专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI300065B 光學增亮劑之改良 IMPROVEMENTS RELATING TO OPTICAL BRIGHTENERS 有权
简体标题：光学增亮剂之改良 IMPROVEMENTS RELATING TO OPTICAL BRIGHTENERS
公开(公告)号：TWI300065B
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：TW091125387
申请日：2002-10-25
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：安德烈C. 傑克遜 ANDREW C. JACKSON
IPC分类号： C07D , D21H
CPC分类号： C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1022 , C09K2211/1059 , D06L4/621 , D21H21/30 , Y10S8/921 , Y10S8/924 , Y10S8/926 , Y10T442/2582
摘要：本發明關係式(I)化合物之用途

其中所有取代基定義如申請專利範圍而作為光學增亮劑
,並關係新穎之光學增亮劑混合物。
简体摘要：本发明关系式(I)化合物之用途其中所有取代基定义如申请专利范围而作为光学增亮剂 ,并关系新颖之光学增亮剂混合物。

2. 发明专利

TWI297031B 含有聚矽氮烷被覆膜之親水性促進劑及親水性維持劑 AGENT FOR PROMTING HYDROPHILICITY OF POLYSILAZANE-CONTAINING COATING FILM AND AGENT FOR MAINTAINING HYDROPHILICITY OF THE COATING FILM 有权
简体标题：含有聚硅氮烷被覆膜之亲水性促进剂及亲水性维持剂 AGENT FOR PROMTING HYDROPHILICITY OF POLYSILAZANE-CONTAINING COATING FILM AND AGENT FOR MAINTAINING HYDROPHILICITY OF THE COATING FILM
公开(公告)号：TWI297031B
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：TW092113195
申请日：2003-05-15
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：鈴木直 TADASHI SUZUKI , 原宏 HIROSHI HARA , 舟山徹 OSAMU FUNAYAMA , 竹內秀夫 HIDEO TAKEUCHI
IPC分类号： C09D , B05D , C08L , C09K
CPC分类号： C08J7/047 , C08J7/12 , C08J2383/16 , C08J2483/02
摘要：提供一種含有聚矽氮烷被覆膜之親水性促進劑及親水性維持劑，其係將含有5至25重量%之陰離子性界面活性劑、0.5至20重量%之兩性界面活性劑、4至6重量%之非離子性界面活性劑、及視情況需要的防腐劑，以有機酸予以調整而製做成pH為4.5至7.0的水溶液，此水溶液即為含有聚矽氮烷被覆膜之親水性促進劑及親水性維持劑的原液。將該原液以水稀釋3至15倍做成親水性促進劑，又稀釋30至70倍做成親水性維持劑。在藉由將一種含有聚矽氮烷及視情況需要地使用氧化矽轉化觸媒之塗布液予以塗布在基材上所形成防污塗膜上，塗布將親水性促進劑藉以將該塗膜在短時間內予以親水化。又且，親水性維持劑係可用以除去附著在前述塗膜上之污染物，以維持膜之親水性的液體。
简体摘要：提供一种含有聚硅氮烷被覆膜之亲水性促进剂及亲水性维持剂，其系将含有5至25重量%之阴离子性界面活性剂、0.5至20重量%之两性界面活性剂、4至6重量%之非离子性界面活性剂、及视情况需要的防腐剂，以有机酸予以调整而制做成pH为4.5至7.0的水溶液，此水溶液即为含有聚硅氮烷被覆膜之亲水性促进剂及亲水性维持剂的原液。将该原液以水稀释3至15倍做成亲水性促进剂，又稀释30至70倍做成亲水性维持剂。在借由将一种含有聚硅氮烷及视情况需要地使用氧化硅转化触媒之涂布液予以涂布在基材上所形成防污涂膜上，涂布将亲水性促进剂借以将该涂膜在短时间内予以亲水化。又且，亲水性维持剂系可用以除去附着在前述涂膜上之污染物，以维持膜之亲水性的液体。

3. 发明专利

TW200508793A 光阻組成物及去除光阻之有機溶劑 RESIST COMPOSITION AND ORGANIC SOLVENT FOR REMOVING RESIST 审中-公开
简体标题：光阻组成物及去除光阻之有机溶剂 RESIST COMPOSITION AND ORGANIC SOLVENT FOR REMOVING RESIST
公开(公告)号：TW200508793A
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW093110915
申请日：2004-04-20
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：姜德萬 KANG, DOEK-MAN , 吳世泰 OH, SAE-TAE , 權赫重 KWON, HYUK-JOONG , 內藤榮治 NAITO, EIJI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0048
摘要：本發明提供一種包括醇或其衍生物(作為有機溶劑)之光阻組成物。特別地，本發明提供一種包括鹼溶型酚醛清漆樹脂、二氮化奎寧酮感光化合物、與有機溶劑之正型光阻組成物，其中有機溶劑包括醇或其衍生物；及一種包括鹼溶性丙烯酸樹脂或酚醛清漆樹脂、強酸或自由基產生化合物(因以UV射線照射)、交聯劑、與有機溶劑之負型光阻組成物，其中有機溶劑包括醇或其衍生物。本發明亦提供一種去除光阻之有機溶劑，其中有機溶劑包括醇或其衍生物。本發明之光阻組成物係用於形成微米圖樣之微影術，其使用經照射部份與未照射部份(以UV射線照射)間之溶解度差異，而在塗覆薄膜時大為改良膜厚之均勻性。此外，依照本發明之有機溶劑可藉由自裝置去除感光材料，而用以清洗在微電路形成程序期間接觸感光材料之裝置。其亦可去除殘留在其上塗覆感光材料之基材之不欲部份上之感光材料。
简体摘要：本发明提供一种包括醇或其衍生物(作为有机溶剂)之光阻组成物。特别地，本发明提供一种包括碱溶型酚醛清漆树脂、二氮化奎宁酮感光化合物、与有机溶剂之正型光阻组成物，其中有机溶剂包括醇或其衍生物；及一种包括碱溶性丙烯酸树脂或酚醛清漆树脂、强酸或自由基产生化合物(因以UV射线照射)、交联剂、与有机溶剂之负型光阻组成物，其中有机溶剂包括醇或其衍生物。本发明亦提供一种去除光阻之有机溶剂，其中有机溶剂包括醇或其衍生物。本发明之光阻组成物系用于形成微米图样之微影术，其使用经照射部份与未照射部份(以UV射线照射)间之溶解度差异，而在涂覆薄膜时大为改良膜厚之均匀性。此外，依照本发明之有机溶剂可借由自设备去除感光材料，而用以清洗在微电路形成进程期间接触感光材料之设备。其亦可去除残留在其上涂覆感光材料之基材之不欲部份上之感光材料。

4. 发明专利

TW200504878A 含磷矽氮烷組成物、含磷矽石質膜、含磷矽石質填充材料、含磷矽石質膜之製法及半導體裝置 A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILAZANE COMPOSITION, A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILICEOUS FILM, A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILICEOUS FILING MATERIAL, A PRODUCTION METHOD OF A SILICEOUS FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
简体标题：含磷硅氮烷组成物、含磷硅石质膜、含磷硅石质填充材料、含磷硅石质膜之制法及半导体设备 A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILAZANE COMPOSITION, A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILICEOUS FILM, A PHOSPHOROUS-CONTAINING SILICEOUS FILING MATERIAL, A PRODUCTION METHOD OF A SILICEOUS FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE
公开(公告)号：TW200504878A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093118298
申请日：2004-06-24
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：青木倫子 AOKI, TOMOKO , 青木宏幸 AOKI, HIROYUKI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/76837 , C08K5/49 , C08L83/16 , C09D183/16 , H01L21/314
摘要：【課題】提供一種比介電常數為3.5以下之含磷矽石質材料。【解決手段】依照本發明之含磷矽氮烷組成物，其特徵在於：在有機溶劑中含有聚烷基矽氮烷、及至少一種1種之磷化合物。將該組成物塗布於基板上所得到的膜，以50～300℃之溫度預先燒成，接著再藉由在溫度為300～700℃之惰性氛圍氣中予以燒成，進而得到含磷矽石質膜。依照本發明之磷化合物，理想上是一種5價之磷酸酯或磷肌酸化合物。
简体摘要：【课题】提供一种比介电常数为3.5以下之含磷硅石质材料。【解决手段】依照本发明之含磷硅氮烷组成物，其特征在于：在有机溶剂中含有聚烷基硅氮烷、及至少一种1种之磷化合物。将该组成物涂布于基板上所得到的膜，以50～300℃之温度预先烧成，接着再借由在温度为300～700℃之惰性氛围气中予以烧成，进而得到含磷硅石质膜。依照本发明之磷化合物，理想上是一种5价之磷酸酯或磷肌酸化合物。

5. 发明专利

TW200427802A 供清漆和透明漆穩定用之可安定貯存的高濃度水性分散劑 HIGH-CONCENTRATED STORAGE-STABLE AQUEOUS DISPERSIONS OF A LIGHT-PROTECTION MEDIUM OR A MIXTURE OF A LIGHT-PROTECTION MEDIUM AND AN ANTIOXIDANT 审中-公开
简体标题：供清漆和透明漆稳定用之可安定贮存的高浓度水性分散剂 HIGH-CONCENTRATED STORAGE-STABLE AQUEOUS DISPERSIONS OF A LIGHT-PROTECTION MEDIUM OR A MIXTURE OF A LIGHT-PROTECTION MEDIUM AND AN ANTIOXIDANT
公开(公告)号：TW200427802A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093109417
申请日：2004-04-06
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：比吉多德,卡爾 BECHTOLD, KARL
IPC分类号： C09G
CPC分类号： C09D167/08 , C09D7/48 , C09D7/68 , C09D7/69 , C09D167/00 , C09D175/04 , C08L2666/28
摘要：耐光劑或其與抗氧化劑之混合物之一種高濃度、貯存安定之水性分散液，具有多於47重量％之活性物質含量，且含有至少一種作為分散劑用之非離子性濕著劑和作為溶解助劑用之聚二醇，以及0.2至5重量％之作為流動改良劑用之油酸。其他組成可為陰離子濕著劑和生物殺劑。本發明之分散液可簡易地加入至清漆料中，例如可加入至水性分散液、水性乳液或一種以可交聯之酸醇樹脂、丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、或氨基甲酸酯樹脂等為主之膠合劑之水性溶液中。
简体摘要：耐光剂或其与抗氧化剂之混合物之一种高浓度、贮存安定之水性分散液，具有多于47重量％之活性物质含量，且含有至少一种作为分散剂用之非离子性湿着剂和作为溶解助剂用之聚二醇，以及0.2至5重量％之作为流动改良剂用之油酸。其他组成可为阴离子湿着剂和生物杀剂。本发明之分散液可简易地加入至清漆料中，例如可加入至水性分散液、水性乳液或一种以可交联之酸醇树脂、丙烯酸树脂、聚酯树脂、或氨基甲酸酯树脂等为主之胶合剂之水性溶液中。

6. 发明专利

TW200427752A 聚合物材料之安定化用HALS衍生物與含磷有機酸之鹽狀反應產物 SALT-LIKE REACTION PRODUCTS OF HALS DERIVATIVES AND PHOSPHOR-CONTAINING ORGANIC ACIDS FOR THE STABILISATION OF POLYMERIC MATERIALS 审中-公开
简体标题：聚合物材料之安定化用HALS衍生物与含磷有机酸之盐状反应产物 SALT-LIKE REACTION PRODUCTS OF HALS DERIVATIVES AND PHOSPHOR-CONTAINING ORGANIC ACIDS FOR THE STABILISATION OF POLYMERIC MATERIALS
公开(公告)号：TW200427752A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093104031
申请日：2004-02-19
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：彼得史坦尼克 STANIEK, PETER
IPC分类号： C08K
CPC分类号： C08K5/3435 , C08K5/09 , C08K5/353
摘要：本發明係關於一種鹽狀反應產物及預製化合物之混合物，其包括含一或多種式(Ia)至(Ic)之組成，093104031-p01.bmp之反應產物(Ic)及含一或多種式(II)之有機磷酸、或其衍生物，093104031-p02.bmp其中符號具有本申請案之申請專利範圍第1項之意義。本發明進一步關於一種製備鹽狀反應產物及預製混合物之方法。此鹽狀反應產物及預製混合物可用於聚合物之安定化，特別是如聚醯胺與聚酯之極性聚合物，及用於這些聚合物之處理性質、熱安定力、顏色、光澤、表面、及機械性質之改良。
简体摘要：本发明系关于一种盐状反应产物及预制化合物之混合物，其包括含一或多种式(Ia)至(Ic)之组成，093104031-p01.bmp之反应产物(Ic)及含一或多种式(II)之有机磷酸、或其衍生物，093104031-p02.bmp其中符号具有本申请案之申请专利范围第1项之意义。本发明进一步关于一种制备盐状反应产物及预制混合物之方法。此盐状反应产物及预制混合物可用于聚合物之安定化，特别是如聚酰胺与聚酯之极性聚合物，及用于这些聚合物之处理性质、热安定力、颜色、光泽、表面、及机械性质之改良。

7. 发明专利

TWI225085B 被覆組成物 COATING COMPOSITION 失效
简体标题：被覆组成物 COATING COMPOSITION
公开(公告)号：TWI225085B
公开(公告)日：2004-12-11
申请号：TW088110313
申请日：1999-06-21
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：原田隆正 HARADA, TAKAMASA , 本勝幸 , 工藤隆範
IPC分类号： C09D , G02B
CPC分类号： G02B1/14 , C08G18/8061 , C08L63/00 , C09D133/064 , C09D163/00 , G02B1/105 , C08L2666/02 , C08L2666/04 , C08L2666/14 , C08L2666/28
摘要：課題：提供保存安定性優良，且可獲致優良保護膜之被覆組成物。
解決手段：由至少一種含羧基的聚合物，含一個以上之苯環或雜環且含2個以上之環氧基之多官能性環氧基化合物，反應促進劑和溶劑所構成之被覆組成物，其保存安定性優良，並可獲致優良的保護膜。
简体摘要：课题：提供保存安定性优良，且可获致优良保护膜之被覆组成物。解决手段：由至少一种含羧基的聚合物，含一个以上之苯环或杂环且含2个以上之环氧基之多官能性环氧基化合物，反应促进剂和溶剂所构成之被覆组成物，其保存安定性优良，并可获致优良的保护膜。

8. 发明专利

TWI224714B 正型感光性樹脂組成物 POSITIVE-WORKING RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITIONS 有权
简体标题：正型感光性树脂组成物 POSITIVE-WORKING RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
公开(公告)号：TWI224714B
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：TW088121308
申请日：1999-12-06
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：薄田謙二 , 西川雅人 NISHIKAWA, MASATO , 荒野明男
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0236
摘要：一種感光性樹脂組成物，其特徵為，含有由(i)低分子量成份分餾處理除去之鹼溶性酚醛樹脂與鄰二疊氮基化合物之反應生成物，或鹼溶性酚醛樹脂與鄰二疊氮基化合物之反應生成物經分餾處理除去低分子量成份所得分餾處理物構成之感光性酚醛樹脂，和(ii)下列通式(1)所示具有酚性羥基的低分子化合物，式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7分別單獨為 H、C1～C4烷基、C1～C4烷氧基、環己基、或式：所示之基，R8為H，C1～C4烷基、C1～C4烷氧基、或環己基，m和n分別0、1或2，a、b、c、d、e、 f、g、h為0或1～5之整數，惟a+b≦5，c+d≦5，e+f≦5，g+h≦5，i為0，1或2。
简体摘要：一种感光性树脂组成物，其特征为，含有由(i)低分子量成份分馏处理除去之碱溶性酚醛树脂与邻二叠氮基化合物之反应生成物，或碱溶性酚醛树脂与邻二叠氮基化合物之反应生成物经分馏处理除去低分子量成份所得分馏处理物构成之感光性酚醛树脂，和(ii)下列通式(1)所示具有酚性羟基的低分子化合物，式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7分别单独为 H、C1～C4烷基、C1～C4烷氧基、环己基、或式：所示之基，R8为H，C1～C4烷基、C1～C4烷氧基、或环己基，m和n分别0、1或2，a、b、c、d、e、 f、g、h为0或1～5之整数，惟a+b≦5，c+d≦5，e+f≦5，g+h≦5，i为0，1或2。

9. 发明专利

TW200415443A 化學增幅正型感光性樹脂組成物 CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE POSITIVE-WORKING RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION SUITABLE FOR FORMING FILM WITH ULTRA-THICK THICKNESS 审中-公开
简体标题：化学增幅正型感光性树脂组成物 CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE POSITIVE-WORKING RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION SUITABLE FOR FORMING FILM WITH ULTRA-THICK THICKNESS
公开(公告)号：TW200415443A
公开(公告)日：2004-08-16
申请号：TW092129081
申请日：2003-10-21
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：西良典 NISHIWAKI, YOSHINORI , 牧井利道 MAKII, TOSHIMICHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要：一種對應於厚膜和超厚膜的化學增幅正型感光性樹脂組成物，其適用於形成厚膜光阻圖案，如磁頭之磁極或凸塊的形成等。本發明之正型感光性樹脂組成物，包含(A)鹼可溶性酚醛清漆樹脂、(B)鹼可溶性丙烯酸系樹脂、(C)縮醛化合物、及(D)酸發生劑。該縮醛化合物具有以下述通式(I)所示構成單位(其中，R表示碳數1～20之飽和烷基，n表示1～10之整數)作為重複單位之聚縮合物較佳。092129081p01.bmp
简体摘要：一种对应于厚膜和超厚膜的化学增幅正型感光性树脂组成物，其适用于形成厚膜光阻图案，如磁头之磁极或凸块的形成等。本发明之正型感光性树脂组成物，包含(A)碱可溶性酚醛清漆树脂、(B)碱可溶性丙烯酸系树脂、(C)缩醛化合物、及(D)酸发生剂。该缩醛化合物具有以下述通式(I)所示构成单位(其中，R表示碳数1～20之饱和烷基，n表示1～10之整数)作为重复单位之聚缩合物较佳。092129081p01.bmp

10. 发明专利

TW589371B 彩色蠟品有权
简体标题：彩色蜡品
公开(公告)号：TW589371B
公开(公告)日：2004-06-01
申请号：TW088117409
申请日：1999-10-08
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：史帝夫羅素 RUSSELL, STEPHEN E. , 約瑟夫韋伯斯特 WEBSTER, JOSEPH R.
IPC分类号： C11C , C08K , C08L
CPC分类号： C11C5/002 , C08K5/0041 , C08K5/11 , C08L91/06 , C08L91/08 , C09D191/06 , C09D191/08
摘要：所揭示者為改良之固體有色蠟基物件，具有比較長的顏色存置期限。本發明含有一種天然及/或合成的蠟，一種色料，和一種有效用量之式(1)具有說明文中所界定各符號。
物件之較佳具體例含有式(1)化合物，用習用之UV光譜儀，在甲醇、甲苯或三氯甲烷中，於小於或等於400奈米波長量測所得UV吸收率，大於或小於70公升每克-厘米。
物件之用途包括蠟燭、蠟筆、肥料被覆物、接線盒塗層、植物接枝、密封劑、橡膠和塑膠製品之日光曬裂保護物、紙塗層、包裝食品產物、電絕緣、防水、和精密蠟模鑄造等。
简体摘要：所揭示者为改良之固体有色蜡基对象，具有比较长的颜色存置期限。本发明含有一种天然及/或合成的蜡，一种色料，和一种有效用量之式(1)具有说明文中所界定各符号。对象之较佳具体例含有式(1)化合物，用习用之UV光谱仪，在甲醇、甲苯或三氯甲烷中，于小于或等于400奈米波长量测所得UV吸收率，大于或小于70公升每克-厘米。对象之用途包括蜡烛、蜡笔、肥料被覆物、接线盒涂层、植物接枝、密封剂、橡胶和塑胶制品之日光晒裂保护物、纸涂层、包装食品产物、电绝缘、防水、和精密蜡模铸造等。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式