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    • 6. 发明专利
    • 新穎雙偶氮,雙偶氮甲川和偶氮–偶氮甲川化合物
    • 新颖双偶氮,双偶氮甲川和偶氮–偶氮甲川化合物
    • TW243464B
    • 1995-03-21
    • TW082107020
    • 1993-08-30
    • 汽巴特用化學品控股公司
    • 史德芳.海利歐洛夫.瓦克威
    • C09B
    • C09B56/02C09B35/03C09B35/033C09B55/005C09B63/005C09B69/045
    • 式(Ⅰ)之化合物
      CC (Ⅰ)其中R為氫或為基團
      SO3ΘM2n⊕,
      nM1和M2分別為其它的鹼金屬或鹼土金屬或鋁或下式之基團
      CC其中n為1,2或3,且,R1,R2,R3,和R4為氫或C1-C8烷基,X1和X2分別為其它的-N=或-CH=,Q1和Q2分別為下式之基團
      CC , CC , CC ,
      CC , CC , CC ,
      CC , CC或CH3COCHCONH-R8。
      這些化合物非常適合用於高分子量之有機物質,較佳地為聚烯烴的染色,並且這些化合物具有較佳之耐光性。
      取代基Q3,Q4,R5,R6,R7及R8之定有如申請專利範圍第1項所示。
    • 式(Ⅰ)之化合物 CC (Ⅰ)其中R为氢或为基团 SO3ΘM2n⊕, nM1和M2分别为其它的碱金属或碱土金属或铝或下式之基团 CC其中n为1,2或3,且,R1,R2,R3,和R4为氢或C1-C8烷基,X1和X2分别为其它的-N=或-CH=,Q1和Q2分别为下式之基团 CC , CC , CC , CC , CC , CC , CC , CC或CH3COCHCONH-R8。 这些化合物非常适合用于高分子量之有机物质,较佳地为聚烯烃的染色,并且这些化合物具有较佳之耐光性。 取代基Q3,Q4,R5,R6,R7及R8之定有如申请专利范围第1项所示。