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1. 发明专利

TW201907183A 抗反射構件审中-公开
简体标题：抗反射构件
公开(公告)号：TW201907183A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107117444
申请日：2018-05-21
申请人：日商JXTG能源股份有限公司 , JXTG NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：高野香織 , TAKANO, KAORI , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO , 關隆史 , SEKI, TAKASHI , 後藤正直 , GOTO, MASANAO
IPC分类号： G02B1/118
摘要：本發明之抗反射構件100具有由凸部60及凹部70劃分之凹凸表面80，且上述凹凸表面80之觀察圖像之傅立葉變換圖像，呈現以波數之絕對值為0μm-1之原點作為大致中心之圓形或圓環狀之花樣，上述凸部60及上述凹部70於俯視下沿無規之方向延伸，於以與上述凸部60之延伸方向垂直之面切斷所得之上述凸部60的剖面中，上述凸部60之寬度自上述凸部60之底部70b朝向頂部60t變小，距上述底部70b為0.95D(D為上述凸部之高度)之高度上之上述凸部60之寬度W1與距上述底部70b為0.05D之高度上之上述凸部60的寬度W2滿足0.04P
简体摘要：本发明之抗反射构件100具有由凸部60及凹部70划分之凹凸表面80，且上述凹凸表面80之观察图像之傅里叶变换图像，呈现以波数之绝对值为0μm-1之原点作为大致中心之圆形或圆环状之花样，上述凸部60及上述凹部70于俯视下沿无规之方向延伸，于以与上述凸部60之延伸方向垂直之面切断所得之上述凸部60的剖面中，上述凸部60之宽度自上述凸部60之底部70b朝向顶部60t变小，距上述底部70b为0.95D(D为上述凸部之高度)之高度上之上述凸部60之宽度W1与距上述底部70b为0.05D之高度上之上述凸部60的宽度W2满足0.04P

2. 发明专利

TW201835648A 光學相位差構件、偏光變換元件、模板及光學相位差構件的製造方法审中-公开
简体标题：光学相位差构件、偏光变换组件、模板及光学相位差构件的制造方法
公开(公告)号：TW201835648A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107105987
申请日：2018-02-22
申请人：日商JXTG能源股份有限公司 , JXTG NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：須崎吾郎 , SUZAKI, GOROU , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO , 後藤正直 , GOTO, MASANAO , 立花真林 , TACHIBANA, MAKI
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1335 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種低成本的光學相位差構件，其可容易地製造偏光變換元件。本發明的光學相位差構件10A包括：相位差部7A，其藉由在一方向上延伸存在的多個凸部以及鄰接的該凸部之間的凹部週期性地排列的凹凸結構來產生相位差；以及非相位差部9A，其不產生相位差；並且上述相位差部7A與上述非相位差部9A在同一面上交替配置。
简体摘要：本发明提供一种低成本的光学相位差构件，其可容易地制造偏光变换组件。本发明的光学相位差构件10A包括：相位差部7A，其借由在一方向上延伸存在的多个凸部以及邻接的该凸部之间的凹部周期性地排列的凹凸结构来产生相位差；以及非相位差部9A，其不产生相位差；并且上述相位差部7A与上述非相位差部9A在同一面上交替配置。

3. 发明专利

TW201804239A 光學相位差構件及投影機审中-公开
简体标题：光学相位差构件及投影机
公开(公告)号：TW201804239A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106111875
申请日：2017-04-10
申请人： JXTG能源股份有限公司 , JXTG NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：後藤正直 , GOTO, MASANAO , 須崎吾郎 , SUZAKI, GOROU , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO
IPC分类号： G03B21/00 , G02B27/18
摘要：光學相位差構件100具備：透明基體40：具有由多個凸部60構成之凹凸圖案80，該等凸部60沿一方向延伸並且與延伸方向垂直之面的剖面略呈梯形；高折射率層30：形成於透明基體40之凸部60之上表面60t及側面60s，且具有高於凸部60之折射率；及積層體20：形成於凸部60之上表面60t之高折射率層30上。相鄰之凸部60之對向之側面60s上的高折射率層30之間存在空氣層90。積層體20具備形成於高折射率層30上之第1層22、形成於第2k-1層(k為1~n之整數)上之第2k層及形成於第2k層上之第2k+1層，第1層22之折射率低於高折射率層30之折射率、上述第2k+1層之折射率低於第2k層之折射率。光學相位差構件100於寬波長範圍顯示高穿透率。
简体摘要：光学相位差构件100具备：透明基体40：具有由多个凸部60构成之凹凸图案80，该等凸部60沿一方向延伸并且与延伸方向垂直之面的剖面略呈梯形；高折射率层30：形成于透明基体40之凸部60之上表面60t及侧面60s，且具有高于凸部60之折射率；及积层体20：形成于凸部60之上表面60t之高折射率层30上。相邻之凸部60之对向之侧面60s上的高折射率层30之间存在空气层90。积层体20具备形成于高折射率层30上之第1层22、形成于第2k-1层(k为1~n之整数)上之第2k层及形成于第2k层上之第2k+1层，第1层22之折射率低于高折射率层30之折射率、上述第2k+1层之折射率低于第2k层之折射率。光学相位差构件100于宽波长范围显示高穿透率。

4. 发明专利

TW201837552A 光學相位差構件及光學相位差構件的製造方法审中-公开
简体标题：光学相位差构件及光学相位差构件的制造方法
公开(公告)号：TW201837552A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW106139724
申请日：2017-11-16
申请人：日商JXTG能源股份有限公司 , JXTG NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：田中大直 , TANAKA, HIRONAO , 須崎吾郎 , SUZAKI, GOROU , 後藤正直 , GOTO, MASANAO
IPC分类号： G02F1/01 , G02B5/126
摘要：提供一種具有高透射率、可產生所期望之相位差且機械強度及耐濕性高之光學相位差構件。本發明之光學相位差構件10A具備：基材40：具有第1面41及位於該第1面41相反側的第2面42，第1凹凸結構體50，形成於上述第1面41上，由第1無機材料構成，及第2凹凸結構體52：形成於上述第2面42上，由第2無機材料構成；上述第1凹凸結構體50具備多個凸部60，該等多個凸部60係於與上述第1面41平行之第1方向上延伸，並且寬度朝向自上述基材40之上述第1面41遠離的方向變小，上述第2凹凸結構體52具備多個凸部62，該等多個凸部62係於上述第1方向上延伸，並且寬度朝向自上述基材40之上述第2面42遠離的方向變小。
简体摘要：提供一种具有高透射率、可产生所期望之相位差且机械强度及耐湿性高之光学相位差构件。本发明之光学相位差构件10A具备：基材40：具有第1面41及位于该第1面41相反侧的第2面42，第1凹凸结构体50，形成于上述第1面41上，由第1无机材料构成，及第2凹凸结构体52：形成于上述第2面42上，由第2无机材料构成；上述第1凹凸结构体50具备多个凸部60，该等多个凸部60系于与上述第1面41平行之第1方向上延伸，并且宽度朝向自上述基材40之上述第1面41远离的方向变小，上述第2凹凸结构体52具备多个凸部62，该等多个凸部62系于上述第1方向上延伸，并且宽度朝向自上述基材40之上述第2面42远离的方向变小。

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