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1. 发明专利

TW200716196A 燙髮加工用藥劑审中-公开
简体标题：烫发加工用药剂
公开(公告)号：TW200716196A
公开(公告)日：2007-05-01
申请号：TW095116944
申请日：2006-05-12
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：澀谷彰 SHIBUYA, AKIRA , 蒲池元昭 KAMACHI, MOTOAKI
IPC分类号： A61K , A61Q
CPC分类号： A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要：本發明係提供可同時進行燙髮加工與染髮之燙髮加工用藥劑。其特徵係為由(i)含有至少一種由下式(1)所示之化合物,與酸性染料以及/或氧化染料之燙髮第1劑,
095116944-p01.bmp
(X係-O-、-S-、- NH-、-NR^1-之任一個構造,R^1係碳數為1-6之烷基,R^2係氫原子或碳數為1-6之烷基,Y係氧原子或硫原子,R係可具巰基之二價有機殘基),與(ii)含有氧化劑之燙髮第2劑所構成之燙髮加工用藥劑。
简体摘要：本发明系提供可同时进行烫发加工与染发之烫发加工用药剂。其特征系为由(i)含有至少一种由下式(1)所示之化合物,与酸性染料以及/或氧化染料之烫发第1剂, 095116944-p01.bmp (X系-O-、-S-、- NH-、-NR^1-之任一个构造,R^1系碳数为1-6之烷基,R^2系氢原子或碳数为1-6之烷基,Y系氧原子或硫原子,R系可具巯基之二价有机残基),与(ii)含有氧化剂之烫发第2剂所构成之烫发加工用药剂。

2. 发明专利

TWI231219B 皮脂分泌抑制用皮膚外用劑 FAT SECRETION-INHIBITORY AGENT FOR SKIN APPLICATION 失效
简体标题：皮脂分泌抑制用皮肤外用剂 FAT SECRETION-INHIBITORY AGENT FOR SKIN APPLICATION
公开(公告)号：TWI231219B
公开(公告)日：2005-04-21
申请号：TW090112652
申请日：2001-05-25
申请人：資生堂股份有限公司 SHISEIDO COMPANY, LTD.
发明人：豬股慎二 SHINJI INOMATA , 小林孝次 KOJI KOBAYASHI
IPC分类号： A61K , A61P
CPC分类号： A61K31/12 , A61K8/0212 , A61K8/4933 , A61K8/97 , A61K31/4406 , A61K2800/782 , A61Q1/02 , A61Q19/00 , A61Q19/008 , A61Q19/08
摘要：本發明係關於一種包含金屬蛋白抑制物質之皮脂分泌抑制用皮膚外用劑。
简体摘要：本发明系关于一种包含金属蛋白抑制物质之皮脂分泌抑制用皮肤外用剂。

3. 发明专利

TW200912306A 對組成物中能引起苦味覺之苦味化合物具反應之人類第二型味覺受器(T2R)之鑑定、以及其應用於分析中之用途以鑑定組成物中可抑制(阻斷)苦味覺之化合物以及其之用途 IDENTIFICATION OF HUMAN T2R RECEPTORS THAT RESPOND TO BITTER COMPOUNDS THAT ELICIT THE BITTER TASTE IN COMPOSITIONS, AND THE USE THEREOF IN ASSAYS TO IDENTIFY COMPOUNDS THAT INHIBIT (BLOCK) BITTER TASTE IN COMPOSITIONS AND USE THEREOF 审中-公开
简体标题：对组成物中能引起苦味觉之苦味化合物具反应之人类第二型味觉受器(T2R)之鉴定、以及其应用于分析中之用途以鉴定组成物中可抑制(阻断)苦味觉之化合物以及其之用途 IDENTIFICATION OF HUMAN T2R RECEPTORS THAT RESPOND TO BITTER COMPOUNDS THAT ELICIT THE BITTER TASTE IN COMPOSITIONS, AND THE USE THEREOF IN ASSAYS TO IDENTIFY COMPOUNDS THAT INHIBIT (BLOCK) BITTER TASTE IN COMPOSITIONS AND USE THEREOF
公开(公告)号：TW200912306A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097131918
申请日：2008-08-21
申请人：塞諾米克斯股份有限公司 SENOMYX, INC.
发明人：李曉東 LI, XIAODONG , 派特隆安德烈 PATRON, ANDREW , 塔克堅凱瑟琳 TACHDJIAN, CATHERINE , 徐泓 XU, HONG , 李青 LI, QING , 普洛尼艾力克斯 PRONIN, ALEXEY , 瑟文特蓋 SERVANT, GUY , 張蘭 ZHANG, LAN , 布萊迪湯瑪士 BRADY, THOMAS , 達姆胡蘇杜文生 DARMOHUSODO, VINCENT , 阿蘭諾梅莉莎 ARELLANO, MELISSA , 沙喬維克多 SELCHAU, VICTOR , 琴布雷特W CHING, BRETT WEYLAN , 卡拉紐斯基多納德S KARANEWSKY, DONALD S. , 布斯特保羅 BRUST, PAUL , 林堅 LING, JING , 趙文 ZHAO, WEN , 派斯特查德 PRIEST, CHAD
IPC分类号： G01N , C12Q
CPC分类号： C07C311/17 , A23L27/86 , A61K8/46 , A61K8/466 , A61K8/4933 , A61K8/494 , A61K8/4973 , A61K8/498 , A61K8/4986 , A61K31/135 , A61K31/4439 , A61K31/485 , A61K31/60 , A61K31/704 , A61K45/06 , A61Q11/00 , C07C233/73 , C07C311/04 , C07C311/13 , C07C311/16 , C07C311/18 , C07C311/19 , C07C311/20 , C07C311/21 , C07C311/29 , C07C311/46 , C07C323/49 , C07C335/16 , C07C335/18 , C07D213/42 , C07D213/71 , C07D217/08 , C07D223/18 , C07D307/14 , C07D307/52 , C07D317/58 , C07D333/20 , C07D333/34 , A61K2300/00
摘要：本發明涉及T2R味覺受體族中的特異性人味覺受體應答存在於諸如咖啡中的特異性苦味化合物的發現。本發明也涉及具有諸如作為苦味受體阻斷劑的功能的特異性化合物和合成物以及其在諸如咖啡和咖啡味食品中作為苦味阻斷劑或味覺調節劑的發現。本發明也涉及對抗多種不同人T2R的化合物及其在檢測中的應用以及其用於人和動物吸收的作為在合成物中苦味阻斷劑的發現。
简体摘要：本发明涉及T2R味觉受体族中的特异性人味觉受体应答存在于诸如咖啡中的特异性苦味化合物的发现。本发明也涉及具有诸如作为苦味受体阻断剂的功能的特异性化合物和合成物以及其在诸如咖啡和咖啡味食品中作为苦味阻断剂或味觉调节剂的发现。本发明也涉及对抗多种不同人T2R的化合物及其在检测中的应用以及其用于人和动物吸收的作为在合成物中苦味阻断剂的发现。

4. 发明专利

TW300851B 具增進粒子去頭皮屑藥劑沈積之高泡沫去頭皮屑洗髮精失效
简体标题：具增进粒子去头皮屑药剂沉积之高泡沫去头皮屑洗发精
公开(公告)号：TW300851B
公开(公告)日：1997-03-21
申请号：TW083106416
申请日：1994-07-14
申请人：寶鹼公司
发明人：柯斯倫,菲利浦.伊爾 , 柯菲達佛,蒂摩斯.伍德羅 , 高希爾.湯瑪斯.法蘭西斯 , 摩雷.凱文.派崔克
IPC分类号： A61K , A61Q , C01B
CPC分类号： A61Q5/02 , A61K8/44 , A61K8/463 , A61K8/4933 , A61K2800/596 , A61Q5/006
摘要：本發明所揭示的是具增進粒子去頭皮屑藥劑沈積之高泡沫去頭皮屑洗髮精組合物，此組合物包含有：(a)佔大約5侄大約29.5重量％之選自由：烷基硫酸鹽和烷基乙氧基化的硫酸鹽；以及它們酸和混合物所組成的旋群之中的一種陰離子界面活性劑；(b)佔大約0.5至大約5重量％的 N-醯基胺基酸陰離子界面活性劑和它們的鹽；(c)佔大約0.1至大約10重量％的粒子去頭屑藥劑；(d)佔大約0.5至大約10重量％之去頭皮屑活性成分的結晶狀態浮劑；(e)佔大約40至89重量％的水；其中有清潔作用的界面活性劑在組合物中的濃度是大約10至大約30％之間；組分(b)；組分(a)之重疊比例至少最大約1：20；而且；此組合物大髒上是不今三甲基銨內酯界面活性劑及鏈烷醇醯胺助泡劑。
简体摘要：本发明所揭示的是具增进粒子去头皮屑药剂沉积之高泡沫去头皮屑洗发精组合物，此组合物包含有：(a)占大约5侄大约29.5重量％之选自由：烷基硫酸盐和烷基乙氧基化的硫酸盐；以及它们酸和混合物所组成的旋群之中的一种阴离子界面活性剂；(b)占大约0.5至大约5重量％的 N-酰基氨基酸阴离子界面活性剂和它们的盐；(c)占大约0.1至大约10重量％的粒子去头屑药剂；(d)占大约0.5至大约10重量％之去头皮屑活性成分的结晶状态浮剂；(e)占大约40至89重量％的水；其中有清洁作用的界面活性剂在组合物中的浓度是大约10至大约30％之间；组分(b)；组分(a)之重叠比例至少最大约1：20；而且；此组合物大脏上是不今三甲基铵内酯界面活性剂及链烷醇酰胺助泡剂。

5. 发明专利

TW217990B 洗髮精組合物失效
简体标题：洗发精组合物
公开(公告)号：TW217990B
公开(公告)日：1993-12-21
申请号：TW080105096
申请日：1991-07-01
申请人：聯合利華公司
发明人：大衛.安卓.希成
IPC分类号： A61K , A61Q
CPC分类号： A61K8/898 , A61K8/0241 , A61K8/11 , A61K8/26 , A61K8/27 , A61K8/29 , A61K8/44 , A61K8/463 , A61K8/4933 , A61K8/73 , A61K8/731 , A61K8/737 , A61K8/8147 , A61K8/8152 , A61K8/891 , A61K2800/412 , A61K2800/5426 , A61K2800/621 , A61Q5/006 , A61Q5/02 , A61Q5/12
摘要：一種含水洗髮精組合物除了水之外，還包含有
界面活性劑－選自陰離子性、非離子性或兩性界面活性劑，以及其混合物；
不可溶，非－揮發性矽酮；
懸浮聚合物－選自聚丙烯酸、丙烯酸之交聯聚合物、丙烯酸與疏水性單體之共聚物、含羧酸之單體與丙烯酸酯之共聚物、丙烯酸與丙烯酸酯之交聯共聚物，以及雜多糖樹膠；和塗覆二氧化鈦的雲母。
简体摘要：一种含水洗发精组合物除了水之外，还包含有界面活性剂－选自阴离子性、非离子性或两性界面活性剂，以及其混合物；不可溶，非－挥发性硅酮；悬浮聚合物－选自聚丙烯酸、丙烯酸之交联聚合物、丙烯酸与疏水性单体之共聚物、含羧酸之单体与丙烯酸酯之共聚物、丙烯酸与丙烯酸酯之交联共聚物，以及杂多糖树胶；和涂覆二氧化钛的云母。

7. 发明专利

TW201311290A 組合物审中-公开
简体标题：组合物
公开(公告)号：TW201311290A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101130529
申请日：2012-08-22
申请人：聯合利華公司 , UNILEVER N.V.
发明人：曹群華 , CAO, QUNHUA , 曹成敏 , CHO, SUNGMIN , 賈司華阿密特 , JAYASWAL, AMIT , 李智惠 , LEE, JIHAE , 梁建明 , LIANG, JIANMING , 謝連松 , XIE, LIANSONG , 楊青 , YANG, QING , 袁淑鴻 , YUAN, SHUHONG
IPC分类号： A61K8/49 , A61K8/89 , A61Q5/00
CPC分类号： A61K8/58 , A61K8/4933 , A61K8/4993 , A61K8/86 , A61K8/891 , A61K8/898 , A61K2800/30 , A61Q5/006 , A61Q5/12
摘要：本發明係關於毛髮調理組合物，其包含：-0.1重量%至10重量%聚矽氧-0.1重量%至5重量%與非陰離子表面活性劑摻和之金屬吡啶硫酮(pyrithione)。
简体摘要：本发明系关于毛发调理组合物，其包含：-0.1重量%至10重量%聚硅氧-0.1重量%至5重量%与非阴离子表面活性剂掺和之金属吡啶硫酮(pyrithione)。

8. 发明专利

TW200716185A 含有雜環狀氫硫基化合物之燙髮加工用藥劑失效
简体标题：含有杂环状氢硫基化合物之烫发加工用药剂
公开(公告)号：TW200716185A
公开(公告)日：2007-05-01
申请号：TW095118913
申请日：2006-05-26
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：澀谷彰 SHIBUYA, AKIRA , 萬谷慎一 YOROZUYA, SHINICHI , 齋藤信 SAITO, MAKOTO
IPC分类号： A61K , A61Q
CPC分类号： A61Q5/04 , A61K8/4933
摘要：本發明係以提供特別對皮膚刺激少,於中性至弱酸性之pH領域亦可燙髮加工之燙髮加工用藥劑為目的。本發明之燙髮加工用藥劑其特徵係含有至少一種以下式(1)所示之雜環狀氫硫基化合物;
095118913-p01.bmp
(式中,R^1以及R^2代表各別獨立之氫原子或可具有取代基之碳數1-5的烷基,X係表示-O-、-S-、-NH-、-NR^3-之任一個,R^3係表示碳數1-5的烷基。n表示0-2之整數,n為2時SH基亦可與任一個碳原子結合。)
095118913-p01.bmp
简体摘要：本发明系以提供特别对皮肤刺激少,于中性至弱酸性之pH领域亦可烫发加工之烫发加工用药剂为目的。本发明之烫发加工用药剂其特征系含有至少一种以下式(1)所示之杂环状氢硫基化合物; 095118913-p01.bmp (式中,R^1以及R^2代表各别独立之氢原子或可具有取代基之碳数1-5的烷基,X系表示-O-、-S-、-NH-、-NR^3-之任一个,R^3系表示碳数1-5的烷基。n表示0-2之整数,n为2时SH基亦可与任一个碳原子结合。) 095118913-p01.bmp

9. 发明专利

TWI274588B 新穎之局部用調製物 NOVEL TOPICAL FORMULATIONS 失效
简体标题：新颖之局部用调制物 NOVEL TOPICAL FORMULATIONS
公开(公告)号：TWI274588B
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：TW089110198
申请日：2000-09-01
申请人：壯生和壯生消費者公司 JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC.
发明人：蘭蘇珊 SUSAN M. NIEMIEC , 耐葛安 GLENN A. NYSTRAND , 王喬娜 JONAS C. T. WANG , 何凱怡 KIE L. HO
IPC分类号： A61K
CPC分类号： A61K8/4933 , A61K8/14 , A61K8/49 , A61K9/1272 , A61Q7/00 , A61Q7/02
摘要：本發明係關於使用某種小囊泡輸送系統作為強化劑及視需要選用的清潔劑增強藥理活性物質跨膜及/或局部穿透之方法，以及其中使用的組成物，使用根據本發明之組成物可將多種活性劑例如頭髮生長劑、頭髮抑制劑、抗痤瘡劑、脫毛劑、抗老化劑及脫色劑有效地輸送至皮膚、毛囊及皮脂腺。
简体摘要：本发明系关于使用某种小囊泡输送系统作为强化剂及视需要选用的清洁剂增强药理活性物质跨膜及/或局部穿透之方法，以及其中使用的组成物，使用根据本发明之组成物可将多种活性剂例如头发生长剂、头发抑制剂、抗痤疮剂、脱毛剂、抗老化剂及脱色剂有效地输送至皮肤、毛囊及皮脂腺。

10. 发明专利

TWI377070B 燙髮用藥劑有权
简体标题：烫发用药剂
公开(公告)号：TWI377070B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：TW095116944
申请日：2006-05-12
申请人：昭和電工股份有限公司
发明人：澀谷彰 , 蒲池元昭
IPC分类号： A61K , A61Q
CPC分类号： A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要：本發明係提供可同時進行燙髮加工與染髮之燙髮加工用藥劑。
其特徵係為由(i)含有至少一種由下式(1)所示之化合物，與酸性染料以及/或氧化染料之燙髮第1劑，
【化1】
(1)
(X係-O-、-S-、-NH-、-NR1-之任一個構造，R1係碳數為1~6之烷基，R2係氫原子或碳數為1~6之烷基，Y係氧原子或硫原子，R係可具巰基之二價有機殘基)，與(ii)含有氧化劑之燙髮第2劑所構成之燙髮加工用藥劑。
简体摘要：本发明系提供可同时进行烫发加工与染发之烫发加工用药剂。其特征系为由(i)含有至少一种由下式(1)所示之化合物，与酸性染料以及/或氧化染料之烫发第1剂，【化1】 (1) (X系-O-、-S-、-NH-、-NR1-之任一个构造，R1系碳数为1~6之烷基，R2系氢原子或碳数为1~6之烷基，Y系氧原子或硫原子，R系可具巯基之二价有机残基)，与(ii)含有氧化剂之烫发第2剂所构成之烫发加工用药剂。

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