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1. 发明专利

TW343922B 由固體物質釋出氣體或蒸氣之組合失效
简体标题：由固体物质发佈气体或蒸气之组合
公开(公告)号：TW343922B
公开(公告)日：1998-11-01
申请号：TW086104336
申请日：1997-04-03
申请人：强森&强森醫療股份有限公司
发明人：米卻爾漢斯 , 李查傑德肯多 , 林斯民 , 保羅泰勒傑寇斯 , 哈諾德R威廉斯 , 陳筱嵐 , 羅伯M史培色
IPC分类号： A61L
CPC分类号： A61L2/14 , A61L2/208 , A61L2/26 , A61L2202/122 , A61L2202/24 , C01B15/01 , C01B15/03 , C01B15/037 , C01B15/06 , C01B15/08 , C01B15/103 , C01B15/14 , C01B15/16
摘要：一種從固體物質釋出氣體或蒸氣的系統。該釋出系統特別適用於從一固體物質，諸如一不含水的或固體的過氧化氫錯合物，中釋出氣體或蒸氣。該系統包括一輸送系統，其被建構成來接受多個裝有該固體物質的盤，並將這些盤送入一噴注射器中。該注射器對這些盤加熱以產生一接下來被供入一腔室中的氣體或蒸氣。該消毒程序可只用氣體或蒸氣來完成，或配合電漿或紫外線來完成。特別是，一控制系統自動地促使該輸送系統以提供一盤給該注射器然後在該注射步驟完成之後將該盤移走。
简体摘要：一种从固体物质发佈气体或蒸气的系统。该发佈系统特别适用于从一固体物质，诸如一不含水的或固体的过氧化氢错合物，中发佈气体或蒸气。该系统包括一输送系统，其被建构成来接受多个装有该固体物质的盘，并将这些盘送入一喷注射器中。该注射器对这些盘加热以产生一接下来被供入一腔室中的气体或蒸气。该消毒进程可只用气体或蒸气来完成，或配合等离子或紫外线来完成。特别是，一控制系统自动地促使该输送系统以提供一盘给该注射器然后在该注射步骤完成之后将该盘移走。

2. 发明专利

TW201635903A 殺菌劑及利用該殺菌劑的殺菌方法审中-公开
简体标题：杀菌剂及利用该杀菌剂的杀菌方法
公开(公告)号：TW201635903A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW105101010
申请日：2016-01-14
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：君塚健一 , KIMIZUKA, KEN-ICHI , 野口亞理沙 , NOGUCHI, ARISA
IPC分类号： A01N25/02 , A01N25/06 , A01N31/02 , A01N55/02 , A01N57/20 , A01P1/00 , A61L2/18 , A61L2/20 , A61L9/015
CPC分类号： A01N25/02 , A01N25/22 , A01N59/00 , A61L2/20 , A61L2/22 , C01B15/037
摘要：根據本發明之一實施形態可提供一種殺菌劑，其特徵為包括：含有過氧化氫、有機膦酸或其鹽、及鋁鹽之水溶液。進一步，根據本發明之另一實施形態可提供一種對象物之殺菌方法，其特徵為：使該殺菌劑以霧氣(mist)或蒸氣形式接觸對象物。該有機膦酸為下列通式(1)表示之化合物較佳。【化1】通式(1) (通式(1)中，n為2~8之整數，R為具有1~20個碳原子及至少1個雜原子之有機基。)
简体摘要：根据本发明之一实施形态可提供一种杀菌剂，其特征为包括：含有过氧化氢、有机膦酸或其盐、及铝盐之水溶液。进一步，根据本发明之另一实施形态可提供一种对象物之杀菌方法，其特征为：使该杀菌剂以雾气(mist)或蒸气形式接触对象物。该有机膦酸为下列通式(1)表示之化合物较佳。【化1】通式(1) (通式(1)中，n为2~8之整数，R为具有1~20个碳原子及至少1个杂原子之有机基。)

3. 发明专利

TW518372B 光潔性及去活性之液體組成物與使金屬表面光潔且去活性之方法有权
简体标题：光洁性及去活性之液体组成物与使金属表面光洁且去活性之方法
公开(公告)号：TW518372B
公开(公告)日：2003-01-21
申请号：TW089127691
申请日：2000-12-22
申请人：亨克爾兩合股份有限公司
发明人：帕爾羅布如儂佐丹尼 , 范倫鐵諾卡司帕任透 , 丹尼歐內格利
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C01B15/037 , C23C22/10 , C23C22/50 , C23F3/06 , C23G1/083
摘要：本發明係關於一種不含鉻與氮之光潔性以及去活性之用於金屬表面，特別是鐵及鋼之處理，包含：至少一種酸；至少一含過氧基之物質；以及至少一選自於該組別由下列分子所組成之有機物質：含有至少一乙醚以及至少一羥基之分子；含有至少兩個乙醚之分子；以及在每一分子中含有至少一乙醚以及一至少和三個碳原子共價結合之氮原子分子。比較受偏好之乃部分酸要含有磷元素，其為習知之和此有機物質產生相互協同作用而安定過氧化合物免於被分解，特別是在金屬離子存在之下。
简体摘要：本发明系关于一种不含铬与氮之光洁性以及去活性之用于金属表面，特别是铁及钢之处理，包含：至少一种酸；至少一含过氧基之物质；以及至少一选自于该组别由下列分子所组成之有机物质：含有至少一乙醚以及至少一羟基之分子；含有至少两个乙醚之分子；以及在每一分子中含有至少一乙醚以及一至少和三个碳原子共价结合之氮原子分子。比较受偏好之乃部分酸要含有磷元素，其为习知之和此有机物质产生相互协同作用而安定过氧化合物免于被分解，特别是在金属离子存在之下。

4. 发明专利

TW201223857A 過氧化氫水溶液之濃縮方法 PROCESS FOR CONCENTRATING AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION 审中-公开
简体标题：过氧化氢水溶液之浓缩方法 PROCESS FOR CONCENTRATING AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION
公开(公告)号：TW201223857A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW100129947
申请日：2011-08-22
申请人：贏創德固賽有限責任公司
发明人：艾克霍夫哈柏塔斯 , 洛德佛洛里安 , 亞里瓦洛愛德爾杜 , 布蘭朵馬克 , 華洛特克勞蒂亞
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B15/013 , B01D1/2806 , B01D1/2856 , B01D1/289 , B01D3/148 , C01B15/037 , Y10S203/19
摘要：在一種濃縮過氧化氫水溶液以提供不同濃度的兩個過氧化氫流之方法，其中，在包含預蒸發器(1)、蒸餾塔(2)和蒸氣壓縮機(3)的裝置中，將待濃縮的過氧化氫水溶液(4)連續餵入預蒸發器，將在預蒸發器中藉蒸發而製造的蒸氣(5)餵至蒸餾塔，將於預蒸發器中得到的底部產物(6)提取作為第一濃縮過氧化氫流(7)，將於蒸餾塔中製造的蒸氣(8)由自蒸餾塔的頂部提取，以蒸氣壓縮機壓縮及用於加熱預蒸發器，及將在蒸餾塔中得到的底部產物(9)提取作為第二濃縮過氧化氫流(10)，於此方法中，藉由將預蒸發器中得到的底部產物部分以液體形式餵至蒸餾塔，可以自由選擇的比例，同時製造濃度範圍由50至70重量%之二種不同濃度的濃縮過氧化氫溶液。
简体摘要：在一种浓缩过氧化氢水溶液以提供不同浓度的两个过氧化氢流之方法，其中，在包含预蒸发器(1)、蒸馏塔(2)和蒸气压缩机(3)的设备中，将待浓缩的过氧化氢水溶液(4)连续喂入预蒸发器，将在预蒸发器中藉蒸发而制造的蒸气(5)喂至蒸馏塔，将于预蒸发器中得到的底部产物(6)提取作为第一浓缩过氧化氢流(7)，将于蒸馏塔中制造的蒸气(8)由自蒸馏塔的顶部提取，以蒸气压缩机压缩及用于加热预蒸发器，及将在蒸馏塔中得到的底部产物(9)提取作为第二浓缩过氧化氢流(10)，于此方法中，借由将预蒸发器中得到的底部产物部分以液体形式喂至蒸馏塔，可以自由选择的比例，同时制造浓度范围由50至70重量%之二种不同浓度的浓缩过氧化氢溶液。

5. 发明专利

TW343921B 一種製備實質上無水之過氧化氫錯合物之方法失效
简体标题：一种制备实质上无水之过氧化氢错合物之方法
公开(公告)号：TW343921B
公开(公告)日：1998-11-01
申请号：TW086103253
申请日：1995-06-08
申请人：壯生和壯生醫藥公司
发明人：史傑安 , 林茲邁 , 喬博泰
IPC分类号： A61L
CPC分类号： A61L2/208 , A01N59/00 , A61L2/14 , A61L2/26 , A61L2202/122 , A61L2202/14 , A61L2202/24 , C01B15/01 , C01B15/037 , C01B15/06 , C01B15/08 , C01B15/103 , C01B15/14 , C01B15/16 , Y10S525/92 , A01N25/18 , A01N25/08 , A01N2300/00
摘要：本發明係有關使用從實質上不含水的有機過氧化氫錯合物，例如一過氧化錯合物，釋放過氧化氫蒸氣，將醫學器材以過氧化氫蒸氣滅菌之裝置和方法及類似設計。視需要地，一等離子體(plasma)可與蒸氣共同使用。本發明也提供實質上不含水的過氧化氫錯合物之製法。這些錯合物可作為過氧化氫蒸氣滅菌器中之過氧化物蒸氣來源用，及作為自滅菌(self-sterilizing)包裝材質之成分用。
简体摘要：本发明系有关使用从实质上不含水的有机过氧化氢错合物，例如一过氧化错合物，释放过氧化氢蒸气，将医学器材以过氧化氢蒸气灭菌之设备和方法及类似设计。视需要地，一等离子体(plasma)可与蒸气共同使用。本发明也提供实质上不含水的过氧化氢错合物之制法。这些错合物可作为过氧化氢蒸气灭菌器中之过氧化物蒸气来源用，及作为自灭菌(self-sterilizing)包装材质之成分用。

6. 发明专利

TW205540B 使含有銅之過氧化氫溶液穩定的方法失效
简体标题：使含有铜之过氧化氢溶液稳定的方法
公开(公告)号：TW205540B
公开(公告)日：1993-05-11
申请号：TW081101125
申请日：1992-02-17
申请人：東海電化工業股份有限公司
发明人：井谷勝利 , 宮代容子
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B15/037
摘要：含有銅之過氧化氫酸性水溶液可藉著加入具下式之胺基酸而被穩定化。□其中Ａｒ為芳基。
简体摘要：含有铜之过氧化氢酸性水溶液可借着加入具下式之氨基酸而被稳定化。□其中Ａｒ为芳基。

7. 发明专利

TW201536362A 殺菌用過氧化氫水溶液及其製造方法與利用此過氧化氫水溶液之殺菌方法审中-公开
简体标题：杀菌用过氧化氢水溶液及其制造方法与利用此过氧化氢水溶液之杀菌方法
公开(公告)号：TW201536362A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103124317
申请日：2014-07-15
申请人：三菱瓦斯化學股份有限公司 , MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
发明人：君塚健一 , KIMIZUKA, KEN-ICHI , 野口亞理沙 , NOGUCHI, ARISA , 宮崎真由美 , MIYAZAKI, MAYUMI , 田島恒夫 , TAZIMA, NOBUO , 印南享 , INNAN, SATORU , 堀江宏彰 , HORIE, HIROAKI
IPC分类号： A61L2/07 , A61L2/18 , A61L2/20 , A61L9/14 , A61L101/22 , A61L101/16 , A61L101/24
CPC分类号： C01B15/01 , C01B15/037
摘要：藉由本發明可提供一種用以使菌數減少的過氧化氫水溶液，其特徵為含有過氧化氫、磷酸鹽及鋁鹽作為必要成分。藉由本發明，更可提供一種殺菌方法，其特徵為將空氣和此過氧化氫水溶液之霧氣及/或氣體混合後，使其接觸對象物。
简体摘要：借由本发明可提供一种用以使菌数减少的过氧化氢水溶液，其特征为含有过氧化氢、磷酸盐及铝盐作为必要成分。借由本发明，更可提供一种杀菌方法，其特征为将空气和此过氧化氢水溶液之雾气及/或气体混合后，使其接触对象物。

8. 发明专利

TWI424091B 用於銅及銅／鎳層之穩定蝕刻溶液有权
简体标题：用于铜及铜／镍层之稳定蚀刻溶液
公开(公告)号：TWI424091B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW095129626
申请日：2006-08-11
申请人：巴地斯顏料化工廠 , BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：馬丁富樂格 , FLUGGE, MARTIN , 雷蒙梅立 , MELLIES, RAIMUND , 湯瑪斯勾曾樂特 , GOELZENLEUCHTER, THOMAS , 瑪麗安史維格 , SCHWAGER, MARIANNE , 路迪格歐斯登 , OESTEN, RUEDIGER
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/28 , H01L21/768 , H01L21/3213
CPC分类号： C23F1/28 , C01B15/037 , C23F1/18

9. 发明专利

TW200718806A 用於銅及銅/鎳層之穩定蝕刻溶液 STABILIZED ETCH SOLUTIONS FOR CU AND CU/NI LAYERS 审中-公开
简体标题：用于铜及铜/镍层之稳定蚀刻溶液 STABILIZED ETCH SOLUTIONS FOR CU AND CU/NI LAYERS
公开(公告)号：TW200718806A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095129626
申请日：2006-08-11
申请人：巴地斯顏料化工廠 BASF AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：馬丁富樂格 FLUGGE, MARTIN , 雷蒙梅立 MELLIES, RAIMUND , 湯瑪斯勾曾樂特 GOELZENLEUCHTER, THOMAS , 瑪麗安史維格 SCHWAGER, MARIANNE , 路迪格歐斯登 OESTEN, RUEDIGER
IPC分类号： C23F , H01L
CPC分类号： C23F1/28 , C01B15/037 , C23F1/18
摘要：本發明係關於一種可用於半導體技術中對銅金屬鍍層以及Cu/Ni層達成特定蝕刻之新穎的儲存穩定之溶液。用該等新穎蝕刻溶液可對全銅金屬鍍層、銅/鎳合金層以及連續的銅及鎳層實施蝕刻及圖案化。
简体摘要：本发明系关于一种可用于半导体技术中对铜金属镀层以及Cu/Ni层达成特定蚀刻之新颖的存储稳定之溶液。用该等新颖蚀刻溶液可对全铜金属镀层、铜/镍合金层以及连续的铜及镍层实施蚀刻及图案化。

10. 发明专利

TW200604336A 溫和的保存劑組合物 GENTLE PRESERVATIVE COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：温和的保存剂组合物 GENTLE PRESERVATIVE COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200604336A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：TW094116632
申请日：2005-05-23
申请人：博士倫公司 BAUSCH & LOMB INCORPORATED
发明人：夏爾寧 XIA, ERNING , 喬瑟夫C 薩拉蒙 SALAMONE, JOSEPH C.
IPC分类号： C11D
CPC分类号： A61L2/186 , A61L12/124 , A61L12/143 , A61L2202/24 , C01B15/037 , C11D3/0078 , C11D3/323 , C11D3/3947
摘要：本發明描述用於保存任何局部施用溶液的組合物。亦描述包含尿素–過氧化氫複合物於溶液中的組合物，其存在之有效劑量得以保存隱形眼鏡，以及製造和使用此等溶液的方法。這類溶液的過氧化氫成分當進入眼睛時會轉變成氧和水，而僅留下天然產物，尿素。
简体摘要：本发明描述用于保存任何局部施用溶液的组合物。亦描述包含尿素–过氧化氢复合物于溶液中的组合物，其存在之有效剂量得以保存隐形眼镜，以及制造和使用此等溶液的方法。这类溶液的过氧化氢成分当进入眼睛时会转变成氧和水，而仅留下天然产物，尿素。

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