专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI314589B 具有抗反射性質之機械耐久性單層塗膜的製備 PREPARATION OF A MECHANICALLY DURABLE SINGLE LAYER COATING WITH ANTI-REFLECTIVE PROPERTIES 有权
简体标题：具有抗反射性质之机械耐久性单层涂膜的制备 PREPARATION OF A MECHANICALLY DURABLE SINGLE LAYER COATING WITH ANTI-REFLECTIVE PROPERTIES
公开(公告)号：TWI314589B
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：TW092131118
申请日：2003-11-06
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：傑恩斯利斯 THIES, JENS CHRISTOPH , 艾德恩柯里 CURRIE, EDWIN , 蓋都梅爾 MEIJERS, GUIDO JOZEDINA WILHELMUS
IPC分类号： C23C , G02B
CPC分类号： G02B1/111 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/25 , Y10T428/252 , Y10T428/31971
摘要：單層抗反射硬塗層,特別是其中含有結構表面(以奈米結構表面為佳)者。此硬塗層之硬度以高於0.5GPa為佳,高於0.7GPa較佳,高於1.0GPa更佳,此硬度係藉奈米刻紋測定,和/或減折抗張模量高於3GPa,以高於8.5GPa或20GPa較佳,高於40GPa最佳,此減折抗張模量係藉奈米刻紋測定,和/或耐刮性高於5毫焦耳/立方微米,以高於15或30毫焦耳/立方微米較佳,高於60毫焦耳/立方微米更佳,此耐刮性係藉奈米刻紋測定,和/或含有無機奈米顆粒,相對於存在於硬塗層中之第二種材料總重,其含量是5至75重量%,以15至50重量%為佳。
較佳情況中,單層硬塗層的折射指數梯度之空間長度尺寸介於10和1000奈米之間;特別是介於100和200奈米之間。
亦係關於一種製造單層硬塗層之方法,其步驟包含
a) 混合物施用於底質上,此混合物包含
i.至少一種第一種材料,其於步驟b)中選用條件下不會交聯,
ii.至少一種第二種材料,其於步驟b)中選用條件下會交聯,
iii.奈米顆粒,和
iv.任意至少一種溶劑
b) 引發施用於底質上的混合物之交聯,
v.之後移除至少一部分第一種材料,
及包含此單層硬塗層之成型物件。
简体摘要：单层抗反射硬涂层,特别是其中含有结构表面(以奈米结构表面为佳)者。此硬涂层之硬度以高于0.5GPa为佳,高于0.7GPa较佳,高于1.0GPa更佳,此硬度系藉奈米刻纹测定,和/或减折抗张模量高于3GPa,以高于8.5GPa或20GPa较佳,高于40GPa最佳,此减折抗张模量系藉奈米刻纹测定,和/或耐刮性高于5毫焦耳/立方微米,以高于15或30毫焦耳/立方微米较佳,高于60毫焦耳/立方微米更佳,此耐刮性系藉奈米刻纹测定,和/或含有无机奈米颗粒,相对于存在于硬涂层中之第二种材料总重,其含量是5至75重量%,以15至50重量%为佳。较佳情况中,单层硬涂层的折射指数梯度之空间长度尺寸介于10和1000奈米之间;特别是介于100和200奈米之间。亦系关于一种制造单层硬涂层之方法,其步骤包含 a) 混合物施用于底质上,此混合物包含 i.至少一种第一种材料,其于步骤b)中选用条件下不会交联, ii.至少一种第二种材料,其于步骤b)中选用条件下会交联, iii.奈米颗粒,和 iv.任意至少一种溶剂 b) 引发施用于底质上的混合物之交联, v.之后移除至少一部分第一种材料, 及包含此单层硬涂层之成型对象。

2. 发明专利

TW200936830A 精紡超高分子量聚乙烯(UHMWPE)的方法、由其製得之UHMWPE多絲紗及其用途 PROCESS FOR SPINNING UHMWPE, UHMWPE MULTIFILAMENT YARNS PRODUCED THEREOF AND THEIR USE 审中-公开
简体标题：精纺超高分子量聚乙烯(UHMWPE)的方法、由其制得之UHMWPE多丝纱及其用途 PROCESS FOR SPINNING UHMWPE, UHMWPE MULTIFILAMENT YARNS PRODUCED THEREOF AND THEIR USE
公开(公告)号：TW200936830A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149249
申请日：2008-12-17
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：希米林克喬瑟夫A P M SIMMELINK, JOSEPH ARNOLD PAUL MARIA , 瑪利森羅洛夫 MARISSEN, ROELOF
IPC分类号： D01D , D01F
CPC分类号： D01D5/06 , B29C47/0014 , D01F6/04 , D10B2321/0211 , D10B2505/00 , D10B2509/00 , Y10T428/2913 , Y10T428/2915 , Y10T442/69
摘要：本發明係關於一種用於製造包含超低分特(dtex)單絲之高抗拉强度超高分子量聚乙烯(UHMWPE)多絲紗之凝膠精紡方法,該方法之特徵在於經由通過噴絲嘴精紡UHMWPE溶液進入氣隙獲得流體單絲,而施加至該流體單絲之拉伸比DR流體至少為450,其中DR流體=DRsp x DRag,該DRsp及DRag分別為噴絲孔及氣隙之拉伸比;以及規定DRag至少為30。其所製造之UHMWPE多絲紗之特徵在於抗拉强度至少為3.5GPa且含有具有至多0.5分特之單絲。本發明進一步係關於包含該等紗之產物例如織物、醫療裝置及複合物及彈道物件。
简体摘要：本发明系关于一种用于制造包含超低分特(dtex)单丝之高抗拉强度超高分子量聚乙烯(UHMWPE)多丝纱之凝胶精纺方法,该方法之特征在于经由通过喷丝嘴精纺UHMWPE溶液进入气隙获得流体单丝,而施加至该流体单丝之拉伸比DR流体至少为450,其中DR流体=DRsp x DRag,该DRsp及DRag分别为喷丝孔及气隙之拉伸比;以及规定DRag至少为30。其所制造之UHMWPE多丝纱之特征在于抗拉强度至少为3.5GPa且含有具有至多0.5分特之单丝。本发明进一步系关于包含该等纱之产物例如织物、医疗设备及复合物及弹道对象。

3. 发明专利

TW200936555A 具多重次蒸餾的環己酮生產方法 CYCLOHEXANONE PRODUCTION PROCESS WITH MULTIPLE POST-DISTILLATION 审中-公开
简体标题：具多重次蒸馏的环己酮生产方法 CYCLOHEXANONE PRODUCTION PROCESS WITH MULTIPLE POST-DISTILLATION
公开(公告)号：TW200936555A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149693
申请日：2008-12-19
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：汀吉喬漢T TINGE, JOHAN THOMAS , 帕登魯迪F M J PARTON, RUDY FRANCOIS MARIA JOZEF , 凡多特蒙特構迪法度斯M VAN DORTMONT, GODEFRIDUS MARIA , 霍希爾斯M HORSELS, M
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C29/50 , C07C45/006 , C07C45/82 , C07C51/00 , C07C2601/14 , C07C49/403 , C07C55/14 , C07C35/08
摘要：本發明係與一種用於使用一催化劑來連續地由酚製備環己酮的方法有關,該催化劑包含有至少一種選自於鉑和鈀之具催化活性的金屬,該方法包含有-將酚氫化以形成一包含有環己酮以及未反應酚的產物流;-將該產物流中之至少一部分,或是一或更多具有比環己酮更低之沸點的成分都已經自其中移除的該產物流中之至少一部分,運用蒸餾作用而分離成一包含有環己酮的第一餾分以及一包含有酚、環己醇的第二餾分;-運用蒸餾作用來將該第二餾分分離成一富含有環己醇的第三餾分,以及一富含有酚的第四餾分;-將至少一部分之該第四餾分進行一進一步的蒸餾步驟,藉此形成一第五餾分與一第六餾分,其中該第五餾分係比該第六餾分更富含有酚,而其中該第六餾分係包含具有比酚更高的沸點之副產物以及酚;並且該方法之特徵在於以下的該額外之步驟,-將至少一部分的該第六餾分持續地或間斷地分離至又一進一步的蒸餾步驟,藉此形成一第七餾分與一第八餾分,其中該第七餾分相較於該這八餾分係富含有酚,且其中該第八餾分係包含具有比酚更高的沸點之副產物。
简体摘要：本发明系与一种用于使用一催化剂来连续地由酚制备环己酮的方法有关,该催化剂包含有至少一种选自于铂和钯之具催化活性的金属,该方法包含有-将酚氢化以形成一包含有环己酮以及未反应酚的产物流;-将该产物流中之至少一部分,或是一或更多具有比环己酮更低之沸点的成分都已经自其中移除的该产物流中之至少一部分,运用蒸馏作用而分离成一包含有环己酮的第一馏分以及一包含有酚、环己醇的第二馏分;-运用蒸馏作用来将该第二馏分分离成一富含有环己醇的第三馏分,以及一富含有酚的第四馏分;-将至少一部分之该第四馏分进行一进一步的蒸馏步骤,借此形成一第五馏分与一第六馏分,其中该第五馏分系比该第六馏分更富含有酚,而其中该第六馏分系包含具有比酚更高的沸点之副产物以及酚;并且该方法之特征在于以下的该额外之步骤,-将至少一部分的该第六馏分持续地或间断地分离至又一进一步的蒸馏步骤,借此形成一第七馏分与一第八馏分,其中该第七馏分相较于该这八馏分系富含有酚,且其中该第八馏分系包含具有比酚更高的沸点之副产物。

4. 发明专利

TW200848942A 製造微晶片之方法及裝置 A METHOD AND AN APPARATUS FOR PRODUCING MICROCHIPS 审中-公开
简体标题：制造微芯片之方法及设备 A METHOD AND AN APPARATUS FOR PRODUCING MICROCHIPS
公开(公告)号：TW200848942A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW096140773
申请日：2007-10-30
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：架哈米夏哈伯 JAHROMI, SHAHAB , 伯米爾琳那德斯G B BREMER, LEONARDUS GERARDUS BERNARDUS
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/70341
摘要：本發明係有關於一種藉著使用沈浸微影蝕刻用以製造微晶片之方法,同時使用沈浸流體,其包含一主要流體,該主要流體具有至少約為40wt%的至少一種有機流體,其帶有1.5或更高之一折射率;該沈浸流體進一步包含顆粒,其帶有一大體上等於純淨主要流體之折射率的折射率,該等顆粒係存在約10wt%或更多。
简体摘要：本发明系有关于一种借着使用沈浸微影蚀刻用以制造微芯片之方法,同时使用沈浸流体,其包含一主要流体,该主要流体具有至少约为40wt%的至少一种有机流体,其带有1.5或更高之一折射率;该沈浸流体进一步包含颗粒,其带有一大体上等于纯净主要流体之折射率的折射率,该等颗粒系存在约10wt%或更多。

5. 发明专利

TW200815512A 電解膜 ELECTROLYTIC MEMBRANE 审中-公开
简体标题：电解膜 ELECTROLYTIC MEMBRANE
公开(公告)号：TW200815512A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096126607
申请日：2007-07-20
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：卡利斯吉斯伯吐斯H. M. CALIS, GIJSBERTUS HENDRIKUS MARIA , 史汀柏格艾德文H. A. STEENBAKKERS, EDWIN HENRICUS ADRIAAN
IPC分类号： C08J , H01M
CPC分类号： C08J5/2231 , B01D69/10 , B01D71/26 , B01D71/36 , B01D71/82 , C08J5/2206 , C08J2323/06 , C25B13/08 , H01M8/1023 , H01M8/1039 , H01M8/106 , H01M8/1062 , H01M8/1067 , H01M8/1069 , H01M8/1093 , Y02E60/523 , Y02P70/56
摘要：本發明提供一種電解膜,其包含一加强結構及一離聚物。該加强結構包含數個直徑為0.3��m至2.5��m(以一PM1多孔毛細管流測儀測定)的孔及具有一低於0.5%線性膨脹且所有延展方向都在X-Y平面。此外,本發明提供一種製造該電解膜的方法。該電解膜特別適用於作為低溫燃料電池(聚合物交換燃料電池及直接甲醇燃料電池)及電解電池中的電解膜。
简体摘要：本发明提供一种电解膜,其包含一加强结构及一离聚物。该加强结构包含数个直径为0.3��m至2.5��m(以一PM1多孔毛细管流测仪测定)的孔及具有一低于0.5%线性膨胀且所有延展方向都在X-Y平面。此外,本发明提供一种制造该电解膜的方法。该电解膜特别适用于作为低温燃料电池(聚合物交换燃料电池及直接甲醇燃料电池)及电解电池中的电解膜。

6. 发明专利

TW200811239A 經韌化之不含鹵素的耐火聚酯組成物 TOUGHENED HALOGEN FREE FLAME RETARDANT POLYESTER COMPOSITION 审中-公开
简体标题：经韧化之不含卤素的耐火聚酯组成物 TOUGHENED HALOGEN FREE FLAME RETARDANT POLYESTER COMPOSITION
公开(公告)号：TW200811239A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096125401
申请日：2007-07-12
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：珍森羅伯特H. C. JANSSEN, ROBERT HENDRIK CATHARINA , 瓦烈特夢尼桂A. M. WALET, MONIQUE ANNA MARIA
IPC分类号： C08L , C09K
CPC分类号： C08F290/00 , C08L53/00 , C08L2666/02
摘要：本發明係有關於不含鹵素之耐火熱塑性聚合物組成物,其包含不含鹵素之耐火系統、熱塑性聚酯及含量為1至20重量%之與該熱塑性聚酯化學性鍵結的軟嵌段。本發明亦有關於該不含鹵素之耐火熱塑性聚合物組成物用於製備纖維、薄膜及射出或擠出成形零件的用途。
简体摘要：本发明系有关于不含卤素之耐火热塑性聚合物组成物,其包含不含卤素之耐火系统、热塑性聚酯及含量为1至20重量%之与该热塑性聚酯化学性键结的软嵌段。本发明亦有关于该不含卤素之耐火热塑性聚合物组成物用于制备纤维、薄膜及射出或挤出成形零件的用途。

7. 发明专利

TW200808875A 羥基芳香族樹脂之製備方法、羥基芳香族樹脂及其改質 PROCESS FOR THE PREPARATION OF A HYDROXY-AROMATIC RESIN; HYDROXY-AROMATIC RESIN, AND MODIFICATION THEREOF 审中-公开
简体标题：羟基芳香族树脂之制备方法、羟基芳香族树脂及其改质 PROCESS FOR THE PREPARATION OF A HYDROXY-AROMATIC RESIN; HYDROXY-AROMATIC RESIN, AND MODIFICATION THEREOF
公开(公告)号：TW200808875A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096119943
申请日：2007-06-04
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：凡班森魯多爾福斯A. T. M. VAN BENTHEM, RUDOLFUS ANTONIUS THEODORUS MARIA
IPC分类号： C08G
CPC分类号： C07C69/732 , C08G8/02 , C08G59/063
摘要：本發明係關於一種羥基芳香族樹脂,其係使一式(Ⅰ)羥基-芳族化合物與一式(Ⅱ)烷醇半縮醛化合物一起反應所製備,式(Ⅰ)係:
096119943P01.bmp
其中R1、R2、R3、R4及R5可為相同或可為相異,且係H、OH、一C1-C20烷基基群,或一寡聚性或聚合性系統,藉此由R1、R3及R5所組成的組中至少一者係H;式(Ⅱ)係:
096119943P02.bmp
其中R6係一C1-C12烷基基群、芳族基群、芳烷基基群或環烷基基群及其中R12係H、一C1-C12烷基基群、芳族基群、芳烷基基群或環烷基基群。本發明進一步與該樹脂在黏著劑、層板及塗料方面的用途有關。
简体摘要：本发明系关于一种羟基芳香族树脂,其系使一式(Ⅰ)羟基-芳族化合物与一式(Ⅱ)烷醇半缩醛化合物一起反应所制备,式(Ⅰ)系: 096119943P01.bmp 其中R1、R2、R3、R4及R5可为相同或可为相异,且系H、OH、一C1-C20烷基基群,或一寡聚性或聚合性系统,借此由R1、R3及R5所组成的组中至少一者系H;式(Ⅱ)系: 096119943P02.bmp 其中R6系一C1-C12烷基基群、芳族基群、芳烷基基群或环烷基基群及其中R12系H、一C1-C12烷基基群、芳族基群、芳烷基基群或环烷基基群。本发明进一步与该树脂在黏着剂、层板及涂料方面的用途有关。

8. 发明专利

TW200736181A 抗反射之塗覆物 ANTI-REFLECTIVE COATINGS 审中-公开
简体标题：抗反射之涂覆物 ANTI-REFLECTIVE COATINGS
公开(公告)号：TW200736181A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW096105226
申请日：2007-02-13
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：利斯珍司C. THIES, JENS CHRISTOPH , 米傑爾古狄歐J. W. MEIJERS, GUIDO JOZEFINA WILHELMUS , 莫架狄后文派翠克W. A. VRIJALDENHOVEN, PATRICK WILHELMUS ANTONIUS , 阿佛斯頓那寧J. ARFSTEN, NANNING JOERG , 藍傑門赫曼斯A. LANGERMANS, HERMANUS ADRIANUS
IPC分类号： C03C , G02B
CPC分类号： G02B1/11 , A47G1/06 , B82Y20/00 , C03C17/007 , C03C2217/425 , C03C2217/45 , C03C2217/475 , C03C2217/732 , G02B1/10 , G02B1/111 , G02B1/118 , G02B2207/101 , Y10T428/24355 , Y10T428/24942 , Y10T428/249978 , Y10T428/24998 , Y10T428/25 , Y10T428/265 , Y10T428/31504 , Y10T428/31507 , Y10T428/31786 , Y10T428/31935
摘要：本發明係有關一種製備抗反射之塗覆物之方法及組成物。
简体摘要：本发明系有关一种制备抗反射之涂覆物之方法及组成物。

9. 发明专利

TW200734357A 用於裝飾應用之胺基塑膠樹脂 AMINOPLAST RESIN FOR DECORATIVE APPLICATIONS 审中-公开
简体标题：用于装饰应用之胺基塑胶树脂 AMINOPLAST RESIN FOR DECORATIVE APPLICATIONS
公开(公告)号：TW200734357A
公开(公告)日：2007-09-16
申请号：TW096102979
申请日：2007-01-26
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：艾佛斯拉爾斯 EVERS, LARS , 貝坎普卡洛F. H. BONEKAMP, KAREL FRANCISCUS HUBERTUS , 皮特斯赫門P. PEETERS, HERMANN PHILLIP , 帕彭馬帝歐J. PABON, MARTIAL JEAN-JACQUES
IPC分类号： C08F , C07D , B32B
CPC分类号： D21H27/28 , C08G12/40 , C08L61/32 , D21H17/49 , D21H17/51
摘要：本發明係有關於胺基塑膠樹脂,其係適於裝飾應用且包含0.005與5重量%之聚氟化(烷基)丙烯酸類聚合物,其較佳係選自全氟烷基丙烯酸(共)聚合物、全氟烷基甲基丙烯酸(共)聚合物,及其等之混合物所組成之族群。本發明進一步係有關於一種層合物,其包含一上層及一底層,藉此,上層包含至少部份固化之胺基塑膠樹脂,其特徵在於此上層包含0.002與5重量%之聚氟化(烷基)丙烯酸類聚合物,其較佳係選自全氟烷基丙烯酸(共)聚合物、全氟烷基甲基丙烯酸(共)聚合物,及其等之混合物所組成之族群。
简体摘要：本发明系有关于胺基塑胶树脂,其系适于装饰应用且包含0.005与5重量%之聚氟化(烷基)丙烯酸类聚合物,其较佳系选自全氟烷基丙烯酸(共)聚合物、全氟烷基甲基丙烯酸(共)聚合物,及其等之混合物所组成之族群。本发明进一步系有关于一种层合物,其包含一上层及一底层,借此,上层包含至少部份固化之胺基塑胶树脂,其特征在于此上层包含0.002与5重量%之聚氟化(烷基)丙烯酸类聚合物,其较佳系选自全氟烷基丙烯酸(共)聚合物、全氟烷基甲基丙烯酸(共)聚合物,及其等之混合物所组成之族群。

10. 发明专利

TW200724563A 具有經改良之染色力之聚合物的製備方法 PROCESS FOR THE PREPARATION OF A POLYMER HAVING IMPROVED DYEABILITY 审中-公开
简体标题：具有经改良之染色力之聚合物的制备方法 PROCESS FOR THE PREPARATION OF A POLYMER HAVING IMPROVED DYEABILITY
公开(公告)号：TW200724563A
公开(公告)日：2007-07-01
申请号：TW095142568
申请日：2006-11-17
申请人： DSM智慧財產有限公司 DSM IP ASSETS B. V.
发明人：凡登柏格亨德瑞克J. VAN DEN BERG, HENDRIK JAN , 凡吉恩艾伯特A. VAN GEENEN, ALBERT ARNOLD
IPC分类号： C08G , D01F
CPC分类号： C08G63/685 , C08G63/912 , C08G69/02 , C08G69/26 , C08G69/44 , C08K5/34922 , D01F6/80 , D01F6/84 , C08L77/00
摘要：一種聚合物的製備方法,其包括於下式之三化合物存在下,聚合相對應的單體:
095142568-p01.bmp
其中R1=-A-B;其中A=-O-或-NR4-;B=含胺基取代基;及R4=氫或烷基;R2=
095142568-p02.bmp
其中E=-O-或-NR5-;n=3至15;m=0至10;及R5=氫或烷基;R3=R1、R2、-OR6或-NR7R8;其中R6、R7及R8為氫、烷基或芳基,其在每個實例中可經取代或未經取代。
简体摘要：一种聚合物的制备方法,其包括于下式之三化合物存在下,聚合相对应的单体: 095142568-p01.bmp 其中R1=-A-B;其中A=-O-或-NR4-;B=含胺基取代基;及R4=氢或烷基;R2= 095142568-p02.bmp 其中E=-O-或-NR5-;n=3至15;m=0至10;及R5=氢或烷基;R3=R1、R2、-OR6或-NR7R8;其中R6、R7及R8为氢、烷基或芳基,其在每个实例中可经取代或未经取代。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式