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1. 发明专利

TWI592215B 橫式乾式粉碎機有权
简体标题：横式干式粉碎机
公开(公告)号：TWI592215B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW101146173
申请日：2012-12-07
申请人：蘆澤精美技術股份有限公司 , ASHIZAWA FINETECH LTD.
发明人：石川剛 , ISHIKAWA, TSUYOSHI , 萩原直樹 , HAGIWARA, NAOKI , 山田敏宏 , YAMADA, TOSHIHIRO
IPC分类号： B02C17/24
CPC分类号： B02C17/163 , B02C17/16 , B02C17/18 , B02C17/183 , B02C17/1835

2. 发明专利

TWI564078B 介質攪拌式粉碎機有权
简体标题：介质搅拌式粉碎机
公开(公告)号：TWI564078B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW101126781
申请日：2012-07-25
申请人：蘆澤精美技術股份有限公司 , ASHIZAWA FINETECH LTD.
发明人：石川剛 , ISHIKAWA, TSUYOSHI , 岩澤翔吾 , IWASAWA, SHOGO , 田村崇弘 , TAMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： B02C17/16 , B02C17/20
CPC分类号： B02C17/1815 , B02C17/16 , B02C17/161 , B02C17/168 , B02C17/18 , B02C17/184

3. 发明专利

TW256784B 球磨粉機罐定位裝置失效
简体标题：球磨粉机罐定位设备
公开(公告)号：TW256784B
公开(公告)日：1995-09-11
申请号：TW082110825
申请日：1993-12-21
申请人：物質研究公司
发明人：湯瑪斯.傑.胡特
IPC分类号： B02C
CPC分类号： B02C17/24 , B02C17/04 , B02C17/18
摘要：一種供球磨粉機罐(12)使用的自動定位裝置(10)，可讓一操作者在磨粉機架(14)的滾輪(24)上設定機權(16)而不需定中心或修改機權(12)的位置。定位裝置(10)包含一個定在概略呈圓筒形機權(12)末端台架(14)上的安裝夾具(52)。安裝夾具(52)含一中心孔(50)，而一柱桿(48)插入其中。柱桿(48)可在孔(50)內旋轉，同時擁有一固定在其末端而概略呈Ｕ形的車軛(44)，它自安裝夾具(52)伸向機罐(12)的一端壁(18)上。一圓盤(38)被安裝在車軛臂(42)間的銷子(46)上，它可在車軛內自由地繞著銷子(48)旋轉。定位裝置(10)係安裝在台架(14)上，因而在磨粉過程中，圓盤(38)的圓周邊緣(40)與機罐(12)的端壁(18)接觸。
简体摘要：一种供球磨粉机罐(12)使用的自动定位设备(10)，可让一操作者在磨粉机架(14)的滚轮(24)上设置机权(16)而不需定中心或修改机权(12)的位置。定位设备(10)包含一个定在概略呈圆筒形机权(12)末端台架(14)上的安装夹具(52)。安装夹具(52)含一中心孔(50)，而一柱杆(48)插入其中。柱杆(48)可在孔(50)内旋转，同时拥有一固定在其末端而概略呈Ｕ形的车轭(44)，它自安装夹具(52)伸向机罐(12)的一端壁(18)上。一圆盘(38)被安装在车轭臂(42)间的销子(46)上，它可在车轭内自由地绕着销子(48)旋转。定位设备(10)系安装在台架(14)上，因而在磨粉过程中，圆盘(38)的圆周边缘(40)与机罐(12)的端壁(18)接触。

4. 发明专利

TW201742671A 介質循環式粉碎機审中-公开
简体标题：介质循环式粉碎机
公开(公告)号：TW201742671A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106116504
申请日：2017-05-18
申请人：蘆澤精美技術股份有限公司 , ASHIZAWA FINETECH LTD.
发明人：石川剛 , ISHIKAWA, TSUYOSHI , 三橋保洋 , MITSUHASHI, YASUHIRO , 田村崇弘 , TAMURA, TAKAHIRO , 中島翼 , NAKAJIMA, TSUBASA
IPC分类号： B02C17/16 , B02C17/18
CPC分类号： B01F7/00 , B01F7/16 , B02C17/16 , B02C17/18
摘要：本發明的介質循環式粉碎機具備：攪拌構件，位於粉碎室的下部，具有與粉碎室的軸心略同軸的旋轉軸；環狀隔壁，從攪拌構件的外周部或從外周部在半徑方向離開預定距離的位置向上方豎立，在半徑方向分割粉碎室內部，構成粉碎室內方部與環狀的粉碎室外方部；介質引導構件，向下設於端板的下面中央，利用攪拌構件的作用，將在粉碎室外方部上升起來的原料漿體與粉碎介質的混合物變成向下的流，朝向粉碎室內方部；介質分離構件，設於介質引導構件的下部；及產品漿體排出部，設於介質引導構件的內部，連通到介質分離構件內部，用於將以介質分離構件分離粉碎、分散介質的產品漿體排出到外部；使粉碎介質在粉碎室內方部與粉碎室外方部之間循環，利用循環的粉碎介質粉碎原料漿體中的原料。
简体摘要：本发明的介质循环式粉碎机具备：搅拌构件，位于粉碎室的下部，具有与粉碎室的轴心略同轴的旋转轴；环状隔壁，从搅拌构件的外周部或从外周部在半径方向离开预定距离的位置向上方竖立，在半径方向分割粉碎室内部，构成粉碎室内方部与环状的粉碎室外方部；介质引导构件，向下设于端板的下面中央，利用搅拌构件的作用，将在粉碎室外方部上升起来的原料浆体与粉碎介质的混合物变成向下的流，朝向粉碎室内方部；介质分离构件，设于介质引导构件的下部；及产品浆体排出部，设于介质引导构件的内部，连通到介质分离构件内部，用于将以介质分离构件分离粉碎、分散介质的产品浆体排出到外部；使粉碎介质在粉碎室内方部与粉碎室外方部之间循环，利用循环的粉碎介质粉碎原料浆体中的原料。

5. 发明专利

TW201332658A 橫式乾式粉碎機审中-公开
简体标题：横式干式粉碎机
公开(公告)号：TW201332658A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101146173
申请日：2012-12-07
申请人：蘆澤精美技術股份有限公司 , ASHIZAWA FINETECH LTD.
发明人：石川剛 , ISHIKAWA, TSUYOSHI , 萩原直樹 , HAGIWARA, NAOKI , 山田敏宏 , YAMADA, TOSHIHIRO
IPC分类号： B02C17/24
CPC分类号： B02C17/163 , B02C17/16 , B02C17/18 , B02C17/183 , B02C17/1835
摘要：本發明之目的在提供一種可防止原料等向原料投入部拋起並附著於其上的橫式乾式粉碎機。本發明之橫式乾式粉碎機係使設於粉碎桶之原料供給部的直徑小於粉碎室的直徑，同時機械式推力產生裝置之直徑亦設成與此對應的較小直徑。此外，本發明之橫式乾式粉碎機中，作為機械式推力產生裝置之給料螺桿的外徑和原料供給部中之粉碎桶的內徑間的間隙，係設定在0.5mm至粉碎介質直徑的1/3之間。
简体摘要：本发明之目的在提供一种可防止原料等向原料投入部抛起并附着于其上的横式干式粉碎机。本发明之横式干式粉碎机系使设于粉碎桶之原料供给部的直径小于粉碎室的直径，同时机械式推力产生设备之直径亦设成与此对应的较小直径。此外，本发明之横式干式粉碎机中，作为机械式推力产生设备之给料螺杆的外径和原料供给部中之粉碎桶的内径间的间隙，系设置在0.5mm至粉碎介质直径的1/3之间。

6. 发明专利

TW201313322A 介質攪拌式粉碎機审中-公开
简体标题：介质搅拌式粉碎机
公开(公告)号：TW201313322A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101126781
申请日：2012-07-25
申请人：蘆澤精美技術股份有限公司 , ASHIZAWA FINETECH LTD.
发明人：石川剛 , ISHIKAWA, TSUYOSHI , 岩澤翔吾 , IWASAWA, SHOGO , 田村崇弘 , TAMURA, TAKAHIRO
IPC分类号： B02C17/16 , B02C17/20
CPC分类号： B02C17/1815 , B02C17/16 , B02C17/161 , B02C17/168 , B02C17/18 , B02C17/184
摘要：本發明之目的在提供一種介質攪拌式粉碎機，其可使粉碎介質和原料漿之混合物產生均勻的穩定螺旋流，不會因離心力而發生力的偏倚，藉此，可以良好能量效率均勻地進行粉碎-分散。本發明之介質攪拌式粉碎機係將粉碎室下方部分朝半徑方向分割，並設有用以構成粉碎室下方部分內側部和環狀之粉碎室下方部分外側部的引導環，藉以使原料漿和粉碎介質之混合物流成為流動於循環流路的螺旋流，而該循環流路係以前述引導環為中心，以前述粉碎室下方部分外側部為上昇通路，以粉碎室下方部分內側部為下降通路，同時，在粉碎室內設置旋轉流動抑制裝置，以強化該螺旋流之二次流，使螺旋流獲得穩定。
简体摘要：本发明之目的在提供一种介质搅拌式粉碎机，其可使粉碎介质和原料浆之混合物产生均匀的稳定螺旋流，不会因离心力而发生力的偏倚，借此，可以良好能量效率均匀地进行粉碎-分散。本发明之介质搅拌式粉碎机系将粉碎室下方部分朝半径方向分割，并设有用以构成粉碎室下方部分内侧部和环状之粉碎室下方部分外侧部的引导环，借以使原料浆和粉碎介质之混合物流成为流动于循环流路的螺旋流，而该循环流路系以前述引导环为中心，以前述粉碎室下方部分外侧部为上升通路，以粉碎室下方部分内侧部为下降通路，同时，在粉碎室内设置旋转流动抑制设备，以强化该螺旋流之二次流，使螺旋流获得稳定。

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