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1. 发明专利

TWI499484B 噴珠處理裝置有权
简体标题：喷珠处理设备
公开(公告)号：TWI499484B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW100123287
申请日：2011-06-30
申请人：新東工業股份有限公司 , SINTOKOGIO, LTD.
发明人：山下恭司 , YAMASHITA, KYOUJI , 鄭瀅教 , JUNG, YOUNG GYO , 鈴木常俊 , SUZUKI, TSUNETOSHI , 山本卓司 , YAMAMOTO, TAKUJI
IPC分类号： B24C3/14 , B24C5/06
CPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00

2. 发明专利

TW201643003A 珠擊裝置审中-公开
简体标题：珠击设备
公开(公告)号：TW201643003A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW104134180
申请日：2015-10-19
申请人：新東工業股份有限公司 , SINTOKOGIO, LTD.
发明人：山本翔一 , YAMAMOTO, SHOICHI , 神山拓哉 , KOYAMA, TAKUYA
IPC分类号： B24C3/04 , B24C9/00
CPC分类号： B24C9/003 , B24C3/20 , B24C3/24 , B24C9/00
摘要：本發明提供一種不但可使用具有小型且低成本的抽吸裝置之集塵機，且可有效率地進行投射室內的集塵、換氣之珠擊裝置。根據本發明，係提供一種珠擊裝置，該珠擊裝置係具有：艙室10；複數個處理室13a、13b，設於前述艙室內，可於內部收容工件，且可選擇性地移動於搬入搬出位置與投射位置之間；供氣口19，係將外部空氣導入至處理室；及排氣口，係設於隔著配置於投射位置的處理室而與供氣口相對向之位置，且與配置於投射位置之處理室內的空間直線地相連通；且藉由從排氣口的抽吸，使從供氣口流入至位於投射位置的處理室之空氣，通過配置於投射位置之處理室而被導引至排氣口；
简体摘要：本发明提供一种不但可使用具有小型且低成本的抽吸设备之集尘机，且可有效率地进行投射室内的集尘、换气之珠击设备。根据本发明，系提供一种珠击设备，该珠击设备系具有：舱室10；复数个处理室13a、13b，设于前述舱室内，可于内部收容工件，且可选择性地移动于搬入搬出位置与投射位置之间；供气口19，系将外部空气导入至处理室；及排气口，系设于隔着配置于投射位置的处理室而与供气口相对向之位置，且与配置于投射位置之处理室内的空间直线地相连通；且借由从排气口的抽吸，使从供气口流入至位于投射位置的处理室之空气，通过配置于投射位置之处理室而被导引至排气口；

3. 发明专利

TWI499483B 噴珠處理裝置有权
简体标题：喷珠处理设备
公开(公告)号：TWI499483B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW100117176
申请日：2011-05-17
申请人：新東工業股份有限公司 , SINTOKOGIO, LTD.
发明人：山本万俊 , YAMAMOTO, MASATOSHI
IPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24

4. 发明专利

TW201217100A 噴珠處理裝置审中-公开
简体标题：喷珠处理设备
公开(公告)号：TW201217100A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100123287
申请日：2011-06-30
申请人：新東工業股份有限公司
发明人：山下恭司 , 鄭瀅教 , 鈴木常俊 , 山本卓司
IPC分类号： B24C
CPC分类号： B24C3/24 , B24C9/00
摘要：本發明之噴珠處理裝置10，具備：保持具14，能自轉且能滑動，於自轉軸線上保持工件12；以及一對離心式投射機22,24，分別具有能旋轉之葉輪60，各葉輪60之旋轉軸線A彼此平行且彼此於葉輪60之旋轉軸線方向偏置配置，並能隨著各葉輪60之旋轉而朝向工件12並列投射投射材。根據此構成，即使在從一對離心式投射機22,24分別投射投射材之情形，亦可抑制來自一方之離心式投射機22之投射材與來自另一方之離心式投射機24之投射材相抵銷，而能提升投射效率。
简体摘要：本发明之喷珠处理设备10，具备：保持具14，能自转且能滑动，于自转轴在线保持工件12；以及一对离心式投射机22,24，分别具有能旋转之叶轮60，各叶轮60之旋转轴线A彼此平行且彼此于叶轮60之旋转轴线方向偏置配置，并能随着各叶轮60之旋转而朝向工件12并列投射投射材。根据此构成，即使在从一对离心式投射机22,24分别投射投射材之情形，亦可抑制来自一方之离心式投射机22之投射材与来自另一方之离心式投射机24之投射材相抵销，而能提升投射效率。

5. 发明专利

TW201607688A 珠擊處理裝置及拋射機审中-公开
简体标题：珠击处理设备及抛射机
公开(公告)号：TW201607688A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104119045
申请日：2015-06-12
申请人：新東工業股份有限公司 , SINTOKOGIO, LTD.
发明人：加賀秀明 , KAGA, HIDEAKI , 鈴木浩昭 , SUZUKI, HIROAKI , 山本翔一 , YAMAMOTO, SHOICHI , 梅岡雅人 , UMEOKA, MASATO , 神山拓哉 , KOYAMA, TAKUYA
IPC分类号： B24C9/00 , B24C5/06
CPC分类号： B24C3/14 , B24C3/18 , B24C3/24 , B24C5/06 , B24C5/062 , B24C9/00 , B24C9/003
摘要：本發明的目的係提供可抑制拋射材料的拋射量之珠擊處理裝置及拋射機。依據本發明，提供一種珠擊處理裝置1，具備離心式的拋射機20以及支撐機構，該離心式的拋射機20係將拋射材料對於被加工物拋射，該支撐機構係在可進行前述拋射機的表面加工之加工位置支撐被加工物，該拋射機係具備：控制罩92，具有圓筒形狀，對於內部供應拋射材料，且在側壁形成有成為前述拋射材料的排出口之開口；以及葉輪100，係具備在前述控制罩的外方朝前述控制罩的徑向外方延伸之方式而配置之複數片葉片104，且以前述控制罩的中心軸線為中心旋轉，前述葉片係於旋轉方向前方側的表面設置有後傾部110，該後傾部110係朝旋轉方向後方側傾斜。
简体摘要：本发明的目的系提供可抑制抛射材料的抛射量之珠击处理设备及抛射机。依据本发明，提供一种珠击处理设备1，具备离心式的抛射机20以及支撑机构，该离心式的抛射机20系将抛射材料对于被加工物抛射，该支撑机构系在可进行前述抛射机的表面加工之加工位置支撑被加工物，该抛射机系具备：控制罩92，具有圆筒形状，对于内部供应抛射材料，且在侧壁形成有成为前述抛射材料的排出口之开口；以及叶轮100，系具备在前述控制罩的外方朝前述控制罩的径向外方延伸之方式而配置之复数片叶片104，且以前述控制罩的中心轴线为中心旋转，前述叶片系于旋转方向前方侧的表面设置有后倾部110，该后倾部110系朝旋转方向后方侧倾斜。

6. 发明专利

TW201228776A 噴珠處理裝置审中-公开
简体标题：喷珠处理设备
公开(公告)号：TW201228776A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100117176
申请日：2011-05-17
申请人：新東工業股份有限公司
发明人：山本万俊
IPC分类号： B24C
CPC分类号： B24C1/10 , B24C3/24
摘要：獲得可維持噴珠處理之被處理對象物之品質之安定性並抑制被處理對象物之處理等待時間之噴珠處理裝置。於包含投射範圍與非投射範圍之位置配置有大平台30且可旋轉。此外，於前述大平台30上配置複數小平台32且該小平台32具備與前述大平台30之旋轉軸平行之旋轉軸而可旋轉，可搭載前述被處理對象物。此外，對小平台32上之被處理對象物12係由離心式投射機20以離心力加速投射材並投射。在此，前述小平台32上之前述被處理對象物12係藉由按壓機構46之按壓部48從上方側按壓。此外，按壓部48可與前述被處理對象物12一起旋轉。
简体摘要：获得可维持喷珠处理之被处理对象物之品质之安定性并抑制被处理对象物之处理等待时间之喷珠处理设备。于包含投射范围与非投射范围之位置配置有大平台30且可旋转。此外，于前述大平台30上配置复数小平台32且该小平台32具备与前述大平台30之旋转轴平行之旋转轴而可旋转，可搭载前述被处理对象物。此外，对小平台32上之被处理对象物12系由离心式投射机20以离心力加速投射材并投射。在此，前述小平台32上之前述被处理对象物12系借由按压机构46之按压部48从上方侧按压。此外，按压部48可与前述被处理对象物12一起旋转。

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