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    • 5. 发明专利
    • 電感元件及電子電氣機器
    • 电感组件及电子电气机器
    • TW201903790A
    • 2019-01-16
    • TW107108235
    • 2018-03-12
    • 日商阿爾普士電氣股份有限公司ALPS ELECTRIC CO., LTD.
    • 小島章伸KOJIMA, AKINORI佐藤桂一郎SATO, KEIICHIRO佐藤昭SATO, AKIRA中林亮NAKABAYASHI, RYO
    • H01F17/04H01F27/28H01F41/02
    • 本發明提供一種即便於電感元件小型化之情形時亦能夠適當地確保絕緣耐壓之電感元件。 本發明之電感元件係具有由被絕緣性材料被覆之導電性金屬材捲繞而成之線圈體、自線圈體延伸之一對端子板、及於內部至少埋入有線圈體之磁芯者,且一對端子板之各者中之一端部位於磁芯外,該電感元件進而具備電性連接於一對端子板之各者並且將磁芯之表面之一部分覆蓋的一對塗佈型電極,磁芯含有磁性粉末,磁性粉末之體積基準之累積粒度分佈係10%累積粒徑D10為1.8 μm以上且3.0 μm以下,50%累積粒徑D50為4 μm以上且5 μm以下,且90%累積粒徑D90為7 μm以上且10 μm以下。
    • 本发明提供一种即便于电感组件小型化之情形时亦能够适当地确保绝缘耐压之电感组件。 本发明之电感组件系具有由被绝缘性材料被覆之导电性金属材卷绕而成之线圈体、自线圈体延伸之一对端子板、及于内部至少埋入有线圈体之磁芯者,且一对端子板之各者中之一端部位于磁芯外,该电感组件进而具备电性连接于一对端子板之各者并且将磁芯之表面之一部分覆盖的一对涂布型电极,磁芯含有磁性粉末,磁性粉末之体积基准之累积粒度分布系10%累积粒径D10为1.8 μm以上且3.0 μm以下,50%累积粒径D50为4 μm以上且5 μm以下,且90%累积粒径D90为7 μm以上且10 μm以下。
    • 7. 发明专利
    • 電感元件及其製造方法
    • 电感组件及其制造方法
    • TW201818433A
    • 2018-05-16
    • TW106126860
    • 2017-08-09
    • 阿爾普士電氣股份有限公司ALPS ELECTRIC CO., LTD.
    • 小島章伸KOJIMA, AKINORI今井誠作IMAI, SEISAKU佐藤昭SATO, AKIRA佐藤桂一郎SATO, KEIICHIRO
    • H01F27/32H01F17/04H01F41/06
    • 本發明提供一種即便於電感元件小型化之情形時,亦能夠適當地確保絕緣耐壓及元件功能之電感元件。一種電感元件,其特徵在於:其係於包括包含磁性粉末20P之成形體之磁芯20之內部埋入有線圈10之一部分的電感元件1,線圈10之埋入至磁芯20之內部之部分具備捲繞部10C,該捲繞部10C係由具備線狀之導電材11M及被覆導電材11M之表面之絕緣覆膜(被覆樹脂層12)的線圈用線材(導電性帶體11)捲繞而成,捲繞部10C之絕緣被覆(被覆樹脂層12)中位於可接觸於磁性粉末20P之區域之絕緣覆膜12具有藉由與磁性粉末20P接觸而其厚度薄壁化的薄壁部分12t,且由下述式(I)定義之咬入比率R為0.4以上且0.85以下:R=ds/B (I)B:針對位於捲繞部10C中並列設置之任意之2個導電材11M、11M之間的絕緣覆膜12即線圈間絕緣覆膜12i之厚度於100位點以上進行測定所獲得之測定結果之算術平均值即線圈間絕緣覆膜12i之平均厚度(單位:μm)ds:針對將自線圈間絕緣覆膜12i之平均厚度B減去薄壁部分12t中較線圈間絕緣覆膜12i之平均厚度B薄之部分之厚度所得的值即咬入量d(單位:μm),對一個電感元件1於15位點以上進行測定,將所獲得之測定結果之頻度分佈以常態分佈近似時,該常態分佈之平均da與標準偏差σ之3.99倍之值的和(da+3.99σ)即最大咬入量(單位:μm)。
    • 本发明提供一种即便于电感组件小型化之情形时,亦能够适当地确保绝缘耐压及组件功能之电感组件。一种电感组件,其特征在于:其系于包括包含磁性粉末20P之成形体之磁芯20之内部埋入有线圈10之一部分的电感组件1,线圈10之埋入至磁芯20之内部之部分具备卷绕部10C,该卷绕部10C系由具备线状之导电材11M及被覆导电材11M之表面之绝缘覆膜(被覆树脂层12)的线圈用线材(导电性带体11)卷绕而成,卷绕部10C之绝缘被覆(被覆树脂层12)中位于可接触于磁性粉末20P之区域之绝缘覆膜12具有借由与磁性粉末20P接触而其厚度薄壁化的薄壁部分12t,且由下述式(I)定义之咬入比率R为0.4以上且0.85以下:R=ds/B (I)B:针对位于卷绕部10C中并列设置之任意之2个导电材11M、11M之间的绝缘覆膜12即线圈间绝缘覆膜12i之厚度于100位点以上进行测定所获得之测定结果之算术平均值即线圈间绝缘覆膜12i之平均厚度(单位:μm)ds:针对将自线圈间绝缘覆膜12i之平均厚度B减去薄壁部分12t中较线圈间绝缘覆膜12i之平均厚度B薄之部分之厚度所得的值即咬入量d(单位:μm),对一个电感组件1于15位点以上进行测定,将所获得之测定结果之频度分布以正态分布近似时,该正态分布之平均da与标准偏差σ之3.99倍之值的和(da+3.99σ)即最大咬入量(单位:μm)。