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    • 1. 发明专利
    • 硬碟用平坦化膜形成組成物
    • 硬盘用平坦化膜形成组成物
    • TW201329112A
    • 2013-07-16
    • TW101134745
    • 2012-09-21
    • 日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 加藤拓KATO, TAKU原口將幸HARAGUCHI, MASAYUKI小澤雅昭OZAWA, MASAAKI
    • C08F212/36C09D125/00G11B5/84
    • C09D167/00C08F230/08C08K5/541C09D125/08G11B5/65G11B5/72G11B5/84G11B5/8404G11B5/8408C08L25/04C08L25/06C08L25/08C09D125/04
    • 本發明課題為提供一種硬碟用平坦化膜形成組成物,其係可防止鈷成分等的磁性材料擴散至填充部(非磁性層)。課題解決手段為一種硬碟用平坦化膜形成組成物,其特徵為含有光聚合性被覆材,該光聚合性被覆材係含有選自具有來自二乙烯基芳香族化合物之單位構造之單獨聚合物及具有該單位構造之共聚物所構成之群中之至少1種聚合物、或該聚合物與光聚合性化合物的混合物,且在該被覆材中每莫耳苯環含有1~90莫耳%的乙烯基。光聚合性化合物係具有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、或乙烯基之化合物。聚合物係進一步含有加成聚合性化合物作為共聚合成分之共聚物。一種硬碟之製造方法,其係包含在磁性體上形成凹凸之第1步驟;以平坦化膜形成組成物被覆該凹凸之第2步驟;及藉由蝕刻平坦化而使磁性體表面露出之第3步驟。
    • 本发明课题为提供一种硬盘用平坦化膜形成组成物,其系可防止钴成分等的磁性材料扩散至填充部(非磁性层)。课题解决手段为一种硬盘用平坦化膜形成组成物,其特征为含有光聚合性被覆材,该光聚合性被覆材系含有选自具有来自二乙烯基芳香族化合物之单位构造之单独聚合物及具有该单位构造之共聚物所构成之群中之至少1种聚合物、或该聚合物与光聚合性化合物的混合物,且在该被覆材中每莫耳苯环含有1~90莫耳%的乙烯基。光聚合性化合物系具有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、或乙烯基之化合物。聚合物系进一步含有加成聚合性化合物作为共聚合成分之共聚物。一种硬盘之制造方法,其系包含在磁性体上形成凹凸之第1步骤;以平坦化膜形成组成物被覆该凹凸之第2步骤;及借由蚀刻平坦化而使磁性体表面露出之第3步骤。