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    • 1. 发明专利
    • 非密閉製程腔體之保護氣體控制方法 A PROTECTION GAS CONTROL METHOD FOR NON-SEALED PROCESS CHAMBER
    • 非密闭制程腔体之保护气体控制方法 A PROTECTION GAS CONTROL METHOD FOR NON-SEALED PROCESS CHAMBER
    • TWI348528B
    • 2011-09-11
    • TW097101438
    • 2008-01-15
    • 財團法人工業技術研究院
    • 黃俊弘張明琅彭彥嘉鄭滄芳郭子鑫
    • F17DF15C
    • G05D16/204
    • 本發明係一種非密閉製程腔體之保護氣體控制方法,其係包括有:開啟裝置,並將保護氣體連接至若干節流閥;設定若干節流閥開啟時間;設定腔體含氧濃度之第一目標值及第二目標值;腔體開始加熱;製程設備是否已運作;腔體之進出料閘門是否開啟;開啟全部節流閥至一預定時間;關閉至少一節流閥若腔體含氧濃度小於或等於第一目標值,關閉至少一節流閥;若腔體含氧濃度小於或等於第二目標值;關閉至少一節流閥;保持節流閥開啟數量;腔體內溫度低於預定溫度時停止供應保護氣體。
    • 本发明系一种非密闭制程腔体之保护气体控制方法,其系包括有:打开设备,并将保护气体连接至若干节流阀;设置若干节流阀打开时间;设置腔体含氧浓度之第一目标值及第二目标值;腔体开始加热;制程设备是否已运作;腔体之进出料闸门是否打开;打开全部节流阀至一预定时间;关闭至少一节流阀若腔体含氧浓度小于或等于第一目标值,关闭至少一节流阀;若腔体含氧浓度小于或等于第二目标值;关闭至少一节流阀;保持节流阀打开数量;腔体内温度低于预定温度时停止供应保护气体。