性銫、氚的除污，消除由氚的內部放射所引起的不安，並且實現對除污裝置合理且安全的廢棄處理。該土壤等之除污方法中，將被放射性物質污染的除污對象物導入於洗提溶劑而溶出，從該洗提溶劑中分離放射性物質。除污對象物包含污染土壤和污染水，採集此等中的一者或兩者並導入至洗提溶劑中。將溶出於洗提溶劑的放射性物質與除污對象物進行固液分離。回收已去除放射性物質的固液分離後的土壤，同時將固液分離後的包含洗提溶劑與污染水的分離液導入至電解槽並電解。使放射性物質等的金屬離子析出於陰極。在電解槽內部捕集因電解而產生的包含氚的氫。將氫移動到電解槽的外部並捕獲。
简体摘要：本发明提供一种土壤等之除污方法及土壤等之除污系统，其可在现场可靠且迅速地对例如被放射性物质污染的田地等的土壤或水进行精密的除污并提高除污效率，同时在除污后的土壤中添加土壤活性剂而改良土壤，将其迅速地送回至原来的田地而促进农耕的恢复；另一方面，将附着或沉积在土壤中的放射性物质从土壤中精密地分离、浓缩，由此，实现减少污染土壤的体积与对放射性物质的安全处理，并且实现对放射性铯、氚的除污，消除由氚的内部放射所引起的不安，并且实现对除污设备合理且安全的废弃处理。该土壤等之除污方法中，将被放射性物质污染的除污对象物导入于洗提溶剂而溶出，从该洗提溶剂中分离放射性物质。除污对象物包含污染土壤和污染水，采集此等中的一者或两者并导入至洗提溶剂中。将溶出于洗提溶剂的放射性物质与除污对象物进行固液分离。回收已去除放射性物质的固液分离后的土壤，同时将固液分离后的包含洗提溶剂与污染水的分离液导入至电解槽并电解。使放射性物质等的金属离子析出于阴极。在电解槽内部捕集因电解而产生的包含氚的氢。将氢移动到电解槽的外部并捕获。

2. 发明专利

TWI376698B 去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法 METHOD FOR THE DECONTAMINATION OF AN OXIDE LAYER-CONTAINING SURFACE OF A COMPONENT OR A SYSTEM OF A NUCLEAR FACILITY 失效
简体标题：去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法 METHOD FOR THE DECONTAMINATION OF AN OXIDE LAYER-CONTAINING SURFACE OF A COMPONENT OR A SYSTEM OF A NUCLEAR FACILITY
公开(公告)号：TWI376698B
公开(公告)日：2012-11-11
申请号：TW095143668
申请日：2006-11-27
申请人：阿雷瓦NP股份有限公司
发明人：霍斯特歐特柏什德 , 泰勒辛哈克勞德特馬席爾 , 法蘭茲史托莫
IPC分类号： G21F
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要：一種去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法，其中在表面上形成一層酸性水膜，使水膜與一種氣態酸酐接觸，再以氣態臭氧當作氧化劑處理該氧化物層。
简体摘要：一种去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法，其中在表面上形成一层酸性水膜，使水膜与一种气态酸酐接触，再以气态臭氧当作氧化剂处理该氧化物层。

3. 发明专利

TW200729233A 去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法 A PROCED URE FOR REMOVING THE OXIDE LAYER ON THE SYSTEM SURFACE OR DEVICE SURFACE OF THE NUCLEAR EQUIPMENT 失效
简体标题：去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法 A PROCED URE FOR REMOVING THE OXIDE LAYER ON THE SYSTEM SURFACE OR DEVICE SURFACE OF THE NUCLEAR EQUIPMENT
公开(公告)号：TW200729233A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW095143668
申请日：2006-11-27
申请人：阿雷瓦NP股份有限公司 AREVA NP GMBH
发明人：霍斯特-歐特柏什德 BERTHOLDT, HORST-OTTO , 泰勒辛哈克勞德特馬席爾 MACIEL, TEREZINHA CLAUDETE , 法蘭茲史托莫 STROHMER, FRANZ
IPC分类号： G21F
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要：本發明係一種利用氣態氧化劑去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法。
简体摘要：本发明系一种利用气态氧化剂去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法。

4. 发明专利

TW535169B 用以淨化中空本體內側表面上的輻射物質之方法及裝置失效
简体标题：用以净化中空本体内侧表面上的辐射物质之方法及设备
公开(公告)号：TW535169B
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091100690
申请日：2002-01-17
申请人：原子維持公司
发明人：艾蓮伯納德
IPC分类号： G21F
CPC分类号： G21F9/004 , B05B14/00 , G21F9/002 , Y02P70/36
摘要：一種呈噴射流(14)型式之化學浸蝕溶液，其在壓力下與中空本體(1)內側表面上之輻射物質接觸，而已與輻射物質接觸之化學浸蝕溶液，被回收且流出中空本體(1)之外。輻射物質至少呈下面型式之一；溶於化學浸蝕溶液之相；以及在壓力下，藉由噴射流(14)與金屬表面分開之顆粒。本發明方法及裝置，可用以淨化中空本體內表面，或是淨化可能為清洗容器之中空本體內的元件
简体摘要：一种呈喷射流(14)型式之化学浸蚀溶液，其在压力下与中空本体(1)内侧表面上之辐射物质接触，而已与辐射物质接触之化学浸蚀溶液，被回收且流出中空本体(1)之外。辐射物质至少呈下面型式之一；溶于化学浸蚀溶液之相；以及在压力下，借由喷射流(14)与金属表面分开之颗粒。本发明方法及设备，可用以净化中空本体内表面，或是净化可能为清洗容器之中空本体内的组件

5. 发明专利

TWI406299B 去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法失效
简体标题：去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法
公开(公告)号：TWI406299B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW097105008
申请日：2006-11-27
申请人：阿雷瓦股份有限公司 , AREVA GMBH
发明人：霍斯特歐特柏什德 , BERTHOLDT, HORST-OTTO , 泰勒辛哈克勞德特馬席爾 , MACIEL, TEREZINHA CLAUDETE , 法蘭茲史托莫 , STROHMER, FRANZ
IPC分类号： G21F9/28 , A62D3/00
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004

6. 发明专利

TWI387668B 從工業及發電設備的容器中除去含磁鐵礦與銅之沉積物的方法有权
简体标题：从工业及发电设备的容器中除去含磁铁矿与铜之沉积物的方法
公开(公告)号：TWI387668B
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW097107595
申请日：2008-03-05
申请人：阿雷瓦NP股份有限公司 , AREVA NP GMBH
发明人：康拉比特 , BITTER, KONRAD , 烏蘇拉豪威戴 , HOLLWEDEL, URSULA , 艾克沙特西巴裘倫 , BATCHULUUN, ENKHTSETSEG
IPC分类号： C23G1/14
CPC分类号： C23G1/00 , B08B9/08 , C23G1/19 , C23G1/20 , F22B37/483 , F28G9/00 , G21F9/002 , G21F9/30

7. 发明专利

TWI355003B 化學除污染裝置及其除污染方法有权
简体标题：化学除污染设备及其除污染方法
公开(公告)号：TWI355003B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：TW096104876
申请日：2007-02-09
申请人：東芝股份有限公司
发明人：遠田正見 , 市川長佳 , 金田雅之 , 金崎健 , 吉井敏浩 , 矢板由美 , 稻見一郎
IPC分类号： G21F
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要：本發明之化學除污染裝置，係使含有除污染對象物之表面所生成或附著之輻射性物質的氧化皮膜利用臭氧水進行化學性溶解，並除污染者。此化學除污染裝置係具有：產生臭氧氣體之臭氧產生步驟；將所生成之臭氧氣體供給至水中之臭氧供給部的臭氧供給步驟；設置於該臭氧供給部，且從該臭氧供給步驟接受臭氧氣體之供給的燒結金屬構件37；可從該臭氧供給步驟供給至燒結金屬構件內部之臭氧氣體於其構件外部流動而供給至水中，以產生臭氧水。
简体摘要：本发明之化学除污染设备，系使含有除污染对象物之表面所生成或附着之辐射性物质的氧化皮膜利用臭氧水进行化学性溶解，并除污染者。此化学除污染设备系具有：产生臭氧气体之臭氧产生步骤；将所生成之臭氧气体供给至水中之臭氧供给部的臭氧供给步骤；设置于该臭氧供给部，且从该臭氧供给步骤接受臭氧气体之供给的烧结金属构件37；可从该臭氧供给步骤供给至烧结金属构件内部之臭氧气体于其构件外部流动而供给至水中，以产生臭氧水。

8. 发明专利

TW200902764A 從工業及發電設備的容器中除去含磁鐵礦與銅之沉積物的方法 METHOD OF REMOVING MAGNETITE AND COPPER CONTAINED DEPOSITS FROM CONTAINERS OF DEVICES OF INDUSTRY AND POWER PLANTS 审中-公开
简体标题：从工业及发电设备的容器中除去含磁铁矿与铜之沉积物的方法 METHOD OF REMOVING MAGNETITE AND COPPER CONTAINED DEPOSITS FROM CONTAINERS OF DEVICES OF INDUSTRY AND POWER PLANTS
公开(公告)号：TW200902764A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097107595
申请日：2008-03-05
申请人：阿雷瓦NP股份有限公司 AREVA NP GMBH
发明人：康拉比特 BITTER, KONRAD , 烏蘇拉豪威戴 HOLLWEDEL, URSULA , 艾克沙特西巴裘倫 BATCHULUUN, ENKHTSETSEG
IPC分类号： C23G
CPC分类号： C23G1/00 , B08B9/08 , C23G1/19 , C23G1/20 , F22B37/483 , F28G9/00 , G21F9/002 , G21F9/30
摘要：本發明係一種從容器(尤其是核能發電設備的蒸汽產生器)中去除含磁鐵礦與銅之沉積物的方法,其特徵為:--第一個步驟是以一種鹼性清洗溶液清洗容器,這種鹼性清洗溶液含有一種能夠與鐵離子形成一種可溶解的複合物的複合物形成劑、一種還原劑、以及一種鹼化劑;--第二個步驟是將另外一種複合物形成劑及一種氧化劑加到第一個步驟結束時留在容器中的清洗溶液中,其中另外一種複合物形成劑與Fe^3+形成的複合物比第一個步驟加入的複合物形成劑形成的複合物更為穩定。
简体摘要：本发明系一种从容器(尤其是核能发电设备的蒸汽产生器)中去除含磁铁矿与铜之沉积物的方法,其特征为:--第一个步骤是以一种碱性清洗溶液清洗容器,这种碱性清洗溶液含有一种能够与铁离子形成一种可溶解的复合物的复合物形成剂、一种还原剂、以及一种碱化剂;--第二个步骤是将另外一种复合物形成剂及一种氧化剂加到第一个步骤结束时留在容器中的清洗溶液中,其中另外一种复合物形成剂与Fe^3+形成的复合物比第一个步骤加入的复合物形成剂形成的复合物更为稳定。

9. 发明专利

TW200826119A 去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法 METHOD FOR THE DECONTAMINATION OF AN OXIDE LAYER-CONTAINING SURFACE OF A COMPONENT OR A SYSTEM OF A NUCLEAR FACILITY 失效
简体标题：去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法 METHOD FOR THE DECONTAMINATION OF AN OXIDE LAYER-CONTAINING SURFACE OF A COMPONENT OR A SYSTEM OF A NUCLEAR FACILITY
公开(公告)号：TW200826119A
公开(公告)日：2008-06-16
申请号：TW097105008
申请日：2006-11-27
申请人：阿雷瓦NP股份有限公司 AREVA NP GMBH
发明人：霍斯特歐特柏什德 BERTHOLDT, HORST-OTTO , 泰勒辛哈克勞德特馬席爾 MACIEL, TEREZINHA CLAUDETE , 法蘭茲史托莫 STROHMER, FRANZ
IPC分类号： G21F , A62D
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要：一種去除核能設施之組件表面或系統表面上的氧化物層的方法,其中在表面上形成一層酸性水膜,使水膜與一種氣態酸酐接觸,再以氣態臭氧當作氧化劑處理該氧化物層。
简体摘要：一种去除核能设施之组件表面或系统表面上的氧化物层的方法,其中在表面上形成一层酸性水膜,使水膜与一种气态酸酐接触,再以气态臭氧当作氧化剂处理该氧化物层。

10. 发明专利

TW200746176A 化學除污染裝置及其除污染方法审中-公开
简体标题：化学除污染设备及其除污染方法
公开(公告)号：TW200746176A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096104876
申请日：2007-02-09
申请人：東芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：遠田正見 ENDA, MASAMI , 市川長佳 ICHIKAWA, NAGAYOSHI , 金田雅之 KANEDA, MASAYUKI , 金崎健 KANASAKI, TAKESHI , 吉井敏浩 YOSHII, TOSHIHIRO , 矢板由美 TAITA, YUMI , 稻見一郎 INAMI, ICHIRO
IPC分类号： G21F
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要：本發明之化學除污染裝置,係使含有除污染對象物之表面所生成或附著之輻射性物質的氧化皮膜利用臭氧水進行化學性溶解,並除污染者。此化學除污染裝置係具有:產生臭氧氣體之臭氧產生步驟;將所生成之臭氧氣體供給至水中之臭氧供給部的臭氧供給步驟;設置於該臭氧供給部,且從該臭氧供給步驟接受臭氧氣體之供給的燒結金屬構件37;可從該臭氧供給步驟供給至燒結金屬構件內部之臭氧氣體於其構件外部流動而供給至水中,以產生臭氧水。
简体摘要：本发明之化学除污染设备,系使含有除污染对象物之表面所生成或附着之辐射性物质的氧化皮膜利用臭氧水进行化学性溶解,并除污染者。此化学除污染设备系具有:产生臭氧气体之臭氧产生步骤;将所生成之臭氧气体供给至水中之臭氧供给部的臭氧供给步骤;设置于该臭氧供给部,且从该臭氧供给步骤接受臭氧气体之供给的烧结金属构件37;可从该臭氧供给步骤供给至烧结金属构件内部之臭氧气体于其构件外部流动而供给至水中,以产生臭氧水。

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