专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200634146A 清潔劑組成物及清潔方法 CLEANING AGENT COMPOSITION AND CLEANING METHOD 审中-公开
简体标题：清洁剂组成物及清洁方法 CLEANING AGENT COMPOSITION AND CLEANING METHOD
公开(公告)号：TW200634146A
公开(公告)日：2006-10-01
申请号：TW095106542
申请日：2006-02-27
申请人：日本能源股份有限公司 JAPAN ENERGY CORPORATION
发明人：青柳功 AOYAGI, KO , 松下景太 MATSUSHITA, KEITA , 岡田知巳 OKADA, TOMOMI
IPC分类号： C11D , B08B
摘要：本發明提供一種清潔劑組成物(cleaning agent composition)及用於去除助熔劑、蠟、機械油等的清潔方法，尤其附著於電氣與電子元件、光學元件、汽車零件、精密儀器零件與其它此類零件之此等物質的複合髒污。一種清潔劑組成物，其含有20至60重量％之沸點為200至350℃的飽和烴，與40至80重量％的醋酸酯。較佳地，該飽和烴的碳數為12至19，該醋酸酯為醋酸3–甲基–3–甲氧基丁酯，且該清潔劑組成物的閃點(flash point)至少為70℃。此外，藉由包含使用該清潔劑組成物浸潤清潔待清潔之物件及在氫氟碳化物或氫氟醚中浸潤沖洗之方法，可充分去除各種髒污。
简体摘要：本发明提供一种清洁剂组成物(cleaning agent composition)及用于去除助熔剂、蜡、机械油等的清洁方法，尤其附着于电气与电子组件、光学组件、汽车零件、精密仪器零件与其它此类零件之此等物质的复合脏污。一种清洁剂组成物，其含有20至60重量％之沸点为200至350℃的饱和烃，与40至80重量％的醋酸酯。较佳地，该饱和烃的碳数为12至19，该醋酸酯为醋酸3–甲基–3–甲氧基丁酯，且该清洁剂组成物的闪点(flash point)至少为70℃。此外，借由包含使用该清洁剂组成物浸润清洁待清洁之对象及在氢氟碳化物或氢氟醚中浸润冲洗之方法，可充分去除各种脏污。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式