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    • 2. 发明专利
    • 聚合方法
    • TW526207B
    • 2003-04-01
    • TW089109277
    • 2000-05-15
    • 優尼維宣工業技術公司麻薩諸塞科學研究所
    • 大衛 麥康維爾理查 舒瑞克
    • C08F
    • C08F210/16C07C211/65C08F10/00Y10S526/903C08F4/64148C08F4/659C08F210/14C08F4/7004C08F4/64141
    • 本發明係有關一種由下式所表物質的組成物,及一種聚合方法,其包括將烯烴在氣相或漿相中一活化劑,一擔體和一由下式所表的化合物組合:
      其中
      M為第13或14金屬,
      各X獨立地為一陰離子脫離基,
      n為M的氧化態,
      m為YZL配位子的式電荷,
      Y為第15族元素,
      Z為第15族元素,
      L為第15或16族元素,
      R1和R2獨立地為C1至C20烴基,含雜原子基,矽,鍺,錫,鉛,磷,鹵素,
      R3不存在或為氫,含第14族原子基,鹵素,含雜原子基,
      R4和R5獨立地為芳基,經取代芳基,環狀烷基,經取代環狀烷基,或多環系統,
      R6和R7獨立地為不存在,或為氫,鹵素,雜原子或烴基,或含雜原子基。
    • 本发明系有关一种由下式所表物质的组成物,及一种聚合方法,其包括将烯烃在气相或浆相中一活化剂,一担体和一由下式所表的化合物组合: 其中 M为第13或14金属, 各X独立地为一阴离子脱离基, n为M的氧化态, m为YZL配位子的式电荷, Y为第15族元素, Z为第15族元素, L为第15或16族元素, R1和R2独立地为C1至C20烃基,含杂原子基,硅,锗,锡,铅,磷,卤素, R3不存在或为氢,含第14族原子基,卤素,含杂原子基, R4和R5独立地为芳基,经取代芳基,环状烷基,经取代环状烷基,或多环系统, R6和R7独立地为不存在,或为氢,卤素,杂原子或烃基,或含杂原子基。