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1. 发明专利

TWI414524B １-取代-２-吡啶酮-３-羧酸衍生物之製造方法失效
简体标题：１-取代-２-吡啶酮-３-羧酸衍生物之制造方法
公开(公告)号：TWI414524B
公开(公告)日：2013-11-11
申请号：TW096150437
申请日：2007-12-27
申请人：鹽野義製藥股份有限公司 , SHIONOGI & CO., LTD.
发明人：海野知宏 , UNNO, TOMOHIRO , 森田順一 , MORITA, JUNICHI , 篠本敞次 , SHINOMOTO, SHOJI , 菅田良英 , SUGATA,YOSHIHIDE , 井出豐 , IDE, YUTAKA
IPC分类号： C07D417/12 , C07D213/64 , C07D221/02 , C07D405/12
CPC分类号： C07D213/803 , C07D213/80 , C07D213/82 , C07D221/16 , C07D227/087 , C07D405/12 , C07D409/12 , C07D417/12

2. 发明专利

TWI466872B 喹唑啉衍生物之製造方法失效
简体标题：喹唑啉衍生物之制造方法
公开(公告)号：TWI466872B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW098144448
申请日：2009-12-23
申请人：鹽野義製藥股份有限公司 , SHIONOGI & CO., LTD.
发明人：萩原基之 , HAGIHARA, MOTOYUKI , 篠本敞次 , SHINOMOTO, SHOJI
IPC分类号： C07D239/94
CPC分类号： C07D239/94

3. 发明专利

TW201028387A 喹唑啉衍生物之製造方法 A PROCESS FOR PREPARING QUINAZOLINE DERIVATIVES 失效
简体标题：喹唑啉衍生物之制造方法 A PROCESS FOR PREPARING QUINAZOLINE DERIVATIVES
公开(公告)号：TW201028387A
公开(公告)日：2010-08-01
申请号：TW098144448
申请日：2009-12-23
申请人：鹽野義製藥股份有限公司
发明人：萩原基之 , 篠本敞次
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D239/94
摘要：本發明提供一種使從甲氧羰基化合物經由甲氧基醯胺化合物來製造目的物(III)的二步驟連續地進行反應，而以實質上的一步驟來進行這些反應的製造方法。利用本發明，可以簡便且高收率地製造作為雙重酪胺酸激酶抑製劑的製造中間體有用的化合物(III)。
简体摘要：本发明提供一种使从甲氧羰基化合物经由甲氧基酰胺化合物来制造目的物(III)的二步骤连续地进行反应，而以实质上的一步骤来进行这些反应的制造方法。利用本发明，可以简便且高收率地制造作为双重酪胺酸激酶抑制剂的制造中间体有用的化合物(III)。

4. 发明专利

TW184885B 甲氧亞胺乙醯胺化合物,其中間物,及其製法失效
简体标题：甲氧亚胺乙酰胺化合物,其中间物,及其制法
公开(公告)号：TW184885B
公开(公告)日：1992-06-01
申请号：TW080106021
申请日：1991-08-01
申请人：鹽野義製藥股份有限公司
发明人：甲斐浩幸 , 西田邦好 , 長井正彥 , 高瀨晃 , 篠本敞次
IPC分类号： C07C
摘要：如式〔Ⅰ〕所示之化合物：□ (Ⅰ)式中，X為氫原子，低級烷基，低級烷氧基或鹵素原子；～為E-異構物；Z-異構物或上述之混合物任一種構型，其產生是經由式〔Ⅱ〕化合物與存在甲醇中的甲胺反應而成□ (Ⅱ)式中X及～均定義同上；W為-CN或-COOR；R為低級烷基。化合物〔Ⅰ〕可用於農業剎菌劑。本發明亦揭示製造化合物〔Ⅰ〕所用之中間物。
简体摘要：如式〔Ⅰ〕所示之化合物：□ (Ⅰ)式中，X为氢原子，低级烷基，低级烷氧基或卤素原子；～为E-异构物；Z-异构物或上述之混合物任一种构型，其产生是经由式〔Ⅱ〕化合物与存在甲醇中的甲胺反应而成□ (Ⅱ)式中X及～均定义同上；W为-CN或-COOR；R为低级烷基。化合物〔Ⅰ〕可用于农业刹菌剂。本发明亦揭示制造化合物〔Ⅰ〕所用之中间物。

5. 发明专利

TW169346B 去甲系磺醯胺衍生物之製造方法失效
简体标题：去甲系磺酰胺衍生物之制造方法
公开(公告)号：TW169346B
公开(公告)日：1991-09-21
申请号：TW079108689
申请日：1990-10-16
申请人：鹽野義製藥股份有限公司
发明人：大谷光昭 , 松浦孝治 , 濱田芳德 , 篠本敞次
IPC分类号： C07D , C07C
摘要：本發明乃有關以下列一般化學式（Ⅰ）所示去甲系磺醯胺衍生物之製造方法。□ (Ⅰ)
(上式中，R'示可具備保護基之CH2OH或COOH，R2示凸具備保護基的苯基，Y示氧或可具備取代基的亞甲基)。本發明之製法，其特徵在霍夫曼重排反應條件下，處理由下列一般化學式(Ⅱ)所示去甲系醯胺後，□ (Ⅱ)
(上式中，R示可具備保護基之CH2OH或COOR1，R1示氫或酯殘基，Y示氧或可具備取代基的亞甲基)，
和以下列一般化學式（Ⅲ）所示磺醯鹵化合物反應而達成目的。
R2SO2X （Ⅲ）
(上式中，R2示可具備取代基的苯基，X示鹵素)。
简体摘要：本发明乃有关以下列一般化学式（Ⅰ）所示去甲系磺酰胺衍生物之制造方法。□ (Ⅰ) (上式中，R'示可具备保护基之CH2OH或COOH，R2示凸具备保护基的苯基，Y示氧或可具备取代基的亚甲基)。本发明之制法，其特征在霍夫曼重排反应条件下，处理由下列一般化学式(Ⅱ)所示去甲系酰胺后，□ (Ⅱ) (上式中，R示可具备保护基之CH2OH或COOR1，R1示氢或酯残基，Y示氧或可具备取代基的亚甲基)，和以下列一般化学式（Ⅲ）所示磺酰卤化合物反应而达成目的。 R2SO2X （Ⅲ） (上式中，R2示可具备取代基的苯基，X示卤素)。

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