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1. 发明专利

TWI477892B 具有傅立葉濾波及影像比較的光罩檢測有权
简体标题：具有傅里叶滤波及影像比较的光罩检测
公开(公告)号：TWI477892B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW099110625
申请日：2010-04-06
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：尼爾森邁可L , NELSON, MICHAEL L. , 賽威爾哈利 , SEWELL, HARRY , 凱堤艾瑞克布萊恩 , CATEY, ERIC BRIAN
IPC分类号： G03F1/72 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/84

2. 发明专利

TWI434132B 具有高熱傳導性之極紫外線主光罩基板有权
简体标题：具有高热传导性之极紫外线主光罩基板
公开(公告)号：TWI434132B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW098127002
申请日：2009-08-11
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：維克洛羅那德A , WILKLOW, RONALD A , 尼爾森邁可L , NELSON, MICHAEL L. , 裴瑞麥可 , PERRY, MICHAEL
IPC分类号： G03F1/32 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70891

3. 发明专利

TW201013304A 具有高熱傳導性之極紫外線光罩基板 EUV RETICLE SUBSTRATES WITH HIGH THERMAL CONDUCTIVITY 审中-公开
简体标题：具有高热传导性之极紫外线光罩基板 EUV RETICLE SUBSTRATES WITH HIGH THERMAL CONDUCTIVITY
公开(公告)号：TW201013304A
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098127002
申请日：2009-08-11
申请人： ASML控股公司
发明人：維克洛羅那德A , 尼爾森邁可L , 裴瑞麥可
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70891
摘要：本發明揭示一種反射主光罩，其大體上減少或消除由EUV輻射之吸收引起的圖案失真，同時維持符合業界標準之一主光罩厚度。該反射主光罩包括一超低膨脹(ULE)玻璃層及一菫青石基板，該菫青石基板具有大體上大於ULE玻璃之熱傳導性的一熱傳導性。一鋁層安置至該ULE玻璃之一第一表面上，且該ULE玻璃之一第二表面經拋光成大體上平坦且無缺陷。該菫青石基板可使用陽極接合而直接接合至該鋁層以形成該反射主光罩。或者，一中間微晶玻璃層之一第一表面可接合至該鋁層，且一第二鋁層可用以將該菫青石基板陽極接合至該微晶玻璃層之一第二表面，藉此形成該反射主光罩。
简体摘要：本发明揭示一种反射主光罩，其大体上减少或消除由EUV辐射之吸收引起的图案失真，同时维持符合业界标准之一主光罩厚度。该反射主光罩包括一超低膨胀(ULE)玻璃层及一菫青石基板，该菫青石基板具有大体上大于ULE玻璃之热传导性的一热传导性。一铝层安置至该ULE玻璃之一第一表面上，且该ULE玻璃之一第二表面经抛光成大体上平坦且无缺陷。该菫青石基板可使用阳极接合而直接接合至该铝层以形成该反射主光罩。或者，一中间微晶玻璃层之一第一表面可接合至该铝层，且一第二铝层可用以将该菫青石基板阳极接合至该微晶玻璃层之一第二表面，借此形成该反射主光罩。

4. 发明专利

TW201100947A 具有傅立葉濾波及影像比較的光罩檢測 MASK INSPECTION WITH FOURIER FILTERING AND IMAGE COMPARE 审中-公开
简体标题：具有傅里叶滤波及影像比较的光罩检测 MASK INSPECTION WITH FOURIER FILTERING AND IMAGE COMPARE
公开(公告)号：TW201100947A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099110625
申请日：2010-04-06
申请人： ASML控股公司
发明人：尼爾森邁可L , 賽威爾哈利 , 凱堤艾瑞克布萊恩
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/84
摘要：本發明提供一種具有傅立葉濾波及影像比較之光罩檢測系統,該光罩檢測系統可包括一第一偵測器、一動態傅立葉濾波器、一控制器及一第二偵測器。該第一偵測器可位於該檢測系統之一傅立葉平面處,且可偵測由一光罩之一區域產生的經圖案化光之一第一部分。可藉由該控制器基於該經圖案化光之該經偵測之第一部分控制該動態傅立葉濾波器。該第二偵測器可偵測由該光罩之該區段產生且透射通過該動態傅立葉濾波器的該經圖案化光之一第二部分。另外,該光罩檢測系統可包括一資料分析器件以比較經圖案化光之該第二部分與另一經圖案化光。因而,該光罩檢測系統能夠更準確地且以更高解析度偵測該光罩之該區域上之任何可能缺陷。
简体摘要：本发明提供一种具有傅里叶滤波及影像比较之光罩检测系统,该光罩检测系统可包括一第一侦测器、一动态傅里叶滤波器、一控制器及一第二侦测器。该第一侦测器可位于该检测系统之一傅里叶平面处,且可侦测由一光罩之一区域产生的经图案化光之一第一部分。可借由该控制器基于该经图案化光之该经侦测之第一部分控制该动态傅里叶滤波器。该第二侦测器可侦测由该光罩之该区段产生且透射通过该动态傅里叶滤波器的该经图案化光之一第二部分。另外,该光罩检测系统可包括一数据分析器件以比较经图案化光之该第二部分与另一经图案化光。因而,该光罩检测系统能够更准确地且以更高分辨率侦测该光罩之该区域上之任何可能缺陷。

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