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1. 发明专利

TW201135353A 輻射敏感組成物 RADIATION SENSITIVE COMPOSITION 失效
简体标题：辐射敏感组成物 RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
公开(公告)号：TW201135353A
公开(公告)日：2011-10-16
申请号：TW099110838
申请日：2010-04-08
申请人：品青企業股份有限公司 , 王童基 , 葉景裕
发明人：葉景裕 , 楊明華 , 林明賢 , 陳世杰
IPC分类号： G03F , C08L , B41C
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/0233 , G03F7/0236
摘要：一種輻射敏感組成物，該組成物係由改質成膜樹脂、共聚合高分子、酸生成劑輻射吸收性染料等組成。將此組成物塗佈於適當基材上，經過烘烤、曝光及顯影後，可得到圖像。此圖像具有良好之硬度、耐磨耗性、接著性、耐印量，並可增加顯影寬容值。
简体摘要：一种辐射敏感组成物，该组成物系由改质成膜树脂、共聚合高分子、酸生成剂辐射吸收性染料等组成。将此组成物涂布于适当基材上，经过烘烤、曝光及显影后，可得到图像。此图像具有良好之硬度、耐磨耗性、接着性、耐印量，并可增加显影宽容值。

2. 发明专利

TW201625428A 印刷物之製造方法审中-公开
简体标题：印刷物之制造方法
公开(公告)号：TW201625428A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104138174
申请日：2015-11-19
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：井上武治郎 , INOUE, TAKEJIRO , 村瀨清一郎 , MURASE, SEIICHIRO , 辻祐一 , TSUJI, YUICHI , 飯原明宏 , IIHARA, AKIHIRO
IPC分类号： B41M1/08 , B41N1/14
CPC分类号： B41C1/1066 , B41C1/1033 , B41C1/1091 , B41C2201/02 , B41C2201/04 , B41C2201/12 , B41C2210/02 , B41C2210/16 , B41C2210/22 , B41C2210/262 , B41C2210/266 , B41M1/06 , B41M1/08 , B41N1/003 , C09D11/101 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11
摘要：本發明之課題為提供具有優異之印刷品質，於環境面優異之水性平版印刷方法。本發明係一種印刷物之製造方法，其包含下述步驟：使水性印墨附著在於表面存在有印墨排斥層及感熱層的平版印刷版的感光層表面上之步驟；與將附著之水性印墨直接、或透過橡皮布(blanket)而轉印在被印刷體之步驟。
简体摘要：本发明之课题为提供具有优异之印刷品质，于环境面优异之水性平版印刷方法。本发明系一种印刷物之制造方法，其包含下述步骤：使水性印墨附着在于表面存在有印墨排斥层及感热层的平版印刷版的感光层表面上之步骤；与将附着之水性印墨直接、或透过橡皮布(blanket)而转印在被印刷体之步骤。

3. 发明专利

TW200617591A 平版印刷用板所用之熱敏性被覆組成物 THERMALLY SENSITIVE COATING COMPOSITIONS USEFUL FOR LITHOGRAPHIC ELEMENTS 审中-公开
简体标题：平版印刷用板所用之热敏性被覆组成物 THERMALLY SENSITIVE COATING COMPOSITIONS USEFUL FOR LITHOGRAPHIC ELEMENTS
公开(公告)号：TW200617591A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094124796
申请日：2005-07-22
申请人：西笛普雷德股份有限公司 CITIPLATE, INC.
发明人：普拉卡西賽德 SETH, PRAKASH , 查理斯庫蘇麻諾 CUSUMANO, CHARLES S.
IPC分类号： G03F , H05K
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/262
摘要：一種光熱敏性組成物，主要係對電磁波譜中之近紅外線及紫外線區域具有能量敏感性，其係由酚醛樹脂聚合物、三聚氰胺衍生之交聯化合物、酸產生化合物、選自乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素及其混合物之聚合性溶解抑制劑以及紅外線吸收性染料所組成。當其施用至適當之支持物上且進行處理後，該組成物可作為平版印刷板、試色膜(color proofing film)或圖像阻劑(image resist)。
简体摘要：一种光热敏性组成物，主要系对电磁波谱中之近红外线及紫外线区域具有能量敏感性，其系由酚醛树脂聚合物、三聚氰胺衍生之交联化合物、酸产生化合物、选自乙酸丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素及其混合物之聚合性溶解抑制剂以及红外线吸收性染料所组成。当其施用至适当之支持物上且进行处理后，该组成物可作为平版印刷板、试色膜(color proofing film)或图像阻剂(image resist)。

4. 发明专利

TW201629633A 無水平版印刷版原版、及使用無水平版印刷版的印刷物之製造方法审中-公开
简体标题：无水平版印刷版原版、及使用无水平版印刷版的印刷物之制造方法
公开(公告)号：TW201629633A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104136940
申请日：2015-11-10
申请人：東麗股份有限公司 , TORAY INDUSTRIES, INC.
发明人：久世康典 , KUSE, YASUNORI , 飯原明宏 , IIHARA, AKIHIRO , 村瀨清一郎 , MURASE, SEIICHIRO
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/11 , B41N3/03 , B41C1/10
CPC分类号： B41N1/14 , B41C1/1016 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/16 , B41C2210/262 , B41M1/08 , B41M7/0081 , B41N1/003 , C09D11/101 , G03F7/11
摘要：提供具有足以排斥容易附著於非圖文部的墨且其排斥效果持續的墨排斥層的無水平版印刷版原版；及使用前述無水平版印刷版原版的印刷方法。一種平版印刷版原版，其至少具有感熱層和墨排斥層，前述墨排斥層中含有墨排斥性的液體，前述液體在1大氣壓下的沸點為150℃以上。又，一種印刷物之製造方法，其係包含下述步驟：在使用平版印刷版將包含10質量%以上50質量%以下的感光性成分的墨轉印於被印刷體後，對該被印刷體照射紫外線；前述平版印刷版的印刷版原版在基板上至少具有墨排斥層，該墨排斥層中所包含的墨排斥性的液體的表面張力為30mN/m以下。
简体摘要：提供具有足以排斥容易附着于非图文部的墨且其排斥效果持续的墨排斥层的无水平版印刷版原版；及使用前述无水平版印刷版原版的印刷方法。一种平版印刷版原版，其至少具有感热层和墨排斥层，前述墨排斥层中含有墨排斥性的液体，前述液体在1大气压下的沸点为150℃以上。又，一种印刷物之制造方法，其系包含下述步骤：在使用平版印刷版将包含10质量%以上50质量%以下的感光性成分的墨转印于被印刷体后，对该被印刷体照射紫外线；前述平版印刷版的印刷版原版在基板上至少具有墨排斥层，该墨排斥层中所包含的墨排斥性的液体的表面张力为30mN/m以下。

5. 发明专利

TW201229174A 使用不含矽酸鹽之顯影劑組合物的處理方法 METHODS OF PROCESSING USING SILICATE-FREE DEVELOPER COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：使用不含硅酸盐之显影剂组合物的处理方法 METHODS OF PROCESSING USING SILICATE-FREE DEVELOPER COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW201229174A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100142131
申请日：2011-11-17
申请人：柯達公司
发明人：雷瓦諾墨許 , 黃江賓 , 艾斯凱斯基里歐尼德
IPC分类号： C09J , G03F
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41N3/08 , G03F7/3035 , G03F7/322
摘要：本發明係關於一種用於製備微影印刷板之方法，該方法係藉由使具有單一可成像層之正性微影印刷板前體顯影來實施，該可成像層包含具有由以下結構(Ib)代表之重複單元之聚合物黏合劑：
其中結構(Ib)之重複單元係以至少25莫耳%及高達且包括60莫耳%之量存在，所有均以該聚合物黏合劑中之總重複單元計，且R2係經取代或未經取代之羥基芳基，其中該羥基係位於酯鍵鄰位，從而在該可成像層中形成暴露及非暴露區域。使用不含矽酸鹽之顯影劑組合物使所得經成像之微影印刷板顯影，該顯影劑組合物具有至少12之pH且包含至少0.001克原子/kg選自由鋇、鈣、鍶及鋅陽離子組成之群之金屬陽離子M 2+ 。
简体摘要：本发明系关于一种用于制备微复印刷板之方法，该方法系借由使具有单一可成像层之正性微复印刷板前体显影来实施，该可成像层包含具有由以下结构(Ib)代表之重复单元之聚合物黏合剂：其中结构(Ib)之重复单元系以至少25莫耳%及高达且包括60莫耳%之量存在，所有均以该聚合物黏合剂中之总重复单元计，且R2系经取代或未经取代之羟基芳基，其中该羟基系位于酯键邻位，从而在该可成像层中形成暴露及非暴露区域。使用不含硅酸盐之显影剂组合物使所得经成像之微复印刷板显影，该显影剂组合物具有至少12之pH且包含至少0.001克原子/kg选自由钡、钙、锶及锌阳离子组成之群之金属阳离子M 2+ 。

6. 发明专利

TW583508B 輻射敏感組成物及製造圖像之方法有权
简体标题：辐射敏感组成物及制造图像之方法
公开(公告)号：TW583508B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW091113336
申请日：2002-06-19
申请人：西笛普雷德股份有限公司 CITIPLATE, INC.
发明人：普拉卡西賽德 PRAKASH SETH , 查理斯庫蘇麻諾 CHARLES S. CUSUMANO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/262 , B41N1/083
摘要：一種光熱敏組成物，該組成物基本上在電磁波譜之近紅外線及紫外線區具有能量敏感性，而該組成物係由酚醛清漆樹脂、蜜胺衍生物交聯化合物、酸生成化合物、高分子溶解抑制劑及紅外線吸收染料組成。將此組成物塗敷於適當之基材上而加以加工時，該組成物可作為膠版印刷板、保色膜(color proofing film)，圖像保護膜(image resist)使用。
简体摘要：一种光热敏组成物，该组成物基本上在电磁波谱之近红外线及紫外线区具有能量敏感性，而该组成物系由酚醛清漆树脂、蜜胺衍生物交联化合物、酸生成化合物、高分子溶解抑制剂及红外线吸收染料组成。将此组成物涂敷于适当之基材上而加以加工时，该组成物可作为胶版印刷板、保色膜(color proofing film)，图像保护膜(image resist)使用。

7. 发明专利

TWI417656B 輻射敏感組成物失效
简体标题：辐射敏感组成物
公开(公告)号：TWI417656B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW099110838
申请日：2010-04-08
申请人：品青企業股份有限公司 , FOUNDER FINE CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. , 王童基 , WANG, TUNG CHI , 葉景裕 , YEH, CHING YU
发明人：葉景裕 , YEH, CHING YU , 楊明華 , YANG, MING HWA , 林明賢 , LIN, MIN SHYAN , 陳世杰 , CHEN, SHIH CHIEH
IPC分类号： G03F7/004 , C08L61/14 , C08L25/18 , B41C1/10
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/0233 , G03F7/0236

8. 发明专利

TW584787B 輻射敏感組成物及製造圖像之方法失效
简体标题：辐射敏感组成物及制造图像之方法
公开(公告)号：TW584787B
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：TW091113335
申请日：2002-06-19
申请人：西笛普雷德股份有限公司 CITIPLATE, INC.
发明人：普拉卡西賽德 PRAKASH SETH , 查理斯庫蘇麻諾 CHARLES S. CUSUMANO
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/24 , B41C2210/262
摘要：一種可藉紅外線照射而成像之組成物，含有至少二種由約0.1～50莫耳%之2-重氮基-1-酚-4或5-磺酸或其衍生物酯化之酚醛樹脂，其中一種酚醛樹脂之酯化度與另一種酚醛樹脂之酯化度的差至少為約3莫耳%，上述組成物進一步與一種紅外線吸收劑混合。將此組成物塗敷於適當之基板上而處理時，該組成物可充當膠版印刷板，保色膜或圖像保護劑使用。
简体摘要：一种可藉红外线照射而成像之组成物，含有至少二种由约0.1～50莫耳%之2-重氮基-1-酚-4或5-磺酸或其衍生物酯化之酚醛树脂，其中一种酚醛树脂之酯化度与另一种酚醛树脂之酯化度的差至少为约3莫耳%，上述组成物进一步与一种红外线吸收剂混合。将此组成物涂敷于适当之基板上而处理时，该组成物可充当胶版印刷板，保色膜或图像保护剂使用。

9. 发明专利

TW515929B 有關於光罩及電子零件之改良失效
简体标题：有关于光罩及电子零件之改良
公开(公告)号：TW515929B
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：TW087114015
申请日：1998-08-25
申请人：賀塞爾製圖有限公司
发明人：克利斯多福D.麥克庫拉柯 , 凱文B.雷 , 艾倫S.V.蒙克 , 約翰D.黎希斯 , 安東尼P.吉特森 , 加雷斯R.帕森司 , 大衛S.麗雷
IPC分类号： G03C
CPC分类号： G03F7/2022 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/0233 , H05K3/0082
摘要：一種製造光罩或電子部件，如印刷電路之方法，該方法包含下列步驟，以所需圖樣傳熱至光罩或電子部件前驅物，前驅物包含一表面塗布有塗層，塗層包含熱敏組合物本身包含水性顯影劑可溶聚合物質及化合物其可降低聚合物質之水性顯影劑溶解度，其中該組合物之水性顯影劑溶解度不因入射紫外光增高，反而因傳熱增高；然後顯影前驅物去除已經被傳熱區之熱敏組合物。於印刷電路前驅物之例，該表面隨後可以習知方式蝕刻而獲得所需印刷電路。
简体摘要：一种制造光罩或电子部件，如印刷电路之方法，该方法包含下列步骤，以所需图样传热至光罩或电子部件前驱物，前驱物包含一表面涂布有涂层，涂层包含热敏组合物本身包含水性显影剂可溶聚合物质及化合物其可降低聚合物质之水性显影剂溶解度，其中该组合物之水性显影剂溶解度不因入射紫外光增高，反而因传热增高；然后显影前驱物去除已经被传热区之热敏组合物。于印刷电路前驱物之例，该表面随后可以习知方式蚀刻而获得所需印刷电路。

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