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1. 发明专利

TWI444656B 共焦點掃描器及使用彼之光學計測裝置有权
简体标题：共焦点扫描仪及使用彼之光学计测设备
公开(公告)号：TWI444656B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW102115264
申请日：2013-04-29
申请人：高岳製作所股份有限公司 , TAKAOKA ELECTRIC MFG. CO., LTD.
发明人：石原満宏 , ISHIHARA, MITSUHIRO
IPC分类号： G02B26/10 , G01B11/24 , G02B21/06
CPC分类号： G01B11/24 , G01B11/0608 , G02B7/1805 , G02B21/0044

2. 发明专利

TW201337215A 焦點位置改變裝置及使用其之共焦光學裝置审中-公开
简体标题：焦点位置改变设备及使用其之共焦光学设备
公开(公告)号：TW201337215A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW101136680
申请日：2012-10-04
申请人：高岳製作所股份有限公司 , TAKAOKA ELECTRIC MFG. CO., LTD.
发明人：石原満宏 , ISHIHARA, MITSUHIRO
IPC分类号： G01B9/04 , G01B11/24
CPC分类号： G02B7/16 , G02B21/0024 , G02B21/248
摘要：依據一實施例，焦點位置改變裝置係設置於具有光源及物鏡之共焦光學裝置的光學路徑上，且係組構而在物鏡之光軸方向中改變物鏡的焦點位置。焦點位置改變裝置至少包含複數個光學路徑改變件及旋轉板。該複數個光學路徑改變件之各者係在折射率及厚度的至少一者中彼此互相不同。在旋轉板上，該複數個光學路徑改變件係沿著旋轉板的旋轉方向而配置，以便跨越物鏡的光軸。而且，抗反射層係在光源之側上形成於旋轉板的表面上之預定區中。
简体摘要：依据一实施例，焦点位置改变设备系设置于具有光源及物镜之共焦光学设备的光学路径上，且系组构而在物镜之光轴方向中改变物镜的焦点位置。焦点位置改变设备至少包含复数个光学路径改变件及旋转板。该复数个光学路径改变件之各者系在折射率及厚度的至少一者中彼此互相不同。在旋转板上，该复数个光学路径改变件系沿着旋转板的旋转方向而配置，以便跨越物镜的光轴。而且，抗反射层系在光源之侧上形成于旋转板的表面上之预定区中。

3. 发明专利

TW201409073A 共焦點掃描器及使用彼之光學計測裝置审中-公开
简体标题：共焦点扫描仪及使用彼之光学计测设备
公开(公告)号：TW201409073A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW102115264
申请日：2013-04-29
申请人：高岳製作所股份有限公司 , TAKAOKA ELECTRIC MFG. CO., LTD.
发明人：石原満宏 , ISHIHARA, MITSUHIRO
IPC分类号： G02B26/10 , G01B11/24 , G02B21/06
CPC分类号： G01B11/24 , G01B11/0608 , G02B7/1805 , G02B21/0044
摘要：在一軸的移動台安裝共焦點開口陣列、及內部具有楔形的空間的移動稜鏡，且在移動台的外部設置具有楔形的頂角的固定稜鏡。藉由移動台的移動來實現開口的XY掃描的同時，藉由移動稜鏡及固定稜鏡的一對，等效平行平面基板的厚度會變化，焦點移動(Z掃描)也同時被實現。
简体摘要：在一轴的移动台安装共焦点开口数组、及内部具有楔形的空间的移动棱镜，且在移动台的外部设置具有楔形的顶角的固定棱镜。借由移动台的移动来实现开口的XY扫描的同时，借由移动棱镜及固定棱镜的一对，等效平行平面基板的厚度会变化，焦点移动(Z扫描)也同时被实现。

4. 发明专利

TW201333420A 三維形狀測量裝置审中-公开
简体标题：三维形状测量设备
公开(公告)号：TW201333420A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101136679
申请日：2012-10-04
申请人：高岳製作所股份有限公司 , TAKAOKA ELECTRIC MFG. CO., LTD.
发明人：石原満宏 , ISHIHARA, MITSUHIRO
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B11/24 , G02B21/0028 , G02B21/0044 , G02B21/006 , G02B21/008
摘要：根據一實施例，一種三維形狀測量裝置包括至少一光圈板，其設有為二維排列以具有一預定排列週期的複數個共焦光圈、及一光圈板位移部，其在垂直於光軸方向的一預定方向上以一恆定速度移位光圈板。另外，光圈板設有一覆蓋構件，其與光圈板整體移動且包括使光束能從光源通過並照到複數個共焦光圈的一透明主體，並保護複數個共焦光圈免於灰塵。此外，能使每個反射光束導至一光偵測器的一成像光學系統係考慮到包括覆蓋構件之透明主體的整個光學系統之光學特性來設計。
简体摘要：根据一实施例，一种三维形状测量设备包括至少一光圈板，其设有为二维排列以具有一预定排列周期的复数个共焦光圈、及一光圈板位移部，其在垂直于光轴方向的一预定方向上以一恒定速度移位光圈板。另外，光圈板设有一覆盖构件，其与光圈板整体移动且包括使光束能从光源通过并照到复数个共焦光圈的一透明主体，并保护复数个共焦光圈免于灰尘。此外，能使每个反射光束导至一光侦测器的一成像光学系统系考虑到包括覆盖构件之透明主体的整个光学系统之光学特性来设计。

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