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    • 1. 发明专利
    • 不透明陶瓷塗層
    • 不透明陶瓷涂层
    • TW362239B
    • 1999-06-21
    • TW086114137
    • 1997-09-27
    • 道康寧公司
    • H01L
    • H01L27/0203C04B41/009C04B41/5035C04B41/52C04B41/87C04B41/89C04B2111/00844H01L21/316H01L21/481H01L23/291H01L23/49894H01L23/573H01L2924/0002C04B41/4539C04B41/4554C04B41/5027C04B2103/56C04B41/4529C04B41/5053C04B41/522C04B41/5002C04B35/10H01L2924/00
    • 本發明係關於一種在電子基底上形成塗層之方法,及藉其塗覆之電子基底。該方法包括將一種塗層組合物塗佈至該電子基底上,該塗層組合物包含膠質二氧化矽與 RSi(OH)3的部份縮合物之含水烷醇分散液,其中R係選自包括具有1到3個碳原子的烷基、乙烯基、3,3,3-三氟丙基、r-縮水甘油氧丙基與r-甲基丙烯醯氧丙基,其附帶條件是至少70%R基為甲基,及接著將該塗層在200至1000℃之溫度下加熱使其陶瓷化。使用內含膠質二氧化矽 RSi(OH)3的部份結合物之含水烷醇分散液之塗層組合物,可使得厚平面化塗層得以在該電子基底上形成。本發明亦關於厚且不透明的陶瓷塗層,其係用來保護嬌弱的微電子元件,對抗受激發的能源、輻射、光、磨耗、以及濕蝕刻技術。該厚且不透明陶瓷塗層係製自包含碳化鎢(WC)、鎢金屬(W)和磷酸酐意即五氧化二磷(P2O5)之混合物,由膠質二氧化矽與甲基矽烷三醇之部份縮合物之含水烷醇分散液來攜存。使該塗層熱解以形成含Sio2的陶瓷塗層。
    • 本发明系关于一种在电子基底上形成涂层之方法,及藉其涂覆之电子基底。该方法包括将一种涂层组合物涂布至该电子基底上,该涂层组合物包含胶质二氧化硅与 RSi(OH)3的部份缩合物之含水烷醇分散液,其中R系选自包括具有1到3个碳原子的烷基、乙烯基、3,3,3-三氟丙基、r-缩水甘油氧丙基与r-甲基丙烯酰氧丙基,其附带条件是至少70%R基为甲基,及接着将该涂层在200至1000℃之温度下加热使其陶瓷化。使用内含胶质二氧化硅 RSi(OH)3的部份结合物之含水烷醇分散液之涂层组合物,可使得厚平面化涂层得以在该电子基底上形成。本发明亦关于厚且不透明的陶瓷涂层,其系用来保护娇弱的微电子组件,对抗受激发的能源、辐射、光、磨耗、以及湿蚀刻技术。该厚且不透明陶瓷涂层系制自包含碳化钨(WC)、钨金属(W)和磷酸酐意即五氧化二磷(P2O5)之混合物,由胶质二氧化硅与甲基硅烷三醇之部份缩合物之含水烷醇分散液来携存。使该涂层热解以形成含Sio2的陶瓷涂层。