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1. 发明专利

TW200502161A 降低三氟化氮中二氟化二氮及四氟化二氮濃度之熱方法 THERMAL PROCESS FOR REDUCING THE CONCENTRATION OF DINITROGEN DIFLUORIDE AND DINITROGEN TETRAFLUORIDE IN NITROGEN TRIFLUORIDE 审中-公开
简体标题：降低三氟化氮中二氟化二氮及四氟化二氮浓度之热方法 THERMAL PROCESS FOR REDUCING THE CONCENTRATION OF DINITROGEN DIFLUORIDE AND DINITROGEN TETRAFLUORIDE IN NITROGEN TRIFLUORIDE
公开(公告)号：TW200502161A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW093107561
申请日：2004-03-19
申请人：杜邦股份有限公司 E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人：巴利艾許馬勒 MAHLER, BARRY ASHER , 馬利歐J 那帕 NAPPA, MARIO J.
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01J19/02 , B01J19/002 , B01J19/2415 , B01J2219/00094 , B01J2219/00099 , B01J2219/00135 , B01J2219/00157 , B01J2219/00247 , B01J2219/00252 , B01J2219/0218 , C01B21/0832 , C01B21/0835 , H01L21/3065
摘要：在三氟化氮混合物中，不受歡迎之雜質二氟化二氮和四氟化二氮之濃度係藉由在容器內加熱氣相混合物，並且回收已經降低此類雜質濃度之三氟化氮產物而降低，其中該容器之內壁選自電拋光金屬、陶瓷氧化鋁或者藍寶石。該方法係在約150℃至約300℃溫度下進行，並且該容器較佳為無填充物，並且該容器內進行加熱步驟之區域中，容器內表面積對容器體積之比率縮到最小。該方法視情況進一步包括使容器內壁與包含氟氣之鈍化組合物接觸的步驟。
简体摘要：在三氟化氮混合物中，不受欢迎之杂质二氟化二氮和四氟化二氮之浓度系借由在容器内加热气相混合物，并且回收已经降低此类杂质浓度之三氟化氮产物而降低，其中该容器之内壁选自电抛光金属、陶瓷氧化铝或者蓝宝石。该方法系在约150℃至约300℃温度下进行，并且该容器较佳为无填充物，并且该容器内进行加热步骤之区域中，容器内表面积对容器体积之比率缩到最小。该方法视情况进一步包括使容器内壁与包含氟气之钝化组合物接触的步骤。

2. 发明专利

TW200722370A 三氟化氮之製造方法及製造裝置审中-公开
简体标题：三氟化氮之制造方法及制造设备
公开(公告)号：TW200722370A
公开(公告)日：2007-06-16
申请号：TW095131376
申请日：2006-08-25
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：大野博基 OHNO, HIROMOTO , 大井敏夫 OHI, TOSHIO , 酒井雄二 SAKAI, YUJI
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B21/0835 , C01C1/162
摘要：本發明係三氟化氮之製造方法及製造裝置,其中,有關本發明之三氟化氮之製造方法,其特徵為,供給氟氣與氨氣於管狀反應器,然後在稀釋氣體的存在下,氣相中,無觸媒條件下使其反應,使主要由三氟化氮而成之氣體生成物,與主要由氟化銨及/或酸性氟化銨而成之固體生成物被生成,並根據為了除去裝入於前述管狀反應器之前述固體生成物之裝置,除去附著於前述管狀反應器內壁的前述固體生成物。
简体摘要：本发明系三氟化氮之制造方法及制造设备,其中,有关本发明之三氟化氮之制造方法,其特征为,供给氟气与氨气于管状反应器,然后在稀释气体的存在下,气相中,无触媒条件下使其反应,使主要由三氟化氮而成之气体生成物,与主要由氟化铵及/或酸性氟化铵而成之固体生成物被生成,并根据为了除去装入于前述管状反应器之前述固体生成物之设备,除去附着于前述管状反应器内壁的前述固体生成物。

3. 发明专利

TW200413247A 生產三氟化氮的方法 METHOD FOR NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION 失效
简体标题：生产三氟化氮的方法 METHOD FOR NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION
公开(公告)号：TW200413247A
公开(公告)日：2004-08-01
申请号：TW092132340
申请日：2003-11-18
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：羅伯特‧喬治‧斯維特 ROBERT GEORGE SYVRET , 貝斯‧安‧康平 BETH ANN CAMPION , 葛雷格里‧艾倫‧庫波 GREGORY ALAN COOPER , 喬安‧馬利‧夏克 JOAN MARIE SCHORK
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B21/0835 , C01B7/191
摘要：一種由分散於液相反應混合物中的氟反應物和銨離子源製備三氟化氮的方法，該液相反應混合物包含一種或多種本文公開的全氟化碳液體。在一個實施方案中，氟反應物在90–120℃的溫度範圍內輸入反應混合物中。在這個實施方案中，三氟化氮的產率百分數為80％或更高。
简体摘要：一种由分散于液相反应混合物中的氟反应物和铵离子源制备三氟化氮的方法，该液相反应混合物包含一种或多种本文公开的全氟化碳液体。在一个实施方案中，氟反应物在90–120℃的温度范围内输入反应混合物中。在这个实施方案中，三氟化氮的产率百分数为80％或更高。

4. 发明专利

TW200611878A 用於就地生產氟和三氟化氮之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR LOCAL FLUORINE AND NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION 审中-公开
简体标题：用于就地生产氟和三氟化氮之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR LOCAL FLUORINE AND NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION
公开(公告)号：TW200611878A
公开(公告)日：2006-04-16
申请号：TW094111201
申请日：2005-04-08
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：唐諾P 賽其爾二世 SATCHELL, DONALD P. JR.
IPC分类号： C01B , C23G , H01L
CPC分类号： C01B7/20 , C01B21/0835
摘要：本發明有關一種生產、運送和處理NH4F(HF)x原料的製程，其可就地生產用於清潔半導體反應室的氟和三氟化氮而不需儲存大量危險原料和中間產物。
简体摘要：本发明有关一种生产、运送和处理NH4F(HF)x原料的制程，其可就地生产用于清洁半导体反应室的氟和三氟化氮而不需存储大量危险原料和中间产物。

5. 发明专利

TWI230686B 生產三氟化氮的方法 METHOD FOR NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION 失效
简体标题：生产三氟化氮的方法 METHOD FOR NITROGEN TRIFLUORIDE PRODUCTION
公开(公告)号：TWI230686B
公开(公告)日：2005-04-11
申请号：TW092132340
申请日：2003-11-18
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：羅伯特.喬治.斯維特 ROBERT GEORGE SYVRET , 貝斯.安.康平 BETH ANN CAMPION , 葛雷格里.艾倫.庫波 GREGORY ALAN COOPER , 喬安.馬利.夏克 JOAN MARIE SCHORK
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B21/0835 , C01B7/191
摘要：一種由分散於液相反應混合物中的氟反應物和銨離子源製備三氟化氮的方法，該液相反應混合物包含一種或多種本文公開的全氟化碳液體。在一個實施方案中，氟反應物在90-120℃的溫度範圍內輸入反應混合物中。在這個實施方案中，三氟化氮的產率百分數為80%或更高。
简体摘要：一种由分散于液相反应混合物中的氟反应物和铵离子源制备三氟化氮的方法，该液相反应混合物包含一种或多种本文公开的全氟化碳液体。在一个实施方案中，氟反应物在90-120℃的温度范围内输入反应混合物中。在这个实施方案中，三氟化氮的产率百分数为80%或更高。

6. 发明专利

TW332305B 回收氟化物之低溫精餾系統失效
简体标题：回收氟化物之低温精馏系统
公开(公告)号：TW332305B
公开(公告)日：1998-05-21
申请号：TW084112929
申请日：1995-12-05
申请人：普拉塞爾科技股份有限公司
发明人：金以健 , 提俄多佛萊吉林費雪
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C01B17/453 , C01B21/0835
摘要：本發明揭示一種從載運氣流中回收氟化物之低溫精餾系統，該載運氣流例如來自含有質量轉移接觸裝置之半導體設備的廢氣流，質量轉移接觸裝置例如與低溫精餾塔系統整合在一起的低溫洗滌柱。
简体摘要：本发明揭示一种从载运气流中回收氟化物之低温精馏系统，该载运气流例如来自含有质量转移接触设备之半导体设备的废气流，质量转移接触设备例如与低温精馏塔系统集成在一起的低温洗涤柱。

7. 发明专利

TWI325846B ＮＦ３生產反應器 NF3 PRODUCTION REACTOR 失效
简体标题：ＮＦ３生产反应器 NF3 PRODUCTION REACTOR
公开(公告)号：TWI325846B
公开(公告)日：2010-06-11
申请号：TW092136569
申请日：2003-12-23
申请人： BOC集團公司
发明人：多納德P 塞屈爾二世
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01F5/106 , B01F5/0602 , B01F7/16 , B01F13/103 , B01J8/06 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/1881 , B01J19/2425 , B01J2219/00006 , B01J2219/0004 , B01J2219/00085 , B01J2219/00247 , C01B21/0835 , C01P2006/80
摘要：一種生產三氟化氮的方法，其在具較低能量輸入之第一反應區中將氟氣與液態酸氟化氨反應，然後在具較高能量輸入之第二反應區處理形成的反應產物。形成的粗三氟化氮產物可更進一步在增溫下以氟氣處理而改良所需產物之產率。 A process for the production of nitrogen trifluoride by reacting fluorine gas and liquid ammonia acid fluoride in a first reaction zone having a relatively low energy input followed by treatment of the resulting reaction product in a second reaction zone having a relatively high energy input. The resulting crude nitrogen trifluoride product may be further treated with fluorine gas under elevated temperatures to improve yield of the desired product. 【創作特點】本發明一般係指將氟氣、氨氣和液態酸氟化銨反應以生產NF3。本發明提供之方法，其中低能輸入提供在較高濃度腐蝕反應物氟氣的周圍，而較高能量輸入提供在較低濃度氟的周圍。本發明最終提供具有較優NF3產率之NF3的生產系統，而無過度腐蝕混合組件。能量輸入及氟濃度的平衡產生較不易於腐蝕的反應環境。特定言之，選定反應區的闊高比及提供反應區的能量輸入而組成反應區，其中容易引起腐蝕的條件(舉例來說：高剪率、高能輸入和高濃度氟氣)與容易傾向低腐蝕的條件(低剪率，低能輸入和低濃度氟氣)達到平衡。
本方法在二個反應區中進行，其中第一反應區特徵為較高闊高比及較低能量輸入，該區用來在較高濃度下反應氟氣。第二反應區讓方法能夠以較低闊高比和較高能量輸入進行，其中因為一些氟氣已經反應了，所以氟氣濃度較低。
在本發明一個特定方面上，其中提供：一種生產NF3的方法，其包含： a)在較低能量環境第一反應區中，將啟始濃度氟氣與液態酸氟化銨反應而產生包含NF3和至少一些未反應氟氣的第一反應產物；和 b)在較高能量環境的第二反應區中將包括未反應氟氣的第一反應產物予以反應以產生第二反應產物，其中在第一反應區的較低能量環境中及在第二反應區較高能量環境中實質上將氟氣轉化成NF3，其方式為實質上至少減少在第一和第二反應區中，導因於氟氣腐蝕性質的腐蝕。
在本發明較優具體化實例中，當產生NF3的方法一部分形成雜質，其至少含有N2F4和NH4(HF)x的雜質，其在增溫下與氟氣反應以轉化至少某些NF3的雜質，並且本質上完全地移除雜質。
简体摘要：一种生产三氟化氮的方法，其在具较低能量输入之第一反应区中将氟气与液态酸氟化氨反应，然后在具较高能量输入之第二反应区处理形成的反应产物。形成的粗三氟化氮产物可更进一步在增温下以氟气处理而改良所需产物之产率。 A process for the production of nitrogen trifluoride by reacting fluorine gas and liquid ammonia acid fluoride in a first reaction zone having a relatively low energy input followed by treatment of the resulting reaction product in a second reaction zone having a relatively high energy input. The resulting crude nitrogen trifluoride product may be further treated with fluorine gas under elevated temperatures to improve yield of the desired product. 【创作特点】本发明一般系指将氟气、氨气和液态酸氟化铵反应以生产NF3。本发明提供之方法，其中低能输入提供在较高浓度腐蚀反应物氟气的周围，而较高能量输入提供在较低浓度氟的周围。本发明最终提供具有较优NF3产率之NF3的生产系统，而无过度腐蚀混合组件。能量输入及氟浓度的平衡产生较不易于腐蚀的反应环境。特定言之，选定反应区的阔高比及提供反应区的能量输入而组成反应区，其中容易引起腐蚀的条件(举例来说：高剪率、高能输入和高浓度氟气)与容易倾向低腐蚀的条件(低剪率，低能输入和低浓度氟气)达到平衡。本方法在二个反应区中进行，其中第一反应区特征为较高阔高比及较低能量输入，该区用来在较高浓度下反应氟气。第二反应区让方法能够以较低阔高比和较高能量输入进行，其中因为一些氟气已经反应了，所以氟气浓度较低。在本发明一个特定方面上，其中提供：一种生产NF3的方法，其包含： a)在较低能量环境第一反应区中，将启始浓度氟气与液态酸氟化铵反应而产生包含NF3和至少一些未反应氟气的第一反应产物；和 b)在较高能量环境的第二反应区中将包括未反应氟气的第一反应产物予以反应以产生第二反应产物，其中在第一反应区的较低能量环境中及在第二反应区较高能量环境中实质上将氟气转化成NF3，其方式为实质上至少减少在第一和第二反应区中，导因于氟气腐蚀性质的腐蚀。在本发明较优具体化实例中，当产生NF3的方法一部分形成杂质，其至少含有N2F4和NH4(HF)x的杂质，其在增温下与氟气反应以转化至少某些NF3的杂质，并且本质上完全地移除杂质。

8. 发明专利

TWI265148B 生產三氟化氮的方法 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF NITROGEN TRIFLUORIDE 失效
简体标题：生产三氟化氮的方法 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF NITROGEN TRIFLUORIDE
公开(公告)号：TWI265148B
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：TW094131928
申请日：2005-09-15
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：維保‧P‧杜拉基亞 DHOLAKIA, VIPUL P. , 亞瑟奈索斯‧喬治歐斯‧濟魯基斯 TSIRUKIS, ATHANASIOS GEORGIOS , 安東尼‧J‧茲漢德 ZEHNDER, ANTHONY J. , 理查‧彼得‧波漢 BOEHME, RICHARD PETER
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B21/0835
摘要：本發明涉及改進反應工藝，其允許取得優異的NF3產品產量，同時最小化從工藝氣體中逃出的未反應氟和最小化該工藝引起的熔融物廢料(HF/NH3)。基本的NF3工藝為F2與銨離子源例如氟化氫銨(ammonium acid fluoride)在形成NF3的條件下反應，工藝中的改進包括：
在第一溫度下，將所述F2和所述銨離子源以同方向(cocurrently)引入且向下流通過填充塔或單塊塔；
在所述的塔中使所述F2和銨離子源發生反應；和
在比所述第一溫度高的第二溫度下，從所述塔去除NF3和副產物的混合物。
简体摘要：本发明涉及改进反应工艺，其允许取得优异的NF3产品产量，同时最小化从工艺气体中逃出的未反应氟和最小化该工艺引起的熔融物废料(HF/NH3)。基本的NF3工艺为F2与铵离子源例如氟化氢铵(ammonium acid fluoride)在形成NF3的条件下反应，工艺中的改进包括：在第一温度下，将所述F2和所述铵离子源以同方向(cocurrently)引入且向下流通过填充塔或单块塔；在所述的塔中使所述F2和铵离子源发生反应；和在比所述第一温度高的第二温度下，从所述塔去除NF3和副产物的混合物。

9. 发明专利

TW200610731A 生產三氟化氮的方法 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF NITROGEN TRIFLUORIDE 失效
简体标题：生产三氟化氮的方法 PROCESS FOR THE PRODUCTION OF NITROGEN TRIFLUORIDE
公开(公告)号：TW200610731A
公开(公告)日：2006-04-01
申请号：TW094131928
申请日：2005-09-15
申请人：氣體產品及化學品股份公司 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：維保.P.杜拉基亞 DHOLAKIA, VIPUL P. , 亞瑟奈索斯.喬治歐斯.濟魯基斯 TSIRUKIS, ATHANASIOS GEORGIOS , 安東尼.J.茲漢德 ZEHNDER, ANTHONY J. , 理查.彼得.波漢 BOEHME, RICHARD PETER
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B21/0835
摘要：本發明涉及改進反應工藝，其允許取得優異的NF3產品產量，同時最小化從工藝氣體中逃出的未反應氟和最小化該工藝引起的熔融物廢料(HF／NH3)。基本的NF3工藝為F2與銨離子源例如氟化氫銨(ammonium acid fluoride)在形成NF3的條件下反應，工藝中的改進包括：在第一溫度下，將所述F2和所述銨離子源以同方向(cocurrently)引入且向下流通過填充塔或單塊塔；在所述的塔中使所述F2和銨離子源發生反應；和在比所述第一溫度高的第二溫度下，從所述塔去除NF3和副產物的混合物。
简体摘要：本发明涉及改进反应工艺，其允许取得优异的NF3产品产量，同时最小化从工艺气体中逃出的未反应氟和最小化该工艺引起的熔融物废料(HF／NH3)。基本的NF3工艺为F2与铵离子源例如氟化氢铵(ammonium acid fluoride)在形成NF3的条件下反应，工艺中的改进包括：在第一温度下，将所述F2和所述铵离子源以同方向(cocurrently)引入且向下流通过填充塔或单块塔；在所述的塔中使所述F2和铵离子源发生反应；和在比所述第一温度高的第二温度下，从所述塔去除NF3和副产物的混合物。

10. 发明专利

TW200427625A NF3生產反應器 NF3 PRODUCTION REACTOR 失效
简体标题： NF3生产反应器 NF3 PRODUCTION REACTOR
公开(公告)号：TW200427625A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW092136569
申请日：2003-12-23
申请人： BOC集團公司 THE BOC GROUP, INC.
发明人：多納德P 塞屈爾二世 SATCHELL, JR., DONALD P.
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01F5/106 , B01F5/0602 , B01F7/16 , B01F13/103 , B01J8/06 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/1881 , B01J19/2425 , B01J2219/00006 , B01J2219/0004 , B01J2219/00085 , B01J2219/00247 , C01B21/0835 , C01P2006/80
摘要：一種生產三氟化氮的方法，其在具較低能量輸入之第一反應區中將氟氣與液態酸氟化氨反應，然後在具較高能量輸入之第二反應區處理形成的反應產物。形成的粗三氟化氮產物可更進一步在增溫下以氟氣處理而改良所需產物之產率。
简体摘要：一种生产三氟化氮的方法，其在具较低能量输入之第一反应区中将氟气与液态酸氟化氨反应，然后在具较高能量输入之第二反应区处理形成的反应产物。形成的粗三氟化氮产物可更进一步在增温下以氟气处理而改良所需产物之产率。

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