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1. 发明专利

TW201212158A 靜電吸盤审中-公开
简体标题：静电吸盘
公开(公告)号：TW201212158A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100128675
申请日：2011-08-11
申请人： TOTO股份有限公司
发明人：石川佳津子 , 米澤順治 , 青島利裕 , 林田義秀
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , B32B3/30 , B32B5/14 , B32B5/142 , B32B5/147 , H01L21/6875 , H02N13/00 , Y10T279/23 , Y10T428/24182 , Y10T428/24355 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/26
摘要：本發明的靜電吸盤，係具備介電質基板，該介電質基板係具有：形成於載置被吸附物側的主面之突起部、及形成於上述突起部的周邊之平面部，其特徵為：上述介電質基板係由多結晶陶瓷燒結體所形成，上述突起部的頂面係設為曲面，在上述頂面係形成有第1凹部，上述平面部係具有平坦部，在上述平坦部形成有第2凹部，上述第1凹部的深度尺寸係比上述第2凹部的深度尺寸更大。可抑制微粒的發生，且可使靜電吸盤表面的清淨狀態容易恢復。
简体摘要：本发明的静电吸盘，系具备介电质基板，该介电质基板系具有：形成于载置被吸附物侧的主面之突起部、及形成于上述突起部的周边之平面部，其特征为：上述介电质基板系由多结晶陶瓷烧结体所形成，上述突起部的顶面系设为曲面，在上述顶面系形成有第1凹部，上述平面部系具有平坦部，在上述平坦部形成有第2凹部，上述第1凹部的深度尺寸系比上述第2凹部的深度尺寸更大。可抑制微粒的发生，且可使静电吸盘表面的清净状态容易恢复。

2. 发明专利

TWI605539B 靜電吸盤有权
简体标题：静电吸盘
公开(公告)号：TWI605539B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW105101205
申请日：2016-01-15
申请人： TOTO股份有限公司 , TOTO LTD.
发明人：前畑健吾 , MAEHATA, KENGO , 近藤俊平 , KONDO, SHUMPEI , 佐佐木均 , SASAKI, HITOSHI , 山口康介 , YAMAGUCHI, KOSUKE , 吉井雄一 , YOSHII, YUICHI
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H01L21/68757 , H01L21/68785 , H02N13/00

3. 发明专利

TW201340245A 靜電吸盤裝置审中-公开
简体标题：静电吸盘设备
公开(公告)号：TW201340245A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102104528
申请日：2013-02-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 住友大阪水泥股份有限公司 , SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD.
发明人：佐佐木康晴 , SASAKI, YASUHARU , 大橋薰 , OOHASHI, KAORU , 高橋智之 , TAKAHASHI, TOMOYUKI , 青砥雅 , AOTO, TADASHI , 小坂井守 , KOSAKAI, MAMORU , 前田進一 , MAETA, SHINICHI , 三浦幸夫 , MIURA, YUKIO , 佐藤隆 , SATO, TAKASHI , 古內圭 , FURUUCHI, KEI
IPC分类号： H01L21/68 , H02N13/00
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67109 , H01L21/6831
摘要：一種靜電吸盤裝置，係具備有：以上表面作為載置板狀試樣之載置面並內建有靜電吸附用內部電極之靜電吸盤部、以及使靜電吸盤部冷卻之冷卻基座部；靜電吸盤部與冷卻基座部係經由黏著層而黏著成一體化；於靜電吸盤部及冷卻基座部所形成之冷卻用氣體孔，以覆蓋冷卻用氣體孔側之黏著層的露出面之方式，設置由絕緣礙子、以及同軸地設置在絕緣礙子的外周部之絕緣礙子所構成之雙重管構造的絕緣礙子。
简体摘要：一种静电吸盘设备，系具备有：以上表面作为载置板状试样之载置面并内置有静电吸附用内部电极之静电吸盘部、以及使静电吸盘部冷却之冷却基座部；静电吸盘部与冷却基座部系经由黏着层而黏着成一体化；于静电吸盘部及冷却基座部所形成之冷却用气体孔，以覆盖冷却用气体孔侧之黏着层的露出面之方式，设置由绝缘碍子、以及同轴地设置在绝缘碍子的外周部之绝缘碍子所构成之双重管构造的绝缘碍子。

4. 发明专利

TW201729324A 靜電卡盤裝置审中-公开
简体标题：静电卡盘设备
公开(公告)号：TW201729324A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW106103111
申请日：2017-01-26
申请人：住友大阪水泥股份有限公司 , SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD.
发明人：伊藤智海 , ITO, TOMOMI , 三浦幸夫 , MIURA, YUKIO
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/683
CPC分类号： B23Q3/15 , H01L21/683 , H02N13/00
摘要：本發明是一種靜電卡盤裝置100，其依次包括：靜電卡盤部2，將一主面作為載置板狀試樣的載置面，並且內置有靜電吸附用內部電極；加熱構件50，藉由具有間隙的圖案而接著於靜電卡盤部2的與所述載置面為相反側的面上；片材6；以及基座部10，具有對靜電卡盤部2進行冷卻的功能；在靜電卡盤部2與加熱構件50之間具有層厚為10 μm以上、未滿200 μm，且蕭氏硬度（A）為10～70的矽酮樹脂片52。
简体摘要：本发明是一种静电卡盘设备100，其依次包括：静电卡盘部2，将一主面作为载置板状试样的载置面，并且内置有静电吸附用内部电极；加热构件50，借由具有间隙的图案而接着于静电卡盘部2的与所述载置面为相反侧的面上；片材6；以及基座部10，具有对静电卡盘部2进行冷却的功能；在静电卡盘部2与加热构件50之间具有层厚为10 μm以上、未满200 μm，且萧氏硬度（A）为10～70的硅酮树脂片52。

5. 发明专利

TW201613026A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201613026A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104115711
申请日：2015-05-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山岸幸司 , YAMAGISHI, KOJI , 金子裕是 , KANEKO, HIROSHI , 押切丈治 , OSHIKIRI, JOUJI
IPC分类号： H01L21/683 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/683 , B23Q3/15
摘要：本發明之課題在於防止熱膨脹所致靜電夾頭之破損。基板處理裝置1具有：靜電夾頭18，內部具有加熱器21，將載置於上面之晶圓W予以加熱；支撐台14，設置於靜電夾頭18之下方，使得來自靜電夾頭18之熱做發散；分隔件16，設置於靜電夾頭18與支撐台14之間，在靜電夾頭18與支撐台14之間形成空間；以及，固定構件13，係包圍靜電夾頭18之周緣部，使得靜電夾頭18以及分隔件16對支撐台14進行固定。分隔件16之至少一部分接觸於靜電夾頭18以及支撐台14。固定構件13具有彈性構件132，藉由彈性構件132從靜電夾頭18往支撐台14之方向所施加之彈壓力來使得靜電夾頭18以及分隔件16對支撐台14進行固定。
简体摘要：本发明之课题在于防止热膨胀所致静电夹头之破损。基板处理设备1具有：静电夹头18，内部具有加热器21，将载置于上面之晶圆W予以加热；支撑台14，设置于静电夹头18之下方，使得来自静电夹头18之热做发散；分隔件16，设置于静电夹头18与支撑台14之间，在静电夹头18与支撑台14之间形成空间；以及，固定构件13，系包围静电夹头18之周缘部，使得静电夹头18以及分隔件16对支撑台14进行固定。分隔件16之至少一部分接触于静电夹头18以及支撑台14。固定构件13具有弹性构件132，借由弹性构件132从静电夹头18往支撑台14之方向所施加之弹压力来使得静电夹头18以及分隔件16对支撑台14进行固定。

6. 发明专利

TW201642387A 吸附裝置、吸附裝置的製造方法、及真空處理裝置审中-公开
简体标题：吸附设备、吸附设备的制造方法、及真空处理设备
公开(公告)号：TW201642387A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105110716
申请日：2016-04-01
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：前平謙 , MAEHIRA, KEN , 不破耕 , FUWA, KOU
IPC分类号： H01L21/683 , C23C14/50
CPC分类号： H02N13/00 , B23Q3/15 , H01J37/32715 , H01J37/34 , H01L21/67253 , H01L21/683 , H01L21/6833
摘要：本發明提供可以抑制吸附對象物之吸附及剝離時的灰塵之產生之同時，可以控制吸附裝置之吸附力使成為均勻的技術。本發明之吸附裝置具有：本體部(50)，係於介電體中具有吸附電極(11、12)；及吸附部(51)，設於本體部(50)之吸附側表面，對基板進行吸附。吸附部(51)具有：接觸支撐部(52)，接觸基板而進行支撐；及不與基板接觸的非接觸部(53)；吸附部(51)中，接觸支撐部(52)的材料之體積電阻率大於非接觸部(53)的材料之體積電阻率而構成。
简体摘要：本发明提供可以抑制吸附对象物之吸附及剥离时的灰尘之产生之同时，可以控制吸附设备之吸附力使成为均匀的技术。本发明之吸附设备具有：本体部(50)，系于介电体中具有吸附电极(11、12)；及吸附部(51)，设于本体部(50)之吸附侧表面，对基板进行吸附。吸附部(51)具有：接触支撑部(52)，接触基板而进行支撑；及不与基板接触的非接触部(53)；吸附部(51)中，接触支撑部(52)的材料之体积电阻率大于非接触部(53)的材料之体积电阻率而构成。

7. 发明专利

TWI434370B 靜電吸盤有权
简体标题：静电吸盘
公开(公告)号：TWI434370B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100128675
申请日：2011-08-11
申请人： TOTO股份有限公司 , TOTO LTD.
发明人：石川佳津子 , ISHIKAWA, KADUKO , 米澤順治 , YONEZAWA, JUNJI , 青島利裕 , AOSHIMA, TOSHIHIRO , 林田義秀 , HAYASHIDA, YOSHIHIDE
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , B32B3/30 , B32B5/14 , B32B5/142 , B32B5/147 , H01L21/6875 , H02N13/00 , Y10T279/23 , Y10T428/24182 , Y10T428/24355 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/26

8. 发明专利

TWI579956B 靜電吸盤裝置有权
简体标题：静电吸盘设备
公开(公告)号：TWI579956B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW102104528
申请日：2013-02-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 住友大阪水泥股份有限公司 , SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD.
发明人：佐佐木康晴 , SASAKI, YASUHARU , 大橋薰 , OOHASHI, KAORU , 高橋智之 , TAKAHASHI, TOMOYUKI , 青砥雅 , AOTO, TADASHI , 小坂井守 , KOSAKAI, MAMORU , 前田進一 , MAETA, SHINICHI , 三浦幸夫 , MIURA, YUKIO , 佐藤隆 , SATO, TAKASHI , 古內圭 , FURUUCHI, KEI
IPC分类号： H01L21/68 , H02N13/00
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67109 , H01L21/6831

9. 发明专利

TW201633451A 靜電吸盤审中-公开
简体标题：静电吸盘
公开(公告)号：TW201633451A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105101205
申请日：2016-01-15
申请人： TOTO股份有限公司 , TOTO LTD.
发明人：前畑健吾 , MAEHATA, KENGO , 近藤俊平 , KONDO, SHUMPEI , 佐佐木均 , SASAKI, HITOSHI , 山口康介 , YAMAGUCHI, KOSUKE , 吉井雄一 , YOSHII, YUICHI
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , B23Q3/15 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H01L21/68757 , H01L21/68785 , H02N13/00
摘要：提供一種靜電吸盤，其特徵在於包含：陶瓷介電質基板，具有：承載處理對象物的第一主表面，和與第一主表面相反側的第二主表面，底板，配設於離開陶瓷介電質基板的位置，支撐陶瓷介電質基板；以及加熱板，配設於陶瓷介電質基板與底板之間，加熱板具有：包含金屬的第一支撐板；包含金屬的第二支撐板；配設於第一支撐板與第二支撐板之間，藉由電流流動而發熱之加熱器元件；配設於第一支撐板與加熱器元件之間的第一樹脂層；以及配設於第二支撐板與加熱器元件之間的第二樹脂層。【代表圖】
简体摘要：提供一种静电吸盘，其特征在于包含：陶瓷介电质基板，具有：承载处理对象物的第一主表面，和与第一主表面相反侧的第二主表面，底板，配设于离开陶瓷介电质基板的位置，支撑陶瓷介电质基板；以及加热板，配设于陶瓷介电质基板与底板之间，加热板具有：包含金属的第一支撑板；包含金属的第二支撑板；配设于第一支撑板与第二支撑板之间，借由电流流动而发热之加热器组件；配设于第一支撑板与加热器组件之间的第一树脂层；以及配设于第二支撑板与加热器组件之间的第二树脂层。【代表图】

10. 发明专利

TW508716B 靜電夾盤及處理裝置有权
简体标题：静电夹盘及处理设备
公开(公告)号：TW508716B
公开(公告)日：2002-11-01
申请号：TW089110073
申请日：2000-05-24
申请人：東陶機器股份有限公司 , 日本真空技術股份有限公司
发明人：北林徹夫 , 堀裕明 , 內村健志 , 建野範昭 , 不破耕 , 前平謙
IPC分类号： B23Q , H01L
CPC分类号： B23Q3/15 , B23Q3/154 , H01L21/6833 , H02N13/00
摘要：提供能夠把玻璃基板等絕緣性基板靜電吸著的靜電夾盤，使用其靜電夾盤之絕緣性基板加熱冷裝置及絕緣性基板之溫度控制方法。
規定絕緣性基板的溫度控制方法，構成靜電夾盤的電介質之形狀，物性，電極的形狀而揭示絕緣性基板吸著用靜電夾盤。
在前述靜電夾盤規定加熱冷用的板片，氣體供給配管，溫度控制系統而揭示絕緣性基板加熱冷裝置。更且揭示編入前述絕緣性基板加熱冷裝置之絕緣性基板處理裝置。
简体摘要：提供能够把玻璃基板等绝缘性基板静电吸着的静电夹盘，使用其静电夹盘之绝缘性基板加热冷设备及绝缘性基板之温度控制方法。规定绝缘性基板的温度控制方法，构成静电夹盘的电介质之形状，物性，电极的形状而揭示绝缘性基板吸着用静电夹盘。在前述静电夹盘规定加热冷用的板片，气体供给配管，温度控制系统而揭示绝缘性基板加热冷设备。更且揭示编入前述绝缘性基板加热冷设备之绝缘性基板处理设备。

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