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    • 1. 发明专利
    • 潤滑劑組成物及使用該組成物之潤滑系統 LUBRICANT COMPOSITION AND LUBRICATING SYSTEM USING SAME
    • 润滑剂组成物及使用该组成物之润滑系统 LUBRICANT COMPOSITION AND LUBRICATING SYSTEM USING SAME
    • TW200900499A
    • 2009-01-01
    • TW097105296
    • 2008-02-15
    • 日本能源股份有限公司 JAPAN ENERGY CORPORATION
    • 設樂裕治 SHITARA, YUJI開米貴 KAIMAI, TAKASHI
    • C10M
    • 本發明提供一種潤滑劑組成物,係將極少量的油劑塗佈於潤滑滑動部後能在薄膜狀態下顯示高度的耐極壓性及穩定的摩擦特性等優異的潤滑性,在常溫下為半固態狀者,以及將此潤滑劑組成物使用於傳動元件機構之潤滑系統。詳言之,本發明提供一種潤滑劑組成物,其特徵為:含有液狀基油10至99.9質量%、醯胺化合物0.1至90質量%、以及固態潤滑劑1.0至20質量%或0.0005至5質量%之有機鉬化合物作為鉬(Mo)量,且在常溫下為半固態狀者,本發明又提供一種潤滑系統,其特徵為:將該潤滑劑組成物採用於含有軸承、齒輪、傳動螺桿、直接驅動台、凸輪、皮帶、鏈條、以及鋼索等之傳動元件機構者。
    • 本发明提供一种润滑剂组成物,系将极少量的油剂涂布于润滑滑动部后能在薄膜状态下显示高度的耐极压性及稳定的摩擦特性等优异的润滑性,在常温下为半固态状者,以及将此润滑剂组成物使用于传动组件机构之润滑系统。详言之,本发明提供一种润滑剂组成物,其特征为:含有液状基油10至99.9质量%、酰胺化合物0.1至90质量%、以及固态润滑剂1.0至20质量%或0.0005至5质量%之有机钼化合物作为钼(Mo)量,且在常温下为半固态状者,本发明又提供一种润滑系统,其特征为:将该润滑剂组成物采用于含有轴承、齿轮、传动螺杆、直接驱动台、凸轮、皮带、链条、以及钢索等之传动组件机构者。
    • 3. 发明专利
    • 氫化精製裝置及精製方法 AN APPARATUS AND PROCESS FOR HYDROGENATING PURIFICATION
    • 氢化精制设备及精制方法 AN APPARATUS AND PROCESS FOR HYDROGENATING PURIFICATION
    • TWI230731B
    • 2005-04-11
    • TW089100514
    • 2000-01-14
    • 日本能源股份有限公司 JAPAN ENERGY CORPORATION
    • 小山博紀 HIROKI KOYAMA高橋優一 YUICHI TAKAHASHI
    • C10G
    • C10G49/002C10G65/04
    • 本發明提供一種使含有含硫化合物之烴原料油氫化精製之裝置。該裝置具備:第1觸媒層及第2觸媒層;為分離氣體成份與液體成份用之上部空間;下部空間;以及劃分上部空間與下部空間用之閥托盤。從配置在下部空間之氫氣噴嘴放出之氫氣通過滯留在閥托盤上之液體成份時進行液體成份的汽提。從氫氣噴嘴40放出之氫氣再與經汽提之液體成份按並流方式導入第2觸媒層。藉由汽提可使烴原料油較以往的方法為低硫化、低氮化、低芳香族化。因本發明係簡單構造的氫化精製裝置,故可容易改造既有的裝置以製造之。
    • 本发明提供一种使含有含硫化合物之烃原料油氢化精制之设备。该设备具备:第1触媒层及第2触媒层;为分离气体成份与液体成份用之上部空间;下部空间;以及划分上部空间与下部空间用之阀托盘。从配置在下部空间之氢气喷嘴放出之氢气通过滞留在阀托盘上之液体成份时进行液体成份的汽提。从氢气喷嘴40放出之氢气再与经汽提之液体成份按并流方式导入第2触媒层。借由汽提可使烃原料油较以往的方法为低硫化、低氮化、低芳香族化。因本发明系简单构造的氢化精制设备,故可容易改造既有的设备以制造之。
    • 5. 发明专利
    • 清潔劑組成物及清潔方法 CLEANING AGENT COMPOSITION AND CLEANING METHOD
    • 清洁剂组成物及清洁方法 CLEANING AGENT COMPOSITION AND CLEANING METHOD
    • TW200634146A
    • 2006-10-01
    • TW095106542
    • 2006-02-27
    • 日本能源股份有限公司 JAPAN ENERGY CORPORATION
    • 青柳功 AOYAGI, KO松下景太 MATSUSHITA, KEITA岡田知巳 OKADA, TOMOMI
    • C11DB08B
    • 本發明提供一種清潔劑組成物(cleaning agent composition)及用於去除助熔劑、蠟、機械油等的清潔方法,尤其附著於電氣與電子元件、光學元件、汽車零件、精密儀器零件與其它此類零件之此等物質的複合髒污。一種清潔劑組成物,其含有20至60重量%之沸點為200至350℃的飽和烴,與40至80重量%的醋酸酯。較佳地,該飽和烴的碳數為12至19,該醋酸酯為醋酸3–甲基–3–甲氧基丁酯,且該清潔劑組成物的閃點(flash point)至少為70℃。此外,藉由包含使用該清潔劑組成物浸潤清潔待清潔之物件及在氫氟碳化物或氫氟醚中浸潤沖洗之方法,可充分去除各種髒污。
    • 本发明提供一种清洁剂组成物(cleaning agent composition)及用于去除助熔剂、蜡、机械油等的清洁方法,尤其附着于电气与电子组件、光学组件、汽车零件、精密仪器零件与其它此类零件之此等物质的复合脏污。一种清洁剂组成物,其含有20至60重量%之沸点为200至350℃的饱和烃,与40至80重量%的醋酸酯。较佳地,该饱和烃的碳数为12至19,该醋酸酯为醋酸3–甲基–3–甲氧基丁酯,且该清洁剂组成物的闪点(flash point)至少为70℃。此外,借由包含使用该清洁剂组成物浸润清洁待清洁之对象及在氢氟碳化物或氢氟醚中浸润冲洗之方法,可充分去除各种脏污。