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1. 发明专利

TWI520932B 山椒素類之製造方法有权
简体标题：山椒素类之制造方法
公开(公告)号：TWI520932B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW102106589
申请日：2013-02-25
申请人：津村股份有限公司 , TSUMURA & CO.
发明人：青木勝之 , AOKI, KATSUYUKI
IPC分类号： C07C233/09 , C07C233/20 , C01G49/16 , C07C231/12 , C07C231/18
CPC分类号： C07C231/12 , C07C233/09 , C07F15/02

2. 发明专利

TW201504252A 經由鐵及鈷吡啶二亞胺催化烯烴矽烷化所得之飽和及不飽和矽代烴审中-公开
简体标题：经由铁及钴吡啶二亚胺催化烯烃硅烷化所得之饱和及不饱和硅代烃
公开(公告)号：TW201504252A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103116161
申请日：2014-05-06
申请人：摩曼帝夫特性材料公司 , MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS INC.
发明人：萊維斯肯雷克M , LEWIS, KENRICK M. , 阿田薩克里西塔卡門荷傑拉 , ATIENZA, CRISITA CARMEN HOJILLA , 包爾茱莉L , BOYER, JULIE L. , 查爾克保羅J , CHIRIK, PAUL J. , 達利斯喬翰斯G P , DELIS, JOHANNES G. P. , 羅伊亞魯普庫瑪 , ROY, AROOP KUMAR
IPC分类号： C07F7/08 , B01J31/22 , C07F15/03 , C07F15/06
CPC分类号： C07F7/0829 , C07F7/0809 , C07F7/0896 , C07F15/02 , C07F15/025 , C07F15/06 , C07F15/065
摘要：本發明係關於一種利用含鐵或含鈷觸媒合成飽和及不飽和矽代烴之方法。本發明方法可生產可用作潤滑劑及液壓流體之四烷基矽烷、苯基三烷基矽烷、經取代的苯基三烷基矽烷及其混合物，以及可用於合成飽和矽代烴及其他有機官能矽烷之烷基烯基矽烷、苯基烯基矽烷及經取代的苯基烯基矽烷及其混合物。
简体摘要：本发明系关于一种利用含铁或含钴触媒合成饱和及不饱和硅代烃之方法。本发明方法可生产可用作润滑剂及液压流体之四烷基硅烷、苯基三烷基硅烷、经取代的苯基三烷基硅烷及其混合物，以及可用于合成饱和硅代烃及其他有机官能硅烷之烷基烯基硅烷、苯基烯基硅烷及经取代的苯基烯基硅烷及其混合物。

3. 发明专利

TW201318623A 慢性腎臟病的改善、預防劑审中-公开
简体标题：慢性肾脏病的改善、预防剂
公开(公告)号：TW201318623A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101137454
申请日：2012-10-11
申请人：思佰益藥業股份有限公司 , SBI PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：田中徹 , TANAKA, TOHRU , 中島元夫 , NAKAJIMA, MOTOWO , 安部史紀 , ABE, FUMINORI , 河田聰史 , KAWATA, SATOFUMI , 甲田岳生 , KOHDA, TAKEO
IPC分类号： A61K31/197 , A61K31/295 , A61K33/26 , A61P13/12
CPC分类号： C07C229/22 , A61K31/197 , A61K31/215 , A61K31/28 , A61K31/295 , A61K33/24 , A61K33/26 , A61K33/28 , A61K33/30 , A61K33/34 , C07F15/02 , A61K2300/00
摘要：本發明課題在於提供一種非為既有的對症療法藥劑，而是可增加eGFR值，並可改善腎功能本身的慢性腎臟病改善劑。解決手段為調製一種含有5-胺基乙醯丙酸(ALA)或者其衍生物或其鹽作為有效成分的慢性腎臟病改善及/或預防劑。較佳的是，此等ALA類中含有檸檬酸亞鐵鈉等含金屬化合物。作為上述ALA類，可較佳例示ALA及其甲基酯、乙基酯、丙基酯、丁基酯、戊基酯等各種酯類，以及此等之鹽酸鹽、磷酸鹽、硫酸鹽等。
简体摘要：本发明课题在于提供一种非为既有的对症疗法药剂，而是可增加eGFR值，并可改善肾功能本身的慢性肾脏病改善剂。解决手段为调制一种含有5-胺基乙酰丙酸(ALA)或者其衍生物或其盐作为有效成分的慢性肾脏病改善及/或预防剂。较佳的是，此等ALA类中含有柠檬酸亚铁钠等含金属化合物。作为上述ALA类，可较佳例示ALA及其甲基酯、乙基酯、丙基酯、丁基酯、戊基酯等各种酯类，以及此等之盐酸盐、磷酸盐、硫酸盐等。

4. 发明专利

TWI318987B 催化性組成物及其製備以及其用於自烯系不飽和單體製備聚合物之用途 A CATALYTIC COMPOSITION AND ITS PREPARATION AND USE FOR PREPARING POLYMERS FROM ETHYLENICALLY UNSATURATED MONOMERS 失效
简体标题：催化性组成物及其制备以及其用于自烯系不饱和单体制备聚合物之用途 A CATALYTIC COMPOSITION AND ITS PREPARATION AND USE FOR PREPARING POLYMERS FROM ETHYLENICALLY UNSATURATED MONOMERS
公开(公告)号：TWI318987B
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW094118119
申请日：2005-06-02
申请人：羅門哈斯公司
发明人：古德歐布萊恩利斯里 , 派托夫珍妮佛林 , 沈瀚
IPC分类号： C08F
CPC分类号： B01J31/2291 , B01J31/146 , B01J31/16 , B01J31/1805 , B01J31/1815 , B01J31/183 , B01J31/2208 , B01J31/2404 , B01J2231/005 , B01J2231/12 , B01J2531/001 , B01J2531/0291 , B01J2531/16 , B01J2531/62 , B01J2531/72 , B01J2531/821 , B01J2531/822 , B01J2531/824 , B01J2531/842 , B01J2531/845 , B01J2531/847 , C07F11/005 , C07F15/006 , C07F15/0066 , C07F15/02 , C07F15/025 , C07F15/06 , C07F15/065 , C08F10/00 , C08F20/12 , C08F32/08 , C08F112/08 , C08F120/14 , C08F132/08 , C08F210/02 , C08F212/08 , C08F220/12 , C08F220/14 , C08F232/00 , C08F232/08 , C08F2410/03 , C08F4/6912 , C08F220/18 , C08F2500/03 , C08F4/7042 , C08F4/7044 , C08F2500/25
摘要：本發明揭示一種包括陽離子性金屬偶錯合物(metal-pair)之催化性組成物，以及其製備方法。也揭示一種使用該催化性組成物聚合烯系不飽和單體之方法，以及藉此所製成的加成聚合物。 A catalytic composition, including a cationic metal-pair complex, is disclosed, along with a method for its preparation. A method for the polymerization of ethylenically unsaturated monomers using the catalytic composition, and the addition polymers produced thereby are also disclosed. 【創作特點】因而提供：本發明的一樣態係針對一種包括至少一陽離子性金屬偶錯合物的催化性組成物，其中：該陽離子性金屬偶的錯合物包括至少一金屬原子偶，該偶包括第一金屬原子，M 1 ，與第二金屬原子，M 2 ；該偶中的該第一金屬原子和該第二金屬原子具有至少1.5埃()且不超過20埃之經空間核間距離(through-space internuclecar distance)；且該陽離子性金屬偶錯合物為如式(I)的錯合物，其中：M 1 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳之中的一第一金屬原子；L 1 表一組第一配位基；L 2 表一組第二配位基；L 3 表一組第三配位基；R 1 表一組第一陰離子性含有烴基之基團；R 2 表一組第二陰離子性含有烴基之基團；S 1 表一組第一不穩定性配位基；S 2 表一組第二不穩定性配位基；A 1 -A 8 各表一組配位鍵；WCA表弱配位性陰離子；a、b、h、k、m、和p分別選自0和1；α、β、和c分別等於1； d、r、和t分別為選自0、1、2、3、4、或5；f為選自1、2、3、4、5、或6；1≦m+p≦2；總和d+f+r+t=6；且總和e+g+s+u=4、5、或6且其中：當總和e+g+s+u=4時，M 2 表選自鎳、鈀、銅、鐵、鈷、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s、和u分別選自0、1、2、或3；g選自1、2、3、或4；0≦d+e≦7；1≦r+s≦7；0≦t+u≦7；且2≦f+g≦9；當總和e+g+s+u=5時，M 2 表一選自鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s、和u分別選自0、1、2、3、或4；g為選自1、2、3、4、或5；0≦d+e≦8；1≦r+s≦8；0≦t+u≦8；且2≦f+g≦10；或當和e+g+s+u=6時，M 2 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s、和u分別選自0、1、2、3、4、或5； g為選自1、2、3、4、5、或6；0≦d+e≦9；1≦r+s≦9；0≦t+u≦9；且2≦f+g≦11。
本發明的第二樣態係針對一種催化性組成物之製法，包括：(i)提供一種根據式(II)的完全-(金屬偶)先驅體錯合物其中：M 1 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第一金屬原子；L 1 表一組第一配位基；L 2 表一組第二配位基；L 3 表一組第三配位基；R 1 表一組第一陰離子性含有烴基之基團；R 2 表一組第二陰離子性含有烴基之基團；S 1 表一組第一不穩定性配位基；S 2 表一組第二不穩定性配位基；A 1 -A 10 各表一組配位鍵；WCA表弱配位性陰離子；Y表脫離基；d+f+r+t+x=6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6(ii)將該完全-(金屬偶)先驅體錯合物與至少一活化劑成分組合；(iii)從該完全-(金屬偶)先驅體錯合物移除該脫離基Y；及(iv)使用至少一置換部份體置換該脫離基Y；其中對於該完全-(金屬偶)先驅體錯合物α、β、和c分別等於1；a、b、h、k、m、p、x、和y分別選自0或1；d、r、和t分別選自0、1、2、3、4、或5；f選自1、2、3、4、5、或6；1≦m+p≦2；且1≦x+y≦2；且其中：當總和e+g+s+u+y=4時，M 2 表選自鎳、鈀、銅、鐵、鈷、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s、和u分別選自0、1、2、或3；g選自1、2、3、或4；0≦d+e≦6；1≦r+s≦7；0≦t+u≦6；且2≦f+g≦8；當總和e+g+s+u=5時，M 2 表選自鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子； e、s、和u分別選自0、1、2、3、或4；g選自1、2、3、4、或5；0≦d+e≦7；1≦r+s≦8；0≦t+u≦7；且2≦f+g≦9；或當總和e+g+s+u=6時，M 2 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s、和u分別選自0、1、2、3、4、或5；g選自1、2、3、4、5、或6；0≦d+e≦8；1≦r+s≦9；0≦t+u≦8；且2≦f+g≦10。
本發明的第三樣態係針對一種製備催化性組成物之方法，包括：(i)提供第一半-(金屬偶)先驅體錯合物和第二半-(金屬偶)先驅體錯合物，該二者皆具有如式(II)之結構式：其中：M 1 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第一金屬原子；L 1 表一組第一配位基；L 2 表一組第二配位基；L 3 表一組第三配位基； R 1 表一組第一陰離子性含有烴基之基團；R 2 表一組第二陰離子性含有烴基之基團；S 1 表一組第一不穩定性配位基；S 2 表一組第二不穩定性配位基；A 1 -A 10 各表一組配位鍵；WCA表弱配位性陰離子；Y表脫離基；d+f+r+t+x=0或6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6；(ii)將該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物與至少一活化劑成分組合；(iii)從該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物移除該脫離基Y；及(iv)使用該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物置換該脫離基Y；其中於該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物中，α和x分別等於1；β、b、c、k、p、e、f、g、s、u、和y分別等於0；a、h、和m分別選自0或1；d、r、和t分別選自0、1、2、3、4、或5；且總和d+f+r+t+x=6；且其中對於該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物β等於1；α、a、c、h、m、d、f、g、r、t、x和y分別等於0； b、k、和p分別選自0或1；且總和e+g+s+u+y=4、5、或6；且其中：當總和e+g+s+u+y=4時，M 2 表選自鎳、鈀、銅、鐵、鈷、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e選自0、1、2、3、或4；s和u分別選自0、1、2、或3；當總和e+g+s+u+y=5時，M 2 表選自鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e選自0、1、2、3、4、或5；且s和u分別選自0、1、2、3、或4；或當總和e+g+s+u+y=6時，M 2 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e選自0、1、2、3、4、5、或6；且s和u分別選自0、1、2、3、4、或5；且其中該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物的m+該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物的p之和係選自1或2。
本發明的第四樣態係針對一種製備催化性組成物之方法，包括：(i)提供第一半-(金屬偶)先驅體錯合物和一第二半-(金屬偶)先驅體錯合物，該二者皆具有如式(II)之結構式：其中：M 1 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第一金屬原子；L 1 表一組第一配位基；L 2 表一組第二配位基；L 3 表一組第三配位基；R 1 表一組第一陰離子性含有烴基之基團；R 2 表一組第二陰離子性含有烴基之基團；S 1 表一組第一不穩定性配位基；S 2 表一組第二不穩定性配位基；A 1 -A 10 各表一組配位鍵；WCA表弱配位性陰離子；Y表脫離基；d+f+r+t+x=6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6；(ii)將該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物與至少一活化劑成分組合；(iii)從該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物移除該脫離基Y；及(iv)使用該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物置換該脫離基Y；其中於該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物中，β和y分別等於1；α、a、c、h、m、d、f、g、r、t、和x分別等於0；b、k、和p分別選自0和1；且總和e+g+s+u+y=4、5或6；且其中：當總和e+g+s+u+y=4時，M 2 表選自鎳、鈀、銅、鐵、鈷、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；且e、s和u分別選自0、1、2、或3；當總和e+g+s+u+y=5時，M 2 表選自鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s和u分別選自0、1、2、3、或4；當總和e+g+s+u+y=6時，M 2 表選自銅、鐵、鈷、釕、銠、鉻、和錳中之第二金屬原子；e、s和u分別選自0、1、2、3、4、或5；其中於該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物中，α等於1；β、b、c、k、p、e、f、g、s、u、x和y分別等於0；a、h、和m分別選自0或1；且d選自0、1、2、3、4、5、或6； r和t分別選自0、1、2、3、4、或5；且和d+f+r+t+x=6；且其中該第一半-(金屬偶)先驅體錯合物的m+該第二半-(金屬偶)先驅體錯合物的p之和係選自1或2。
本發明的另一樣態係針對一種製備至少一種加成聚合物之方法，包括：(a)組合下述(i)及(ii)(i)一種根據申請專利範圍第1項的催化性組成物；和(ii)至少一種烯系不飽和單體；及(b)在該催化性組成物存在中聚合該至少一種烯系不飽和單體，以形成該加成聚合物。
简体摘要：本发明揭示一种包括阳离子性金属偶错合物(metal-pair)之催化性组成物，以及其制备方法。也揭示一种使用该催化性组成物聚合烯系不饱和单体之方法，以及借此所制成的加成聚合物。 A catalytic composition, including a cationic metal-pair complex, is disclosed, along with a method for its preparation. A method for the polymerization of ethylenically unsaturated monomers using the catalytic composition, and the addition polymers produced thereby are also disclosed. 【创作特点】因而提供：本发明的一样态系针对一种包括至少一阳离子性金属偶错合物的催化性组成物，其中：该阳离子性金属偶的错合物包括至少一金属原子偶，该偶包括第一金属原子，M 1 ，与第二金属原子，M 2 ；该偶中的该第一金属原子和该第二金属原子具有至少1.5埃()且不超过20埃之经空间核间距离(through-space internuclecar distance)；且该阳离子性金属偶错合物为如式(I)的错合物，其中：M 1 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰之中的一第一金属原子；L 1 表一组第一配位基；L 2 表一组第二配位基；L 3 表一组第三配位基；R 1 表一组第一阴离子性含有烃基之基团；R 2 表一组第二阴离子性含有烃基之基团；S 1 表一组第一不稳定性配位基；S 2 表一组第二不稳定性配位基；A 1 -A 8 各表一组配位键；WCA表弱配位性阴离子；a、b、h、k、m、和p分别选自0和1；α、β、和c分别等于1； d、r、和t分别为选自0、1、2、3、4、或5；f为选自1、2、3、4、5、或6；1≦m+p≦2；总和d+f+r+t=6；且总和e+g+s+u=4、5、或6且其中：当总和e+g+s+u=4时，M 2 表选自镍、钯、铜、铁、钴、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s、和u分别选自0、1、2、或3；g选自1、2、3、或4；0≦d+e≦7；1≦r+s≦7；0≦t+u≦7；且2≦f+g≦9；当总和e+g+s+u=5时，M 2 表一选自铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s、和u分别选自0、1、2、3、或4；g为选自1、2、3、4、或5；0≦d+e≦8；1≦r+s≦8；0≦t+u≦8；且2≦f+g≦10；或当和e+g+s+u=6时，M 2 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s、和u分别选自0、1、2、3、4、或5； g为选自1、2、3、4、5、或6；0≦d+e≦9；1≦r+s≦9；0≦t+u≦9；且2≦f+g≦11。本发明的第二样态系针对一种催化性组成物之制法，包括：(i)提供一种根据式(II)的完全-(金属偶)先驱体错合物其中：M 1 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第一金属原子；L 1 表一组第一配位基；L 2 表一组第二配位基；L 3 表一组第三配位基；R 1 表一组第一阴离子性含有烃基之基团；R 2 表一组第二阴离子性含有烃基之基团；S 1 表一组第一不稳定性配位基；S 2 表一组第二不稳定性配位基；A 1 -A 10 各表一组配位键；WCA表弱配位性阴离子；Y表脱离基；d+f+r+t+x=6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6(ii)将该完全-(金属偶)先驱体错合物与至少一活化剂成分组合；(iii)从该完全-(金属偶)先驱体错合物移除该脱离基Y；及(iv)使用至少一置换部份体置换该脱离基Y；其中对于该完全-(金属偶)先驱体错合物α、β、和c分别等于1；a、b、h、k、m、p、x、和y分别选自0或1；d、r、和t分别选自0、1、2、3、4、或5；f选自1、2、3、4、5、或6；1≦m+p≦2；且1≦x+y≦2；且其中：当总和e+g+s+u+y=4时，M 2 表选自镍、钯、铜、铁、钴、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s、和u分别选自0、1、2、或3；g选自1、2、3、或4；0≦d+e≦6；1≦r+s≦7；0≦t+u≦6；且2≦f+g≦8；当总和e+g+s+u=5时，M 2 表选自铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子； e、s、和u分别选自0、1、2、3、或4；g选自1、2、3、4、或5；0≦d+e≦7；1≦r+s≦8；0≦t+u≦7；且2≦f+g≦9；或当总和e+g+s+u=6时，M 2 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s、和u分别选自0、1、2、3、4、或5；g选自1、2、3、4、5、或6；0≦d+e≦8；1≦r+s≦9；0≦t+u≦8；且2≦f+g≦10。本发明的第三样态系针对一种制备催化性组成物之方法，包括：(i)提供第一半-(金属偶)先驱体错合物和第二半-(金属偶)先驱体错合物，该二者皆具有如式(II)之结构式：其中：M 1 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第一金属原子；L 1 表一组第一配位基；L 2 表一组第二配位基；L 3 表一组第三配位基； R 1 表一组第一阴离子性含有烃基之基团；R 2 表一组第二阴离子性含有烃基之基团；S 1 表一组第一不稳定性配位基；S 2 表一组第二不稳定性配位基；A 1 -A 10 各表一组配位键；WCA表弱配位性阴离子；Y表脱离基；d+f+r+t+x=0或6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6；(ii)将该第一半-(金属偶)先驱体错合物与至少一活化剂成分组合；(iii)从该第一半-(金属偶)先驱体错合物移除该脱离基Y；及(iv)使用该第二半-(金属偶)先驱体错合物置换该脱离基Y；其中于该第一半-(金属偶)先驱体错合物中，α和x分别等于1；β、b、c、k、p、e、f、g、s、u、和y分别等于0；a、h、和m分别选自0或1；d、r、和t分别选自0、1、2、3、4、或5；且总和d+f+r+t+x=6；且其中对于该第二半-(金属偶)先驱体错合物β等于1；α、a、c、h、m、d、f、g、r、t、x和y分别等于0； b、k、和p分别选自0或1；且总和e+g+s+u+y=4、5、或6；且其中：当总和e+g+s+u+y=4时，M 2 表选自镍、钯、铜、铁、钴、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e选自0、1、2、3、或4；s和u分别选自0、1、2、或3；当总和e+g+s+u+y=5时，M 2 表选自铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e选自0、1、2、3、4、或5；且s和u分别选自0、1、2、3、或4；或当总和e+g+s+u+y=6时，M 2 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e选自0、1、2、3、4、5、或6；且s和u分别选自0、1、2、3、4、或5；且其中该第一半-(金属偶)先驱体错合物的m+该第二半-(金属偶)先驱体错合物的p之和系选自1或2。本发明的第四样态系针对一种制备催化性组成物之方法，包括：(i)提供第一半-(金属偶)先驱体错合物和一第二半-(金属偶)先驱体错合物，该二者皆具有如式(II)之结构式：其中：M 1 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第一金属原子；L 1 表一组第一配位基；L 2 表一组第二配位基；L 3 表一组第三配位基；R 1 表一组第一阴离子性含有烃基之基团；R 2 表一组第二阴离子性含有烃基之基团；S 1 表一组第一不稳定性配位基；S 2 表一组第二不稳定性配位基；A 1 -A 10 各表一组配位键；WCA表弱配位性阴离子；Y表脱离基；d+f+r+t+x=6；且和e+g+s+u+y=4、5、或6；(ii)将该第一半-(金属偶)先驱体错合物与至少一活化剂成分组合；(iii)从该第一半-(金属偶)先驱体错合物移除该脱离基Y；及(iv)使用该第二半-(金属偶)先驱体错合物置换该脱离基Y；其中于该第一半-(金属偶)先驱体错合物中，β和y分别等于1；α、a、c、h、m、d、f、g、r、t、和x分别等于0；b、k、和p分别选自0和1；且总和e+g+s+u+y=4、5或6；且其中：当总和e+g+s+u+y=4时，M 2 表选自镍、钯、铜、铁、钴、铑、铬、和锰中之第二金属原子；且e、s和u分别选自0、1、2、或3；当总和e+g+s+u+y=5时，M 2 表选自铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s和u分别选自0、1、2、3、或4；当总和e+g+s+u+y=6时，M 2 表选自铜、铁、钴、钌、铑、铬、和锰中之第二金属原子；e、s和u分别选自0、1、2、3、4、或5；其中于该第二半-(金属偶)先驱体错合物中，α等于1；β、b、c、k、p、e、f、g、s、u、x和y分别等于0；a、h、和m分别选自0或1；且d选自0、1、2、3、4、5、或6； r和t分别选自0、1、2、3、4、或5；且和d+f+r+t+x=6；且其中该第一半-(金属偶)先驱体错合物的m+该第二半-(金属偶)先驱体错合物的p之和系选自1或2。本发明的另一样态系针对一种制备至少一种加成聚合物之方法，包括：(a)组合下述(i)及(ii)(i)一种根据申请专利范围第1项的催化性组成物；和(ii)至少一种烯系不饱和单体；及(b)在该催化性组成物存在中聚合该至少一种烯系不饱和单体，以形成该加成聚合物。

5. 发明专利

TW201811810A 鐵錯合物之製造方法及使用鐵錯合物之酯化合物之製造方法审中-公开
简体标题：铁错合物之制造方法及使用铁错合物之酯化合物之制造方法
公开(公告)号：TW201811810A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106121210
申请日：2017-06-26
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高畑裕祐 , TAKAHATA, YUSUKE , 鍛冶屋敷強 , KAJIYASHIKI, TSUYOSHI , 細木朋哉 , HOSOKI, TOMOYA , 岡田公男 , OKADA, KIMIO
IPC分类号： C07F15/02 , B01J31/22 , C07C67/03
CPC分类号： C07C67/03 , C07C69/602 , C07C249/02 , C07C251/24 , C07F15/02
摘要：本發明提供一種產率良好，簡便製造鐵二核錯合物之方法，該鐵二核錯合物在其分子內具有2個鐵原子經由1個氧原子鍵結之構造及包含希夫鹼(Schiff base)之配位子構造；又提供一種酯化合物之製造方法，其即使在以通常難以進行酯交換反應之具有三級羥基的醇化合物作為原料的情況，藉由與羧酸酯進行酯交換反應，仍能以高產率得到酯化合物；以及提供一種藉由使用鐵錯合物作為觸媒之酯交換反應的酯化合物之製造方法，其即使在具有複數個羥基之醇化合物的情況，亦能以高產率製造其所有羥基被酯化的酯化合物。一種下述通式(4)或(5)所示之鐵錯合物之製造方法，其包含：步驟(I-1)：在水存在下，將鐵鹽與下述通式(1)所示之化合物混合，調製前驅物溶液，及步驟(I-2)：將前述前驅物溶液與下述通式(2)或(3)所示之化合物混合；以及一種酯化合物之製造方法，其包含在該鐵錯合物存在下，進行羧酸酯及醇化合物之酯交換反應的步驟(IV)。
简体摘要：本发明提供一种产率良好，简便制造铁二核错合物之方法，该铁二核错合物在其分子内具有2个铁原子经由1个氧原子键结之构造及包含希夫碱(Schiff base)之配位子构造；又提供一种酯化合物之制造方法，其即使在以通常难以进行酯交换反应之具有三级羟基的醇化合物作为原料的情况，借由与羧酸酯进行酯交换反应，仍能以高产率得到酯化合物；以及提供一种借由使用铁错合物作为触媒之酯交换反应的酯化合物之制造方法，其即使在具有复数个羟基之醇化合物的情况，亦能以高产率制造其所有羟基被酯化的酯化合物。一种下述通式(4)或(5)所示之铁错合物之制造方法，其包含：步骤(I-1)：在水存在下，将铁盐与下述通式(1)所示之化合物混合，调制前驱物溶液，及步骤(I-2)：将前述前驱物溶液与下述通式(2)或(3)所示之化合物混合；以及一种酯化合物之制造方法，其包含在该铁错合物存在下，进行羧酸酯及醇化合物之酯交换反应的步骤(IV)。

6. 发明专利

TWI596102B 由異種複核錯合物所成之化學蒸鍍用原料及使用該化學蒸鍍用原料之化學蒸鍍法有权
简体标题：由异种复核错合物所成之化学蒸镀用原料及使用该化学蒸镀用原料之化学蒸镀法
公开(公告)号：TWI596102B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW105113842
申请日：2016-05-04
申请人：田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K.
发明人：原田了輔 , HARADA, RYOSUKE , 重冨利幸 , SHIGETOMI, TOSHIYUKI , 鍋谷俊一 , NABEYA, SHUNICHI , 鈴木和治 , SUZUKI, KAZUHARU , 熊倉亜希子 , KUMAKURA, AKIKO , 青山達貴 , AOYAMA, TATSUTAKA , 曽根孝之 , SONE, TAKAYUKI
IPC分类号： C07F17/02 , C23C16/18
CPC分类号： C23C16/18 , C07F13/00 , C07F15/00 , C07F15/0046 , C07F15/02 , C07F15/04 , C07F15/06 , C07F17/00 , C07F19/00 , C23C16/06

7. 发明专利

TW201710278A 由異種複核錯合物所成之化學蒸鍍用原料及使用該化學蒸鍍用原料之化學蒸鍍法审中-公开
简体标题：由异种复核错合物所成之化学蒸镀用原料及使用该化学蒸镀用原料之化学蒸镀法
公开(公告)号：TW201710278A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105113842
申请日：2016-05-04
申请人：田中貴金屬工業股份有限公司 , TANAKA KIKINZOKU KOGYO K. K.
发明人：原田了輔 , HARADA, RYOSUKE , 重冨利幸 , SHIGETOMI, TOSHIYUKI , 鍋谷俊一 , NABEYA, SHUNICHI , 鈴木和治 , SUZUKI, KAZUHARU , 熊倉亜希子 , KUMAKURA, AKIKO , 青山達貴 , AOYAMA, TATSUTAKA , 曽根孝之 , SONE, TAKAYUKI
IPC分类号： C07F17/02 , C23C16/18
CPC分类号： C23C16/18 , C07F13/00 , C07F15/00 , C07F15/0046 , C07F15/02 , C07F15/04 , C07F15/06 , C07F17/00 , C07F19/00 , C23C16/06
摘要：本發明係關於由於中心金屬之第1過渡金屬及第2過渡金屬，配位環戊二烯基及羰基的異種複核錯合物所成的下述所示的化學蒸鍍用原料。對於下述，第1過渡金屬(M1)與第2過渡金屬(M2)為彼此相異。環戊二烯基(L)為1個以上2個以下，作為取代基R1~R5各配位氫原子、碳數1以上5以下的烷基中任1種。有關本發明之化學蒸鍍用原料可藉由單一原料形成含有複數種金屬之複合金屬薄膜或複合金屬化合物薄膜。
简体摘要：本发明系关于由于中心金属之第1过渡金属及第2过渡金属，配位环戊二烯基及羰基的异种复核错合物所成的下述所示的化学蒸镀用原料。对于下述，第1过渡金属(M1)与第2过渡金属(M2)为彼此相异。环戊二烯基(L)为1个以上2个以下，作为取代基R1~R5各配位氢原子、碳数1以上5以下的烷基中任1种。有关本发明之化学蒸镀用原料可借由单一原料形成含有复数种金属之复合金属薄膜或复合金属化合物薄膜。

8. 发明专利

TW201702256A 胺基二茂鐵衍生物及有機發光二極體审中-公开
简体标题：胺基二茂铁衍生物及有机发光二极管
公开(公告)号：TW201702256A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW104121302
申请日：2015-07-01
申请人：國立清華大學 , NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
发明人：鄭建鴻 , CHENG, CHIEN HONG , 賴振昌 , LAI, CHENG CHANG , 張育瑋 , CHANG, YU WEI , 廖椿毅 , LIAO, CHUANG YI , 黃敏傑 , HUANG, MIN JIE
IPC分类号： C07F15/02 , H01L51/50 , H05B33/18
CPC分类号： H01L51/0083 , C07F15/02 , H01L51/5278
摘要：一種胺基二茂鐵衍生物，如式(I)所示。在式(I)中，Ar1、Ar2相同或不同地表示經取代或未經取代的C6~C10芳基。本發明的胺基二茂鐵衍生物能作為OLED中的p-型載子產生層，且能使經串聯後的OLED(串聯式OLED)具有高發光亮度、外部量子效率及電流效率等特性。
简体摘要：一种胺基二茂铁衍生物，如式(I)所示。在式(I)中，Ar1、Ar2相同或不同地表示经取代或未经取代的C6~C10芳基。本发明的胺基二茂铁衍生物能作为OLED中的p-型载子产生层，且能使经串联后的OLED(串联式OLED)具有高发光亮度、外部量子效率及电流效率等特性。

10. 发明专利

TW201307369A 山椒醇（ｓａｎｓｈｏｏｌ）類之製造方法审中-公开
简体标题：山椒醇（ｓａｎｓｈｏｏｌ）类之制造方法
公开(公告)号：TW201307369A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW100144099
申请日：2011-11-30
申请人：津村股份有限公司 , TSUMURA & CO.
发明人：青木勝之 , AOKI, KATSUYUKI
IPC分类号： C07F15/02 , C07C233/09 , C07C233/20 , C07C255/07 , C07C231/12
CPC分类号： C07C231/12 , C07F15/02 , C07C233/09 , C07C233/20
摘要：本發明係提供步驟簡短且高立體選擇性之山椒醇類之製造方法及對該製造方法有用的中間體之羰基鐵錯合物。以下述一般式(I)所表示為特徵之二烯鐵錯合物。 (式中，A係表示CO、P(RA)3、CN、NO、SO(RA)3或N(RA)2，RA係表示碳數1至4之直鏈或支鏈的烷基、或碳數6至12之芳基。R1及R2中任一方係表示氫原子，另一方係以下述式(Ⅱ)所表示之結構。) (式中，R係表示氫原子、羥基或甲基。)
简体摘要：本发明系提供步骤简短且高三維选择性之山椒醇类之制造方法及对该制造方法有用的中间体之羰基铁错合物。以下述一般式(I)所表示为特征之二烯铁错合物。 (式中，A系表示CO、P(RA)3、CN、NO、SO(RA)3或N(RA)2，RA系表示碳数1至4之直链或支链的烷基、或碳数6至12之芳基。R1及R2中任一方系表示氢原子，另一方系以下述式(Ⅱ)所表示之结构。) (式中，R系表示氢原子、羟基或甲基。)

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