专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI427116B 硬化性樹脂組成物及防反射膜有权
简体标题：硬化性树脂组成物及防反射膜
公开(公告)号：TWI427116B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW096145158
申请日：2007-11-28
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：宮尾健介 , MIYAO, KENSUKE , 土居本光伸 , DOIMOTO, MITSUNOBU , 川合高弘 , KAWAI, TAKAHIRO , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKARO , 高瀨英明 , TAKASE, HIDEAKI
IPC分类号： C08L57/08 , C08F299/00 , C08L33/04 , C08K3/36 , C08J5/18 , G02B1/11

2. 发明专利

TWI622858B 正型感放射線性樹脂組成物、硬化膜、其形成方法、半導體元件及顯示元件有权
简体标题：正型感放射线性树脂组成物、硬化膜、其形成方法、半导体组件及显示组件
公开(公告)号：TWI622858B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106135411
申请日：2014-01-15
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：三島繪里 , MISHIMA, ERI , 西村幸生 , NISHIMURA, YUKIO , 下川努 , SHIMOKAWA, TSUTOMU , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30

3. 发明专利

TWI572627B 感放射線性組成物、顯示元件用層間絕緣膜以及其形成方法有权
简体标题：感放射线性组成物、显示组件用层间绝缘膜以及其形成方法
公开(公告)号：TWI572627B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW102114502
申请日：2013-04-24
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO , 松村信司 , MATSUMURA, NOBUJI , 高瀬英明 , TAKASE, HIDEAKI
IPC分类号： C08F220/18 , G03F7/039 , G02F1/133 , H01L21/027

4. 发明专利

TW201433883A 硬化膜形成用熱硬化性樹脂組成物、負型感放射線性樹脂組成物、正型感放射線性樹脂組成物、硬化膜、其形成方法、半導體元件及顯示元件审中-公开
简体标题：硬化膜形成用热硬化性树脂组成物、负型感放射线性树脂组成物、正型感放射线性树脂组成物、硬化膜、其形成方法、半导体组件及显示组件
公开(公告)号：TW201433883A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW103101355
申请日：2014-01-15
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：三島繪里 , MISHIMA, ERI , 西村幸生 , NISHIMURA, YUKIO , 下川努 , SHIMOKAWA, TSUTOMU , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30
摘要：本發明之目的係提供一種可形成具有優異的表面硬度並且可充分滿足靈敏度、顯影接著性、耐化學性、耐熱性、透射率以及相對介電常數等之一般特性的硬化膜，且保存穩定性優異的硬化膜形成用熱硬化性樹脂組成物、負型感放射線性樹脂組成物、正型感放射線性樹脂組成物。本發明係一種硬化膜形成用熱硬化性樹脂組成物，其含有[A1]具有結構單元(I)和結構單元(II-1)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-1)包含交聯性基團(a1)。又，本發明係一種負型感放射線性樹脂組成物，其含有：[A2]具有結構單元(I)和結構單元(II-2)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-2)包含交聯性基團(a2)；[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物；以及[C]感放射線性聚合起始劑。再者，本發明係一種正型感放射線性樹脂組成物，其含有：[A3]具有結構單元(I)和結構單元(II-3)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及由下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-3)包含環狀醚結構或環狀碳酸酯結構；以及[G]酸產生體。式(1)中，R1及R2為氫原子、碳原子數1~4的烷基或碳原子數1~4的氟烷基。式(2)中，R3及R4為氫原子、鹵素原子、碳原子數1~4的烷基或碳原子數1~4的氟烷基。上述交聯性基團(a1)較佳為選自包含環氧乙烷基以及氧雜環丁基(oxetanyl group)之群組中的至少一種。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可形成具有优异的表面硬度并且可充分满足灵敏度、显影接着性、耐化学性、耐热性、透射率以及相对介电常数等之一般特性的硬化膜，且保存稳定性优异的硬化膜形成用热硬化性树脂组成物、负型感放射线性树脂组成物、正型感放射线性树脂组成物。本发明系一种硬化膜形成用热硬化性树脂组成物，其含有[A1]具有结构单元(I)和结构单元(II-1)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-1)包含交联性基团(a1)。又，本发明系一种负型感放射线性树脂组成物，其含有：[A2]具有结构单元(I)和结构单元(II-2)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-2)包含交联性基团(a2)；[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物；以及[C]感放射线性聚合起始剂。再者，本发明系一种正型感放射线性树脂组成物，其含有：[A3]具有结构单元(I)和结构单元(II-3)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及由下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-3)包含环状醚结构或环状碳酸酯结构；以及[G]酸产生体。式(1)中，R1及R2为氢原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。式(2)中，R3及R4为氢原子、卤素原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。上述交联性基团(a1)较佳为选自包含环氧乙烷基以及氧杂环丁基(oxetanyl group)之群组中的至少一种。

5. 发明专利

TWI611266B 負型感放射線性樹脂組成物、硬化膜、其形成方法、半導體元件及顯示元件有权
简体标题：负型感放射线性树脂组成物、硬化膜、其形成方法、半导体组件及显示组件
公开(公告)号：TWI611266B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW103101355
申请日：2014-01-15
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：三島繪里 , MISHIMA, ERI , 西村幸生 , NISHIMURA, YUKIO , 下川努 , SHIMOKAWA, TSUTOMU , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30

6. 发明专利

TWI471376B 硬化性樹脂組成物及防反射膜有权
简体标题：硬化性树脂组成物及防反射膜
公开(公告)号：TWI471376B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW095141531
申请日：2006-11-09
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：宮尾健介 , MIYAO, KENSUKE , 小林薰平 , KOBAYASHI, KUNPEI , 菊池利充 , KIKUCHI, TOSHIMITSU , 土居本光伸 , DOIMOTO, MITSUNOBU , 川合高弘 , KAWAI, TAKAHIRO , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKARO , 高瀨英明 , TAKASE, HIDEAKI
IPC分类号： C08L27/12 , C08L33/00 , G02B1/11

7. 发明专利

TWI402281B 輻射線硬化性樹脂組成物及防反射膜有权
简体标题：辐射线硬化性树脂组成物及防反射膜
公开(公告)号：TWI402281B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW095111808
申请日：2006-04-03
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：山田康晴 , YAMADA, YASUHARU , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKARO , 山村哲也 , YAMAMURA, TETSUYA , 高瀨英明 , TAKASE, HIDEAKI
IPC分类号： C08F290/12 , C09D4/00 , C09D4/02 , C09D5/00 , C09D127/12 , C09D183/07
CPC分类号： G02B1/111 , C08F214/18 , C08F283/12 , C08F290/12 , C08F299/08 , C08L83/04 , C09D133/04 , C09D133/16 , C08L83/00

8. 发明专利

TW201804252A 正型感放射線性樹脂組成物、硬化膜、其形成方法、半導體元件及顯示元件审中-公开
简体标题：正型感放射线性树脂组成物、硬化膜、其形成方法、半导体组件及显示组件
公开(公告)号：TW201804252A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106135411
申请日：2014-01-15
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：三島繪里 , MISHIMA, ERI , 西村幸生 , NISHIMURA, YUKIO , 下川努 , SHIMOKAWA, TSUTOMU , 八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30
摘要：本發明之目的係提供一種可形成具有優異的表面硬度並且可充分滿足靈敏度、顯影接著性、耐化學性、耐熱性、透射率以及相對介電常數等之一般特性的硬化膜，且保存穩定性優異的硬化膜形成用熱硬化性樹脂組成物、負型感放射線性樹脂組成物、正型感放射線性樹脂組成物。本發明係一種硬化膜形成用熱硬化性樹脂組成物，其含有[A1]具有結構單元(I)和結構單元(II-1)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-1)包含交聯性基團(a1)。又，本發明係一種負型感放射線性樹脂組成物，其含有：[A2]具有結構單元(I)和結構單元(II-2)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-2)包含交聯性基團(a2)；[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物；以及[C]感放射線性聚合起始劑。再者，本發明係一種正型感放射線性樹脂組成物，其含有：[A3]具有結構單元(I)和結構單元(II-3)的聚合物，該結構單元(I)包含選自包含下述式(1)所表示的基團以及由下述式(2)所表示的基團之群組中的至少一種，該結構單元(II-3)包含環狀醚結構或環狀碳酸酯結構；以及[G]酸產生體。式(1)中，R1及R2為氫原子、碳原子數1~4的烷基或碳原子數1~4的氟烷基。式(2)中，R3及R4為氫原子、鹵素原子、碳原子數1~4的烷基或碳原子數1~4的氟烷基。上述交聯性基團(a1)較佳為選自包含環氧乙烷基以及氧雜環丁基(oxetanyl group)之群組中的至少一種。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可形成具有优异的表面硬度并且可充分满足灵敏度、显影接着性、耐化学性、耐热性、透射率以及相对介电常数等之一般特性的硬化膜，且保存稳定性优异的硬化膜形成用热硬化性树脂组成物、负型感放射线性树脂组成物、正型感放射线性树脂组成物。本发明系一种硬化膜形成用热硬化性树脂组成物，其含有[A1]具有结构单元(I)和结构单元(II-1)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-1)包含交联性基团(a1)。又，本发明系一种负型感放射线性树脂组成物，其含有：[A2]具有结构单元(I)和结构单元(II-2)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-2)包含交联性基团(a2)；[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物；以及[C]感放射线性聚合起始剂。再者，本发明系一种正型感放射线性树脂组成物，其含有：[A3]具有结构单元(I)和结构单元(II-3)的聚合物，该结构单元(I)包含选自包含下述式(1)所表示的基团以及由下述式(2)所表示的基团之群组中的至少一种，该结构单元(II-3)包含环状醚结构或环状碳酸酯结构；以及[G]酸产生体。式(1)中，R1及R2为氢原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。式(2)中，R3及R4为氢原子、卤素原子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的氟烷基。上述交联性基团(a1)较佳为选自包含环氧乙烷基以及氧杂环丁基(oxetanyl group)之群组中的至少一种。

9. 发明专利

TW201343687A 感放射線性組成物、顯示元件用層間絕緣膜以及其形成方法审中-公开
简体标题：感放射线性组成物、显示组件用层间绝缘膜以及其形成方法
公开(公告)号：TW201343687A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102114502
申请日：2013-04-24
申请人： JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：八代隆郎 , YASHIRO, TAKAO , 松村信司 , MATSUMURA, NOBUJI , 高瀬英明 , TAKASE, HIDEAKI
IPC分类号： C08F220/18 , G03F7/039 , G02F1/133 , H01L21/027
摘要：本發明的目的在於提供一種具有更高的感度且能夠形成表面硬度、耐溶劑性、耐熱性以及電壓保持率優異的顯示元件用層間絕緣膜的感放射線性組成物，使用該感放射線性組成物而形成的顯示元件用層間絕緣膜以及其形成方法。本發明的感放射線性組成物含有：[A]具有含有酸解離性基的結構單元(I)、含有聚合性基的結構單元(II)以及下述式(1)所表示的結構單元(III)的聚合物；以及[B]感放射線性酸產生劑。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种具有更高的感度且能够形成表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率优异的显示组件用层间绝缘膜的感放射线性组成物，使用该感放射线性组成物而形成的显示组件用层间绝缘膜以及其形成方法。本发明的感放射线性组成物含有：[A]具有含有酸解离性基的结构单元(I)、含有聚合性基的结构单元(II)以及下述式(1)所表示的结构单元(III)的聚合物；以及[B]感放射线性酸产生剂。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式