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1. 发明专利

TWI394000B 感放射線性樹脂組成物、感放射線性乾膜、層間絕緣膜與其形成方法、及微透鏡與其形成方法有权
简体标题：感放射线性树脂组成物、感放射线性干膜、层间绝缘膜与其形成方法、及微透镜与其形成方法
公开(公告)号：TWI394000B
公开(公告)日：2013-04-21
申请号：TW095101672
申请日：2006-01-17
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：花村政曉 , HANAMURA, MASAAKI , 濱田謙一 , HAMADA, KENICHI , 高本英司 , TAKAMOTO, EIJI , 蓑輪貴樹 , MINOWA, TAKAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C08L63/00 , C08G59/40 , H01L21/31 , G02B1/04

2. 发明专利

TWI338190B 敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡有权
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜
公开(公告)号：TWI338190B
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW093132623
申请日：2004-10-27
申请人： JSR股份有限公司
发明人：佐野公康 , 西川通則 , 蓑輪貴樹 , 高本英司
IPC分类号： G03F
摘要：本發明係提供，對活體無安全顧慮，在大型基板具有良好塗布性，在高感度，具有充分顯影界限，具有高耐溶劑性，高耐熱性及高光透過率，尤其是對層間絕緣膜及微透鏡之形成為有用之敏輻射線性樹脂組成物，該組成物所形成層間絕緣膜及微透鏡與該等形成方法。
敏輻射線性樹脂組成物係含有，(A)鹼可溶性樹脂，(B)敏輻射線性酸產生劑及(C)1-甲氧基-2-(2-甲氧丙氧)丙烷、丙酸1-甲基-2-甲氧乙酯、乙酸2-正丙氧丙酯等所代表之有機溶劑。
層間絕緣膜及微透鏡之形成方法係，至少含有，(1)使前述組成物之塗膜在基板上形成之步驟，(ii)輻射線之曝光步驟，(iii)顯影處理步驟及(iv)加熱處理步驟。
简体摘要：本发明系提供，对活体无安全顾虑，在大型基板具有良好涂布性，在高感度，具有充分显影界限，具有高耐溶剂性，高耐热性及高光透过率，尤其是对层间绝缘膜及微透镜之形成为有用之敏辐射线性树脂组成物，该组成物所形成层间绝缘膜及微透镜与该等形成方法。敏辐射线性树脂组成物系含有，(A)碱可溶性树脂，(B)敏辐射线性酸产生剂及(C)1-甲氧基-2-(2-甲氧丙氧)丙烷、丙酸1-甲基-2-甲氧乙酯、乙酸2-正丙氧丙酯等所代表之有机溶剂。层间绝缘膜及微透镜之形成方法系，至少含有，(1)使前述组成物之涂膜在基板上形成之步骤，(ii)辐射线之曝光步骤，(iii)显影处理步骤及(iv)加热处理步骤。

3. 发明专利

TWI326799B 敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡、以及此等之製造方法有权
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜、以及此等之制造方法
公开(公告)号：TWI326799B
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：TW093122996
申请日：2004-07-30
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村秀樹 , 蓑輪貴樹 , 漆原英一郎 , 高本英司 , 西川通則
IPC分类号： G03F , G02B
摘要：一種敏輻射線性樹脂組成物，其特徵為含有，[A]:(a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐，(a2)含環氧基不飽和化合物，(a3)含羥基或羧基之順丁烯二醯亞胺系單體，及(a4)由(a1)，(a2)及(a3)以外之不飽和化合物之共聚物，以及[B]:1,2-苯醌二疊氮化合物。使用該等所形成之層間絶緣膜及微透鏡。此敏輻射線性樹脂組成物，具有高度敏輻射線感度，在顯影步驟中即使超過最適顯影時間亦具有可形成良好的圖型形狀之顯影界限，而可容易形成密接性優異之圖型狀薄膜。
简体摘要：一种敏辐射线性树脂组成物，其特征为含有，[A]:(a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐，(a2)含环氧基不饱和化合物，(a3)含羟基或羧基之顺丁烯二酰亚胺系单体，及(a4)由(a1)，(a2)及(a3)以外之不饱和化合物之共聚物，以及[B]:1,2-苯醌二叠氮化合物。使用该等所形成之层间绝缘膜及微透镜。此敏辐射线性树脂组成物，具有高度敏辐射线感度，在显影步骤中即使超过最适显影时间亦具有可形成良好的图型形状之显影界限，而可容易形成密接性优异之图型状薄膜。

4. 发明专利

TWI318329B 敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡、以及此等之製造方法有权
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜、以及此等之制造方法
公开(公告)号：TWI318329B
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：TW093122766
申请日：2004-07-29
申请人： JSR股份有限公司
发明人：西村秀樹 , 蓑輪貴樹 , 高本英司 , 佐野公康 , 西川通則
IPC分类号： G03F
摘要：本發明係揭示含有
[A](a1)不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、(a2)具有下列式
所示脂環式環氧骨架之不飽和化合物與(a3)(a1)及(a2)以外之不飽和化合物的共聚物，
[B]1,2-萘醌二疊氮磺酸酯
之敏輻射線性樹脂組成物，以及由其製成之層間絕緣膜與微透鏡。該敏輻射線性樹脂組成物具有高輻射線敏感度，及既使顯像步驟超過最佳顯像時間仍能形成良好圖型之顯像裕度，故易形成密合性優良之圖型狀薄膜。
简体摘要：本发明系揭示含有 [A](a1)不饱和羧酸及/或不饱和羧酸酐、(a2)具有下列式所示脂环式环氧骨架之不饱和化合物与(a3)(a1)及(a2)以外之不饱和化合物的共聚物， [B]1,2-萘醌二叠氮磺酸酯之敏辐射线性树脂组成物，以及由其制成之层间绝缘膜与微透镜。该敏辐射线性树脂组成物具有高辐射线敏感度，及既使显像步骤超过最佳显像时间仍能形成良好图型之显像裕度，故易形成密合性优良之图型状薄膜。

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